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      氣隙氣壓對絕緣劣化影響研究

      2017-09-30 02:58:19江蘇徐礦綜合利用發(fā)電有限公司徐文梅
      電子世界 2017年18期
      關(guān)鍵詞:劣化氣隙氣壓

      江蘇徐礦綜合利用發(fā)電有限公司 徐文梅

      氣隙氣壓對絕緣劣化影響研究

      江蘇徐礦綜合利用發(fā)電有限公司 徐文梅

      為了提高變壓器絕緣狀態(tài)評估準確性,研究局放內(nèi)部影響因子對局放發(fā)展進程的作用。根據(jù)氣隙放電電路搭建仿真模型,得到不同氣隙氣壓下周期性放電波形,波形通過仿真分析結(jié)果表明:氣隙氣壓隨著老化進程加深逐漸減小,為進一步研究絕緣老化狀態(tài)提供工程指導(dǎo)。

      氣隙氣壓;仿真模型;絕緣評估

      0 引言

      長期的工作電壓作用下,電氣設(shè)備絕緣介質(zhì)內(nèi)發(fā)生局部放電,進一步產(chǎn)生復(fù)雜的物理及化學效應(yīng),絕緣內(nèi)氣隙氣壓、相對介電常數(shù)會發(fā)生變化,任一參數(shù)的改變都有可能加深局部放電放電程度,成為絕緣劣化的導(dǎo)火線。通過仿真可以實現(xiàn)改變氣隙氣壓的改變,進而研究其對絕緣劣化的影響。

      1 仿真參數(shù)設(shè)定

      1.1 氣隙模型

      理想的氣隙模型只考慮放電過程電感的影響,文獻[1]采用沿面絕緣電阻半導(dǎo)化過程描述放電過程對氣隙壁的影響,在此基礎(chǔ)上,考慮放電過程電阻的影響重新構(gòu)建了氣隙等效模型,如圖1 所示。

      圖1 氣隙等效模型

      其中,Ca=0.736pF、Cb1=Cb2=0.74pF、Cg=0.05659pF、Ra=2.24×1015Ω、Rg=6×1010Ω、Rb1=Rb2=2.174×1014Ω、Lg=9.07×10-5H、Rg’=4×105Ω。

      1.2 外電路設(shè)置

      仿真回路外加AC交流電壓源電壓50kV,頻率50Hz;保護電阻R=5kΩ;濾波器電感L=50mH;耦合電容Ck=5×10-9F;檢測阻抗Zm包含一個50Ω的電阻和一個2×10-11Ω電容;電容器極板延伸等效電阻Rk=108Ω;K增益為5×106。

      1.3 起始放電及熄滅電壓設(shè)置

      理想設(shè)定氣隙內(nèi)為單一空氣氣體,不摻雜其他氣體,忽略氣隙壁電荷的影響,環(huán)氧樹脂絕緣試品中氣隙的擊穿場強Ei和熄滅場強Ee之間的關(guān)系如下:

      2 仿真結(jié)果分析

      根據(jù)公式(1)和公式(2),氣隙氣壓會影響到起始放電電壓和放電熄滅電壓,所以通過SIMULINK仿真模型調(diào)整起始放電電壓和放電熄滅電壓幅值,可以實現(xiàn)探討絕緣劣化過程中氣隙氣壓對局部放電的影響。圖3的(a)、(b)分別為0.8×105Pa和1.2×105Pa時的周期性放電波形。

      圖2 不同氣隙氣壓周期性放電波形

      由圖2直觀對比分析:氣壓的高低,對起始放電及熄滅電壓都有很大的影響。大氣壓力降低,起始放電電壓和放電熄滅電壓都會降低,因此局部放電問題就顯得更嚴重。大氣壓力上升時,起始放電電壓和放電熄滅電壓會升高,局部放電次數(shù)明顯降低。說明隨著老化的進行,氣隙內(nèi)氣壓在降低。若想對上述現(xiàn)象做深層次的探討,就得結(jié)合高電壓技術(shù)課程中的氣體放電的機理,從微觀面著手。

      氣隙氣壓升高時,迫于壓力,電子的平均自由行程會縮短,電子與氣體分子發(fā)生碰撞的概率會增大。碰撞的過程會加劇能量的損失,因此電子崩的形成收到阻礙,其發(fā)展為流注放電的概率也大大降低。表現(xiàn)在單周期放電的波形上,就是氣隙放電的次數(shù)會降低。反之,氣隙內(nèi)氣壓降低時,形成電子崩最終發(fā)展成為流注放電的概率會增大,氣隙放電的次數(shù)必然會增多。長期的絕緣老化可能導(dǎo)致氣隙內(nèi)氣體含量的變化,進而影響到氣隙內(nèi)的氣壓。本文直觀驗證推測,劣化程度越嚴重,氣隙內(nèi)的氣壓會越低。

      3 結(jié)論

      從局部放電影響絕緣介質(zhì)內(nèi)部氣隙氣壓這一實際情況反向思維考慮,根據(jù)氣隙放電電路搭建仿真模型,改變與氣隙氣壓相關(guān)聯(lián)原始參數(shù)得到不同氣隙氣壓下周期性放電波形,波形直觀顯示出氣隙氣壓升高可以有效降低局部放電程度,從而表現(xiàn)出絕緣劣化程度較輕。這將為進一步開展絕緣老化評估提供了重要的理論支持。

      [1]任成燕,成永紅,陳小林等.基于SIMULINK的氣隙局部放電仿真技術(shù)研究[J].西安交通大學學報.2004,38(8):824-827.

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