王貴吉,丁曉圓,尹延如,賈志泰,陶緒堂
(山東大學(xué) 晶體材料國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,山東 濟(jì)南 250100)
3~5 μm是中紅外大氣透明窗口中透過率最高的波段,并包含了眾多的分子及原子吸收峰,因此該波段的激光源在地形測量、空氣污染監(jiān)測、激光醫(yī)療以及紅外遙感等方面有著廣闊的發(fā)展前景和重要的商用價(jià)值,在過去的幾十年里成為國內(nèi)外研究的熱點(diǎn)[1-3]。Dy3+離子因其具有豐富的光譜特性,可以產(chǎn)生3.0 μm和4.3 μm波段中紅外激光躍遷,引起研究者們極大的興趣[4]。目前,所采用的基質(zhì)材料主要是硫系[2]、氟化物[3]和鹵化物[5]等低聲子能量的晶體、玻璃或陶瓷等。但是,上述材料存在易潮解、脆弱、抗光損傷閾值低、制備過程易產(chǎn)生有毒氣體等問題,而且晶體生長時(shí)排雜困難、摻雜濃度低且不均勻,熱導(dǎo)率低。因此,基于Dy3+離子摻雜中紅外固體激光的研究進(jìn)展較為緩慢。
最近幾年,以Lu2O3為代表的高熔點(diǎn)稀土倍半氧化物晶體,因其具有低聲子能量、高熱導(dǎo)率、高抗光損傷閾值、高量子效率等特性[6],獲得了越來越多的關(guān)注。Lu3+(0.086 nm,配位數(shù)6)和Dy3+(0.091 nm,配位數(shù)6)離子半徑相似[6],鏑離子能在晶體中均勻分布,摻雜后晶格畸變較小。因此本文選取高熔點(diǎn)的Lu2O3作為基質(zhì)材料,探索Dy3+∶Lu2O3激光晶體在中紅外激光的應(yīng)用潛力。
Lu2O3的高熔點(diǎn)(2 450℃)使得大尺寸、高質(zhì)量單晶制備極為困難。目前獲得大尺寸、高質(zhì)量Lu2O3晶體的方法主要有:熱交換法[6](Heat ex?change method,HEM)、布里奇曼法[7](Bridgman)等。2020年,本課題組首次采用導(dǎo)模法[8](Edgedefined film-fed growth technique,EFG)生長出直徑25 mm、長度30 mm的高質(zhì)量Er3+∶Lu2O3單晶,并實(shí)現(xiàn)了2.85 μm的激光輸出。
本文選取Lu2O3作為基質(zhì)材料,Dy3+作為激活離子,采用導(dǎo)模法生長了無摻雜以及不同Dy3+摻雜濃度的Lu2O3晶體,研究了Dy3+摻雜濃度對晶體質(zhì)量、最大聲子能量、吸收光譜、熒光光譜以及Dy3+離子6H13/2能級熒光壽命的影響,根據(jù)J-O理論討論了Dy3+∶Lu2O3晶體的光譜性能,探索Dy3+∶Lu2O3晶體作為中紅外激光晶體的潛力。
由于氧化镥具有極高的熔點(diǎn),因此選用錸(Re,熔點(diǎn)3 180℃)材質(zhì)的坩堝(Φ60 mm)、模具(Φ25 mm)及籽晶桿,純度99.99%,溫場材料為氧化鋯(熔點(diǎn)2 700℃)。晶體生長的原料為高純(99.99%)的Lu2O3和Dy2O3粉末。首先,將原料按(DyxLu1-x)2O3(x=0.020,0.033)比例精準(zhǔn)稱量,混合并攪拌48 h,其中Dy3+離子數(shù)濃度分別為5.7×1020cm-3和9.4×1020cm-3。然后,采用液壓機(jī)將原料壓成圓柱狀,壓力為200 kN。將<111>方向的長方形無摻雜氧化镥籽晶(4 mm×4 mm×13 mm)固定在籽晶桿上,然后將原料塊放入坩堝中,坩堝內(nèi)放置有模具。在爐腔中充入弱還原性氣體作為保護(hù)氣氛。待原料加熱熔化后,恒溫2~4 h保證完全熔化,此時(shí)熔體將沿模具狹縫上升并鋪滿模具表面;然后把籽晶下降并接觸模具,等待質(zhì)量信號穩(wěn)定后開始提拉,速度為0.5 mm/h。在提拉過程中通過觀察晶體重量隨時(shí)間的變化曲線,調(diào)節(jié)中頻電源的加熱功率和提拉桿的速度。生長完成后,提出晶體,以20~35 °C/h的冷卻速率緩慢冷卻至室溫,最終得到的晶體尺寸為Φ25 mm×25 mm×12 mm。無摻雜及Dy3+摻雜晶體在空氣中1 650℃下退火15 h,晶體由暗黑色分別變?yōu)闊o色和淡黃色,摻雜晶體的顏色隨摻雜濃度的增加而加深。退火前后的晶體如圖1所示。
圖1 導(dǎo)模法生長的Lu2O3晶體。(a)~(b)無摻雜退火前后;(c)~(d)2.0% Dy3+摻雜退火前后;(e)~(f)3.3% Dy3+摻雜退火前后。Fig.1 Lu2O3 crystals grown by EFG method.(a)-(b)As-grown and annealed undoped.(c)-(d)As-grown and annealed 2.0%Dy3+doped.(e)-(f)As-grown and annealed 3.3% Dy3+doped.
采用美國安捷倫Agilent-7800 ICP-MS對摻雜晶體組分進(jìn)行分析,達(dá)到百分級濃度測定。將退火后的晶體進(jìn)行加工,在室溫下測試以下性能:使用荷蘭帕納科公司的Nalytical X'Pert3 Powder X射線衍射儀(40 kV,40 mA,λ(CuKα)=0.154 18 nm)進(jìn)行了物相分析;采用Bruker AXS公司的D5005HR高分辨X射線衍射儀測試晶體的X射線搖擺曲線,以評價(jià)晶體結(jié)晶質(zhì)量;采用Horiba Jobin-Yvon LabRAM HR800光譜儀在200~1 000 cm-1范圍內(nèi)進(jìn)行拉曼散射測量,采用633 nm激光作為激發(fā)源,光譜分辨率為1 cm-1;晶體的紫外-可見-近中紅外波段吸收光譜采用分辨率為0.1 nm的日本Hitachi公司生產(chǎn)的U-3500分光光度計(jì)和Perkin Elmer spectrum 100型傅立葉變換紅外光譜儀進(jìn)行測試;采用英國愛丁堡公司生產(chǎn)的FSP920測量穩(wěn)態(tài)熒光譜和熒光衰減,泵浦源波長為1 258 nm,穩(wěn)態(tài)光譜分辨率約為5 nm,熒光衰減時(shí)間掃描步長為400 ns。
對于特定基質(zhì)材料,摻雜離子不同分凝系數(shù)(K0)也將不同,分凝系數(shù)可以采用公式(1)計(jì)算:
其中CS表示固相中的摻雜濃度,即晶體中Dy3+的濃度;CL表示液相中的摻雜濃度,即原料中Dy3+的濃度。晶體中Dy3+離子的濃度采用Agilent 7800 ICP-MS進(jìn)行分析,將0.1 g樣品粉末加入3 mL HCl、1 mL HNO3以及1 mL HF中,并在195℃下加熱消解,之后定容,混合均勻后,與空白樣品對比。測得晶體的肩部上端Dy3+摻雜濃度即CS為2.76%,原料的摻雜濃度即CL為3.3%,利用公式(1)得到Dy3+在導(dǎo)模法生長的氧化镥晶體中的分凝系數(shù)K0為0.84,接近于1,這表明導(dǎo)模法生長的Dy3+∶Lu2O3晶體成分較為均一。
為了確定單晶的物相,對退火后的晶體進(jìn)行研磨,并對研磨所得到的粉末進(jìn)行XRD測試,結(jié)果如圖2所示。與標(biāo)準(zhǔn)卡片對比可以看出,三者與標(biāo)準(zhǔn)PDF卡片峰吻合良好且無雜峰,表明所獲得的晶體為純相Lu2O3晶體,Dy3+摻雜并未對基質(zhì)的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生影響。
圖2 Dy3+摻雜Lu2O3和Lu2O3晶體粉末XRD與標(biāo)準(zhǔn)圖譜Fig.2 The XRD and standard patterns of Dy3+doped Lu2O3 and Lu2O3 crystals powder
搖擺曲線的半峰寬是表征晶體質(zhì)量非常重要的參數(shù),半峰寬的寬度可以證明晶格的完整性。將晶體定向、切割、拋光成5 mm×5 mm×1 mm的樣品,對(111)晶面進(jìn)行高分辨X射線搖擺曲線測試,結(jié)果如圖3所示。無摻雜晶體以及Dy3+濃度為2.0%、3.3% Lu2O3晶體的搖擺曲線半峰寬(FWHM)分別為98.4"、170.4"、193.9",隨摻雜濃度的增加有小幅度增加。搖擺曲線強(qiáng)度高,半寬較窄,對稱性好。測試結(jié)果表明,該晶體的完整性較高,晶體質(zhì)量較好。
圖3 Lu2O3晶體X射線搖擺曲線。(a)無摻雜;(b)2.0% Dy3+;(c)3.3% Dy3+。Fig.3 X-ray rocking curves of Lu2O3.(a)Undoped.(b)2.0% Dy3+.(c)3.3% Dy3+.
最大聲子能量較低的材料更有利于實(shí)現(xiàn)中紅外波段激光的輸出。相較于硫系、氟化物和鹵化物,氧化物最大聲子能量較高,導(dǎo)致其無輻射躍遷概率增加,容易發(fā)生熒光猝滅現(xiàn)象,因此不利于實(shí)現(xiàn)中紅外激光輸出。我們對比了無摻雜以及不同Dy3+摻雜濃度晶體的拉曼光譜,研究Dy3+離子的摻雜對Lu2O3晶體最大聲子能量的影響,結(jié)果如圖4所示。
圖4 無摻雜及Dy3+摻雜Lu2O3晶體的拉曼光譜Fig.4 Raman Spectra of undoped and Dy3+doped Lu2O3 crystals
將退火后的晶體切割、拋光得到4 mm×4 mm×1 mm的樣品進(jìn)行拉曼測試。Lu2O3屬于體心立方晶格結(jié)構(gòu),屬于點(diǎn)群Ia3(Th7),一個(gè)晶胞含兩個(gè)原胞,有8個(gè)基元。在`測試范圍內(nèi),氧化镥晶體明顯的拉曼峰有4個(gè),分別為346.3(Eg),390.7(Tg+Ag),495.1(Tg),609.0(Tg)cm-1左右,對應(yīng)于立方Lu2O3中Lu—O鍵的伸縮振動[9]。晶體最高振動頻率在390.7 cm-1處,該拉曼峰對應(yīng)立方Lu2O3結(jié)構(gòu)的振動特性,最大聲子能量為609.0 cm-1。而Dy3+濃度為2.0%、3.3%晶體的最大聲子能量分別為611.4、612.6 cm-1,相較于無摻雜晶體均有所提高,且濃度越高,最大聲子能量越大。通過對比可以發(fā)現(xiàn),晶體中Dy3+離子的引入并未對晶體的拉曼峰強(qiáng)及最大聲子能量產(chǎn)生明顯的影響。并且,在眾多氧化物激光材料中,Dy3+摻雜后Lu2O3晶體的最大聲子能量還是相當(dāng)?shù)偷?,如?所示。這有利于Dy3+∶Lu2O3晶體在3μm波段實(shí)現(xiàn)激光輸出。
表1 氧化物晶體最大聲子能量Tab.1 Maximum phonon energy of oxide crystals
將無摻雜以及不同Dy3+摻雜濃度的Lu2O3晶體加工成尺寸為4 mm×4 mm×1 mm的晶片,對晶片的上下表面進(jìn)行拋光處理,測試其260~3 000 nm波段的吸收光譜,結(jié)果如圖5(a)所示。
圖5 (a)無摻雜及Dy3+摻雜Lu2O3晶體吸收光譜;(b)Dy3+∶Lu2O3能級圖。Fig.5(a)Absorption spectra of undoped and Dy3+∶Lu2O3 crystals.(b)The simplified energy level diagram of Dy3+∶Lu2O3 crystal.
無摻雜氧化镥晶體在260~3 000 nm波段沒有明顯吸收峰。而Dy3+∶Lu2O3晶體具有Dy3+的特征吸收峰,主要集中在350,742,798,884,1 063,1 258,1 681,2 774 nm處,分別對應(yīng)從基 態(tài)6H15/2到激發(fā)態(tài)6P7/2+4I11/2、6F3/2、6F5/2、6F7/2、6F9/2+6H7/2、6F11/2+6H9/2、6H11/2和6H13/2的躍遷,與文獻(xiàn)報(bào)道的結(jié)果基本一致[13]。從圖中可以看出,隨著Dy3+濃度的增加,晶體吸收強(qiáng)度增強(qiáng),這也符合Beer-Lamber定律[14]。樣品在1 258 nm處的吸收峰強(qiáng)度最高,利用公式(2)計(jì)算吸收截面:
得到Dy3+濃度為2.0%、3.3%晶體的吸收截面分別 為7.40×10-20cm2和5.98×10-20cm2。其 中λ為波長,單位nm;L是晶體的厚度,單位cm;D為光密度;Nc是Dy3+的離子數(shù)濃度。并且,根據(jù)吸收光譜得到室溫下Dy3+∶Lu2O3晶體中Dy3+離子的躍遷能級圖,如圖5(b)所示。與文獻(xiàn)[15]相比,在室溫下沒有測到6H5/2的吸收峰。
將Dy3+摻雜的Lu2O3加工成尺寸為4 mm×4 mm×1 mm的晶片進(jìn)行熒光光譜測試。在1 258 nm激光泵浦下Dy3+從基態(tài)6H15/2躍遷到6F11/2+6H9/2能級,再通過無輻射躍遷等過程退激活到6H13/2能級,最后發(fā)生輻射發(fā)射的光子躍遷回到基態(tài)6H15/2,躍遷中心在3 μm附近。
從圖6可以看出,Dy3+濃度為2.0%、3.3%Lu2O3晶體的熒光光譜為雙峰光譜,峰位分別在2.7 μm及3.0 μm附近,晶體在3 020 nm左右的發(fā)射截面分別為3.38×10-21cm2和4.42×10-21cm2,與報(bào)道的Dy3+:YAlO3結(jié)果[16]相當(dāng),表明Dy3+∶Lu2O3晶體在1 258 nm泵浦下具有實(shí)現(xiàn)中紅外激光輸出的潛力。其有效的發(fā)射截面由公式(3)計(jì)算[17]:
圖6 1 258 nm激發(fā)下Dy3+∶Lu2O3的熒光光譜Fig.6 Fluorescence spectra of Dy3+∶Lu2O3 under 1 258 nm excitation
其中,σem為發(fā)射截面;λ是波長,單位nm;A=β/τ是自發(fā)躍遷幾率,其中β為分支比率,β=1,τ為熒光壽命;I(λ)是實(shí)驗(yàn)熒光光譜中λ處單位波長的強(qiáng)度;c是真空光速,單位cm/s;n是折射率。
Dy3+的3 μm激光輸出的躍遷過程為6H13/2→6H15/2,其下能級為基態(tài)能級,所以上能級壽命決定著3 μm激光的輸出。我們測試了兩個(gè)摻雜晶體的上能級壽命,結(jié)果如圖7所示。
圖7 Dy3+∶Lu2O3摻雜晶體中Dy3+離子的熒光衰減曲線。(a)Dy3+:2.0%;(b)Dy3+:3.3%.Fig.7 Luminescence decay curves of Dy3+in Dy3+∶Lu2O3.(b)Dy3+:2.0%.(b)Dy3+:3.3%.
考慮到6F11/2+6H9/2→6H13/2及6H11/2→6H13/2過 程對6H13/2能級上粒子數(shù)的影響,根據(jù)參考文獻(xiàn)[18],擬合得到Dy3+濃度為2.0%、3.3%的能級壽命分別為17.9 μs和16.3 μs。
J-O理論主要用于表征三價(jià)稀土離子的光學(xué)躍遷。根據(jù)J-O理 論[19],計(jì)算得到Dy3+∶Lu2O3晶體的J-O強(qiáng)度參 數(shù)Ωt(t=2,4,6),表2列 出 了Dy3+∶Lu2O3晶體與其他摻雜Dy3+的晶體的J-O參數(shù),從表中可以看出,Dy3+∶Lu2O3晶體具有較大的Ω2和Ω6參數(shù)。Ω2與鑭系離子周圍的晶體場和基質(zhì)環(huán)境的不對稱性有關(guān)[13]。影響輻射壽命的主要是Ω6參數(shù),Ω6參數(shù)大的晶體具有較短的輻射壽命,由于Dy3+∶Lu2O3晶體具有較大的Ω6參數(shù),因而其輻射壽命較短。而Ω4/Ω6是估計(jì)受激發(fā)射效率的重要特征參數(shù),較大的Ω4/Ω6值意味著較高的激光效率。這表明Dy3+∶Lu2O3晶體在3μm波段有較大的應(yīng)用前景。
表2 Dy3+摻雜幾種發(fā)光晶體中的Ω2、Ω4、Ω6的值Tab.2 Comparison of Ω2,Ω4,Ω6 of Dy3+in Lu2O3 and in some Dy3+dope crystals
接下來,由Ωt計(jì)算了Dy3+∶Lu2O3晶體6H13/2→6H15/2躍遷過程的自發(fā)輻射躍遷幾率A=38.9 s-1,輻射壽命τrad=25.7 ms,熒光分支比β=100%。求得6H13/2能級的輻射壽命與實(shí)驗(yàn)值差別較大,這可能 與6H13/2→6H15/2無輻射躍遷有關(guān)[15]。根據(jù)公式ηEQ=τem/τrad及輻射壽命與測試的熒光壽命,計(jì)算得到其量子效率約為0.1%。
本文采用導(dǎo)模法制備了無摻雜及Dy3+摻雜濃度為2.0%、3.3%的Lu2O3晶體,并對其晶體質(zhì)量、最大聲子能量、吸收光譜及發(fā)光性能進(jìn)行了測試和表征。結(jié)果表明,導(dǎo)模法生長的氧化镥晶體中Dy3+的分凝系數(shù)為0.84,表明晶體成分均一;無摻雜及Dy3+濃度為2.0%、3.3%晶體的搖擺曲線半峰寬分別為98.4"、170.4"和193.9",曲線半峰寬較窄且對稱性好,表明該晶體的完整性較高,晶體質(zhì)量較好;在拉曼光譜中,無摻雜晶體的最大聲子能量為609.0 cm-1,摻雜晶體的最大聲子能量隨Dy3+濃度的升高而略微增加,從611.4 cm-1增加到612.6 cm-1;吸收光譜結(jié)果表明,無摻雜晶體在260~3 000 nm波段沒有明顯吸收,摻雜晶體具有350,742,798,884,1 063,1 258,1 681,2 774 nm Dy3+的特征吸收峰,并且隨著Dy3+濃度的增加,吸收光譜峰強(qiáng)度增強(qiáng);采用1 258 nm激光作為泵浦源,得到Dy3+∶Lu2O3晶體在2.2~3.7 μm波段的熒光光譜及鏑離子6H13/2能級的熒光壽命,其中熒光發(fā)射光譜為雙峰光譜,發(fā)射峰均在2.7 μm及3.0 μm附 近,最大發(fā)射截面均在3μm處,分別為3.38×10-21cm2和4.42×10-21cm2。Dy3+摻雜濃度為2.0%、3.3% Lu2O3晶體中Dy3+離子6H13/2能級的熒光壽命分別為17.9 μs和16.3 μs。并采用J-O理論計(jì)算了Dy3+∶Lu2O3晶體的J-O強(qiáng)度參數(shù)Ω2、Ω4、Ω6分別為4.93×10-20,2.20×10-20,1.97×10-20cm2,Dy3+∶Lu2O3晶體6H13/2→6H15/2躍遷過程的自發(fā)輻射躍遷幾率A=38.9 s-1,輻射壽命τrad=25.7 ms,熒光分支比β=100%,量子效率約為0.1%。以上結(jié)果表明,Dy3+摻雜的氧化镥晶體具有實(shí)現(xiàn)3 μm激光輸出的潛力。
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