溫度變化下研磨金屬表面反射率和發(fā)射率的測量

龍 超， 陳軍燕， 楊雨川* ， 杜少軍， 趙 寧

(1. 國防科學技術大學 光電科學與工程學院， 湖南 長沙 410073； 2. 西北核技術研究所， 陜西 西安 710024)

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溫度變化下研磨金屬表面反射率和發(fā)射率的測量

龍 超1,2， 陳軍燕2， 楊雨川2*， 杜少軍1， 趙 寧2

(1. 國防科學技術大學 光電科學與工程學院， 湖南 長沙 410073； 2. 西北核技術研究所， 陜西 西安 710024)

介紹了測量材料表面雙向反射分布函數(shù)和發(fā)射率的原理和方法，搭建了532 nm和1 064 nm波長雙向反射分布函數(shù)和表面發(fā)射率測量平臺，對經(jīng)金剛砂(320目)研磨后金屬靶板表面的反射率和發(fā)射率及中等溫升情況下的變化特性進行了實驗測量。測量結果表明，粗糙金屬靶板表面近似為朗伯輻射體，反射率低于0.25。 在常溫至320 ℃范圍內，靶板表面反射分布、反射率和發(fā)射率的變化幅度較小。

雙向反射分布函數(shù)； 發(fā)射率； 金屬靶板； 溫度變化

1 引 言

非接觸式測量方法是一種常用的測量遠場激光光斑的方法，即在一定距離處用靶板接收遠場激光照射，利用成像光電探測器接收激光光斑的反射光信號，測量得到靶板處激光光斑的相對光強分布。光電探測器各探測單元信號幅度經(jīng)過功率標定后，可實現(xiàn)功率密度測量[1-2]。要準確計算靶板表面功率密度分布，需要知道接收靶板準確的反射與發(fā)射特性數(shù)據(jù)，而材料的反射與發(fā)射特性與其表面特性息息相關。在非合作使用條件下，激光接收靶板在環(huán)境的磨損及氧化作用下，表面的發(fā)射與反射特性將發(fā)生改變；且在中等強度激光長時間輻照接收靶板時，能量耦合將導致接收漫反射屏溫度上升，從而影響其反射和發(fā)射特性，增加功率密度測量誤差[3-5]。

本文采用金屬材料作為接收靶板，對靶板表面充分研磨發(fā)黑以模擬實際情況中非合作靶板的表面狀態(tài)。建立了雙向反射分布函數(shù)測量平臺，照射激光波長為532 nm和1 064 nm。為分析溫升對金屬靶板的影響，搭建了智能溫控系統(tǒng)加熱金屬靶板，測量獲得靶板的反射特性及其隨溫度的變化，配合紅外熱像儀測量材料表面的發(fā)射率及其隨溫度的變化。實驗獲取了溫度-雙向反射分布函數(shù)和溫度-發(fā)射率變化曲線，為測量中等強度激光輻照下非合作金屬靶板表面的功率密度分布奠定了基礎。

2 雙向反射分布函數(shù)和發(fā)射率

雙向反射分布函數(shù)(BRDF)由Nicodemus 提出并于1977年以美國國家標準局的名義推薦使用。雙向反射分布函數(shù)的測量就是測量目標表面材料在不同方向入射光條件下,不同反射方向上信號的強度特性。

目標表面材料對入射光的散射能力同其種類、表面的粗糙度以及目標的幾何結構有關。在大多數(shù)表面對光的反射中,總是鏡面反射和漫反射同時存在；在某些情況下,還會出現(xiàn)畸變。雙向反射分布函數(shù)描述入射光和反射光的空間幾何關系如圖1所示。圖中，θi為入射高角；θr為反射高角；φi為入射方位角；φr為反射方位角。

圖1 雙向反射分布函數(shù)的幾何示意圖

Fig.1 Geometrical relationship of BRDF

雙向反射分布函數(shù)的定義為:

(1)

式中：fr稱為雙向反射分布函數(shù)，它是在(θi,φi)方向上立體角dωr內反射光輻射亮度dLr與(θr,φr)方向上立體角dωi內入射光輻射度dEi之比，單位為sr-1。式中dLr和dEi都是無窮小量，要求探測器具有無窮小的視場角。因此，不能直接測量dLr和dEi，但可以在一定近似情況下測量其平均值來代替[6]。

紅外光譜發(fā)射率是表征物體表面熱輻射能力的熱物性參數(shù)，發(fā)射率測量精度直接影響目標紅外輻射特性計算的精度。在進行非接觸輻射測溫時，被測物體表面溫度受發(fā)射率影響很大，一般需要配備輔助發(fā)射率測量裝置對測溫結果進行修正。因此，獲取溫升情況下漫反射屏的發(fā)射率非常必要[7-8]。

3 測量方法

實際測量中，由于照度的測量相對困難，通常是分別測量目標和漫反射板的反射亮度的比值BRF得到目標的雙向反射分布函數(shù)[9]。BRF表示為:

(2)

雙向反射分布函數(shù)與BRF的關系為:

目標和漫反射板的反射亮度測量系統(tǒng)主要由自動多角度測量架、激光器和CCD相機組成。根據(jù)BRF的定義，測量該比值需要調節(jié)公式(2)中的4個角度。因此必須建立空間位置調節(jié)機構，研究位置調節(jié)方法?；谝陨弦?，我們建立了適合于測量的樣品轉臺系統(tǒng)，該測量系統(tǒng)的示意圖和實物圖如圖2所示。如果測量表面各向同性樣品，則只需調整高角，無需調整方位角。光強接收裝置采用了CCD相機，樣品與標準漫反射板對應反射光斑的灰度比值即為BRF，通過設置圖像動態(tài)曝光滿足了測量范圍要求。

Fig.2 Measuring platform of schematic plan(a) and entity(b)

樣品表面的紅外光譜發(fā)射率采用紅外熱像儀用溫度比較法測量。紅外熱像儀的測量光譜范圍為8～12 μm，測溫范圍為-30～650 ℃，測溫精度為±2%。測量時，將紅外熱像儀發(fā)射率設置為1，此時觀察點測量溫度為T1，同時采用探溫電耦測量觀察點的溫度T2，比值T2/T1即為樣品表面觀察點在紅外波段8～12 μm的發(fā)射率。

4 實驗測量及結果

實驗對某一金屬靶板進行了測量，靶板表面經(jīng)過金剛砂(320目)充分研磨以近似模擬實際應用中非合作靶板的表面狀態(tài)，研磨后金屬表面發(fā)黑嚴重。測量波段為532 nm和1 064 nm。采用智能溫控儀對金屬靶板加熱，最高測試溫度為320 ℃。CCD相機和紅外熱像儀均放置在樣品的法線方向上，因而在0°入射角位置存在測量盲區(qū)，實驗裝置示意圖如圖3所示。

測試溫度從常溫到320 ℃，532 nm激光雙向反射分布函數(shù)測量結果如圖4所示。由測試結果可知，發(fā)黑金屬表面反射率偏低，當入射光方向與探測光方向夾角減小時，反射率略微增加，接近漫反射特性(朗伯面的反射率不隨入射角度變化)。溫度升高后，從實驗數(shù)據(jù)判別靶板表面雙向反射分布函數(shù)變化存在較大難度，因此采用經(jīng)驗公式進行最小二乘擬合得到分布曲線，公式為:

(4)

式中：a反映了反射率，k可以模擬反射系數(shù)隨角度緩慢變化的情況。擬合結果如圖5所示，最大擬合誤差小于0.2%。由圖可知，靶板溫度升高到320 ℃時，雙向反射分布函數(shù)變化幅度較小(最大變化率<20%)。對于小角度入射時的同一測量點，反射率在275 ℃位置略上升后降低。

圖4 金屬靶板在532 nm波段的雙向反射分布函數(shù)。(a)BDRF-角度；(b) BDRF-溫度。

Fig.4 532 nm BRDF of the diffuse plate. (a)BDRFvs. incident angle. (b) BDRFvs. temperature.

1 064 nm激光的雙向反射分布函數(shù)測量結果如圖6所示。由圖可知，金屬靶板在1 064 nm波段的反射率大于532 nm，反射系數(shù)隨角度緩慢變化的情況與532 nm基本一致，表明金屬靶板在近紅外波段的反射率大于可見光波段，雙向反射分布函數(shù)中反射系數(shù)隨角度變化的特性基本一致。在靶板溫度從250 ℃升高到320 ℃的過程中，反射系數(shù)最大變化率約為25%。

工程上用熱像儀測量物體表面發(fā)射率時，一般假設表面為朗伯體，實驗用研磨金屬靶板經(jīng)測試，表面呈近似漫反射特性，滿足假設要求。表面近似漫反射減小了空間輻射的差異性，相比鏡面反射不同實驗布局得到的測量結果相差較小。同時，實驗室條件下最大程度避免了環(huán)境輻射影響，從而減小了測量方法的誤差。發(fā)射率測量結果如圖7所示。在8～12 μm波段內，發(fā)黑金屬表面具有較大發(fā)射率；且在靶板溫度升高到320 ℃的過程中，發(fā)射率變化幅度較小，與反射率變化趨勢的測量結果一致。

圖5 金屬靶板在532 nm波段的雙向反射分布函數(shù)擬合曲線。(a)BDRF-角度； (b) BDRF-溫度。

Fig.5 532 nm BRDF fitting curve of the diffuse plate. (a)BDRFvs. incident angle. (b) BDRFvs. temperature.

中等強度激光長時間輻照金屬靶，能量耦合沉積在金屬靶中會導致目標溫度上升，在氧化環(huán)境中將發(fā)生非常復雜的物理化學現(xiàn)象。金屬表面與氧化性氣體發(fā)生化學反應生成氧化膜，同時金屬靶的表面狀況(粗糙度、吸附物質以及生成的氧化膜等)、趨膚深度內的組織形態(tài)等因素相互耦合從而影響金屬靶表面的反射率、反射分布特性以及發(fā)射率[10-11]。金屬靶作為非接觸測量中較常遇到的一類接收材料，反射和發(fā)射特性發(fā)生改變將直接影響激光參數(shù)的測量精度。以上實驗結果表明，在測試溫度320 ℃范圍內(模擬中等強度激光對金屬靶的加熱效果)，經(jīng)研磨的金屬靶表面呈現(xiàn)近似漫反射特性，反射率和發(fā)射率隨溫度變化幅度較小。

5 結 論

金屬靶板和成像設備組成的激光到靶非接觸式測量方法通過接收屏幕上的漫反射光來測量靶板處的激光功率密度，但隨著激光功率越來越大，金屬靶板經(jīng)過長時間輻照溫度上升，溫度上升導致材料導電率變化并產(chǎn)生表面氧化物，從而影響該方法的測量結果。本文通過實驗測量了320 ℃范圍內(模擬中等強度激光對金屬靶的加熱效果)研磨金屬靶在532 nm和1 064 nm波段上的反射特性和在8～12 μm波段內的發(fā)射特性。結果表明，在該溫度范圍內金屬靶的反射和發(fā)射特性變化不大，為通過非接觸方式測量中等強度激光輻照下非合作金屬靶板表面功率密度提供了數(shù)據(jù)支撐。

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龍超(1987-)，男，湖南常德人，碩士，工程師，2016年于國防科學技術大學獲得碩士學位,主要從事激光技術應用及多光譜輻射測溫技術的研究。E-mail: drasha@126.com

楊雨川(1983-)，男，四川榮縣人，博士，高級工程師，2011年于國防科學技術大學獲得博士學位，主要從事激光技術及其應用的研究。E-mail: yyc_online@126.com

Temperature Dependence of Reflectance and Irradiation of The Ground Metallic Target

LONG Chao1,2, CHEN Jun-yan2, YANG Yu-chuan2*, DU Shao-jun1, ZHAO Ning2

(1. College of Optoelectronic Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha 410073, China;2.NorthwestInstituteofNuclearTechnology,Xi’an710024,China)*CorrespondingAuthor,E-mail:yyc_online@126.com

The principle and method of surfaced bi-directional reflective distribution function (BRDF) and irradiation were introduced. The measuring platform of surfaced BRDF on 532 nm/1 064 nm and irradiation was built to study the temperature dependence of the reflectance and irradiation of metallic target grided by emery(320 mesh). The results show that the ground metallic target approximates lambert radiator, and the reflectivity is lower than 0.25. The surfaced reflective distribution, reflectivity and irradiation are almost consistence below 320 ℃.

bi-directional reflective distribution function; irradiation; metallic target; temperature change

1000-7032(2016)12-1566-05

2016-05-30；

2016-07-02

原總裝青年基金資助項目

TN249

A

10.3788/fgxb20163712.1566