周云龍,盛忠起*,周靜,張長(zhǎng)鵬
(東北大學(xué)機(jī)械工程與自動(dòng)化學(xué)院,遼寧 沈陽(yáng) 110819)
電火花沉積技術(shù)是一種新型的具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)的材料表面工程技術(shù)。該技術(shù)利用電極材料與金屬工件表面間的脈沖火花放電,將作為電極的導(dǎo)電材料熔滲到金屬表層,形成硬度高、耐磨性以及理化特性好的沉積層[1-2],在模具、刀具和大型機(jī)械零件的局部強(qiáng)化與修補(bǔ)等方面具有廣闊的應(yīng)用前景。與其他表面強(qiáng)化技術(shù)(如電刷鍍[3]、離子注入[4]和激光表面處理[5])相比,電火花沉積技術(shù)污染小,對(duì)基體熱影響小,靈活度高,加工周期短,操作簡(jiǎn)單,工藝設(shè)備及成本較低。
PH17-4是由銅、鈮等元素組成的沉淀硬化不銹鋼,具有強(qiáng)度和硬度高,韌性和耐腐蝕性好等特性[6]。經(jīng)過(guò)熱處理的PH17-4不銹鋼的耐壓強(qiáng)度高達(dá)1 100 ~ 1 300 MPa,被廣泛用于海洋、航空航天、化工、食品加工、造紙、一般金屬制品等領(lǐng)域。
隨著工業(yè)的發(fā)展,原有材料的性能已越來(lái)越不滿足社會(huì)的需要。Ni基合金是一種耐蝕、抗高溫、抗氧化性能優(yōu)良的材料,而WC是工程上最常用的陶瓷材料,能靠彌散強(qiáng)化作用顯著提高材料的硬度,因此選用WC–20Ni作為電極材料,通過(guò)電火花沉積技術(shù)在PH17-4不銹鋼基體上制備WC–20Ni涂層,以進(jìn)一步提高其硬度。本文以沉積層厚度為指標(biāo),優(yōu)化了制備過(guò)程中的最佳沉積參數(shù),考察了所得涂層的組織結(jié)構(gòu)并測(cè)試了其性能,為后續(xù)研究電火花沉積WC–20Ni涂層提供參考。
以 10 mm × 10 mm × 4 mm 的 PH17-4 不銹鋼為基體(陰極),其成分為:C ≤0.07%,Ni 3.00% ~ 5.00%,S ≤0.03%,Si ≤1.00%,P ≤0.04%,Mn ≤1.00%,Cr 15.00% ~ 17.50%,Cu 3.00% ~ 5.00%,Nb 0.15% ~0.45%,F(xiàn)e余量。電極材料(陽(yáng)極)采用直徑3 mm、長(zhǎng)80 mm的圓棒狀WC–20Ni,其成分為:Ni 20.0%,C 4.8% ~ 4.9%,W余量。
先給試樣打上標(biāo)號(hào),再用800#砂紙打磨去除氧化膜,然后用丙酮清洗,干燥3 min后采用改裝過(guò)的HB-06型電火花堆焊修復(fù)機(jī)進(jìn)行表面電火花沉積。選用氬氣作為保護(hù)氣體,以防止沉積層被氧化。經(jīng)過(guò)多次試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),當(dāng)氬氣流速為6 L/min、沉積3 min時(shí),沉積效果比較理想。同時(shí)保持沉積槍與試樣的夾角在45° ~ 60°之間,用機(jī)床夾持沉積槍并施以適當(dāng)?shù)膲毫?,制定合適的行進(jìn)路線,在試樣表面做勻速運(yùn)動(dòng)。
采用JSM-6460LV掃描電鏡(SEM)觀察沉積層的表面形貌。采用X-Max50能譜儀分析沉積層和基體的元素組成及分布情況。在樣件表面隨機(jī)選5個(gè)測(cè)試點(diǎn),用上海華陽(yáng)公司HCC-24磁阻法測(cè)厚儀測(cè)量沉積層厚度,再取平均值。由于儀器的測(cè)量誤差,用測(cè)厚儀測(cè)得的沉積層厚度與掃描電鏡的觀察結(jié)果之間存在偏差。選用MHV-1000Z自動(dòng)轉(zhuǎn)塔顯微硬度計(jì)測(cè)量沉積層截面上的硬度分布,載荷為0.5 N,加載時(shí)間10 s。
2.1.1 輸出電容
在輸出電壓為100 V、輸出頻率為360 Hz的條件下,將輸出電容作為沉積過(guò)程中的唯一變量,考察了其對(duì)沉積層厚度的影響。如圖1所示,輸出電容增加,沉積層的厚度先增后降。由公式W =12(C × U2)可知,放電電能W是由輸出電容C和輸出電壓U共同決定的,當(dāng)輸出電壓為定值時(shí),電火花沉積的放電能量與輸出電容成正比。在沉積層厚度增加階段,放電能量增大會(huì)加快電極材料熔化的速率,從而使涂層增厚。但由于連續(xù)的放電會(huì)對(duì)工件表面產(chǎn)生熱作用,熱量累積之下形成沉積層表面的殘余應(yīng)力。隨著殘余應(yīng)力不斷累加,會(huì)產(chǎn)生微裂紋以致沉積層剝落。另外,當(dāng)輸出電容達(dá)到160 μF和200 μF時(shí),試件表面呈黑色,明顯被空氣氧化了。這是由于在其他參數(shù)不變的情況下,電容增大,單位面積上的能量增大,局部區(qū)域會(huì)出現(xiàn)焦灼,并且過(guò)高的能量會(huì)造成空氣流動(dòng)加速,氬氣的保護(hù)會(huì)受到一定的影響,進(jìn)而使一部分氧氣介入,使材料表面發(fā)生氧化。而在其他輸出電容下制得的試件表面質(zhì)量比較高,無(wú)明顯的氧化現(xiàn)象。綜上所述,加大輸出電容可以增加沉積層的厚度,但需要控制在一定的范圍內(nèi),過(guò)高則可能降低沉積層的厚度和表面質(zhì)量,最佳輸出電容為120 μF。
2.1.2 輸出頻率
當(dāng)輸出電壓為100 V、輸出電容為120 μF時(shí),如圖2所示,隨著輸出頻率升高,沉積層的厚度也緩慢增加。這是因?yàn)檩敵鲱l率指的是電火花在沉積過(guò)程中每秒鐘放電的次數(shù),頻率越高,脈沖放電電能也越大,電極熔化的速率越快,從電極材料向基體轉(zhuǎn)移的量也就相應(yīng)增多,所以沉積層增厚。另外可直接看到,在5種輸出頻率下制備的工件表面均無(wú)明顯氧化痕跡,表面質(zhì)量好。考慮到更高的輸出頻率對(duì)操作的要求更高,最終選擇輸出頻率為660 Hz。
圖1 輸出電容與涂層厚度的關(guān)系Figure 1 Relationship between output capacitance and coating thickness
圖2 輸出頻率與涂層厚度的關(guān)系Figure 2 Relationship between output frequency and coating thickness
2.1.3 輸出電壓
保持輸出頻率為660 Hz、輸出電容為120 μF不變,如圖3所示,提高電源電壓能增厚沉積層。這是由于電源電壓變大,脈沖放電電能隨之增大,從而導(dǎo)致電極材料熔化的速率加快。與此同時(shí),基體從電極上獲得的質(zhì)量相應(yīng)增多。但觀察5種輸出電壓下獲得的沉積層,發(fā)現(xiàn)在150 V輸出電壓下得到的沉積層表面被氧化得十分嚴(yán)重,其余4種輸出電壓下制備的沉積層表面則沒(méi)有明顯的氧化跡象。因此輸出電壓以125 V為宜。
圖3 輸出電壓與涂層厚度的關(guān)系Figure 3 Relationship between output voltage and coating thickness
沉積斑往往隨機(jī)呈現(xiàn)不規(guī)則的濺射狀,其形態(tài)大小不一,表現(xiàn)為針狀、顆粒狀和塊狀的飛濺物。從圖4a可以看出,本文的沉積斑為云朵狀,中間凹陷成坑,且表面粗糙度較大。飛濺產(chǎn)生的原因主要是脈沖產(chǎn)生的放電使電極尖端的材料熔化,形成熔滴后在高速旋轉(zhuǎn)的電極作用下被甩出,然后飛濺到基體材料表面。從圖4b可見(jiàn),經(jīng)過(guò)多點(diǎn)放電,沉積斑連成一片,平整度也得到明顯改善??梢?jiàn)電火花放電過(guò)程是由多個(gè)單脈沖放電過(guò)程累積而成,多點(diǎn)放電的形貌是由多個(gè)連續(xù)的單點(diǎn)放電重復(fù)沉積疊加而成,即電火花多點(diǎn)放電的沉積層實(shí)際上是由多個(gè)單點(diǎn)放電組織疊加而成,因此微弧火花多脈沖點(diǎn)放電可以體現(xiàn)出放電過(guò)程具有的疊加性和相似性。
在沉積層表面存在少量的微小孔洞和微裂紋。因?yàn)榛w和電極材料的熔化、氣化和冷卻凝固都是在瞬間完成的,而且電極溫度極高,從而使周圍的空氣溫度隨之上升,外界氣體向內(nèi)部區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)充,導(dǎo)致強(qiáng)化區(qū)域吸收溶解氣體,所以產(chǎn)生了孔洞。而微裂紋的形成原因主要有兩點(diǎn):第一,當(dāng)環(huán)境溫度驟變(驟冷或驟熱)時(shí),熔化的電極與基體的混合物由于尚未完全凝固而導(dǎo)致熱量散不出去,從而產(chǎn)生熱應(yīng)力的作用。當(dāng)材料受到的熱應(yīng)力超過(guò)其強(qiáng)化層的強(qiáng)度極限時(shí),強(qiáng)化層受熱應(yīng)力的影響將會(huì)加大,產(chǎn)生相應(yīng)程度的微裂紋;第二,電極材料中混雜著與主體材料膨脹系數(shù)不同的材料,如Fe、Cr等,從而在冷卻過(guò)程中產(chǎn)生組織應(yīng)力,在受到力的作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生微裂紋[7]。
圖4 電火花沉積層的表面形貌Figure 4 Surface morphologies of electrospark-deposited coating
圖5顯示了PH17-4不銹鋼斷面在掃描電鏡下觀察到的強(qiáng)化層金相組織,從中可見(jiàn)3個(gè)主要部分:白亮區(qū)(沉積層)、熱影響區(qū)(過(guò)渡區(qū))和工件基體組織[8]。
圖5 電火花沉積層截面的SEM照片F(xiàn)igure 5 SEM image of cross section of electrospark-deposited coating
沉積層由許多細(xì)小顆粒組成,組織均勻致密,厚度約為30 μm;過(guò)渡區(qū)與白亮區(qū)和基體沒(méi)有明顯的分界,表明WC–20Ni涂層與PH17-4不銹鋼基體結(jié)合良好。強(qiáng)化層的組織致密均勻,沒(méi)有明顯的氣孔和微裂紋。過(guò)渡層厚度約為7 μm,說(shuō)明電火花表面強(qiáng)化是一個(gè)擴(kuò)散冶金化合過(guò)程,因此強(qiáng)化層與基體結(jié)合力強(qiáng),不易剝落。
電火花過(guò)程中,電極和基體都受到放電的侵蝕,因此沉積層是基體與電極的混合物,成分非常復(fù)雜。從圖6可知,W元素的含量隨深度發(fā)生了很大變化,尤其是在沉積層與基體的分界線處。這是因?yàn)閃元素主要存在于電極材料中,在沉積過(guò)程中與基體表面發(fā)生了冶金化合反應(yīng),從而使電極材料中的W元素沉積到了基體表面,所以沉積層中的W元素含量遠(yuǎn)高于基體。Cr和Fe元素含量的變化較小,這主要是由于基體中Cr和Fe的含量要遠(yuǎn)高于電極材料,在電火花沉積過(guò)程中,基體中的Cr和Fe熔滲進(jìn)沉積層中,使得沉積層中的Cr和Fe含量增加,但由于沉積層中還存在電極材料,因此Cr和Fe含量略低于基體,這證明了電極材料與基體之間發(fā)生擴(kuò)散熔滲現(xiàn)象。
為進(jìn)一步驗(yàn)證電火花沉積過(guò)程中的冶金化合反應(yīng)情況,選取顆粒狀飛濺物進(jìn)行了能譜分析,結(jié)果如圖7所示??梢?jiàn)W、C、Ni等元素的峰值較高,因?yàn)檫@幾種元素主要為電極材料所有,所以可以證明飛濺物中存在電極材料。同時(shí)還存在Fe、Cr等基體中的主要元素,說(shuō)明基體也是組成顆粒狀飛濺物的一部分。因此可以推測(cè),電火花沉積過(guò)程中,基體表面與電極材料受高溫熔化后發(fā)生了冶金化合反應(yīng),兩者相互擴(kuò)散熔滲。
圖7 顆粒狀飛濺物的形貌SEM觀察及EDS成分分析的結(jié)果Figure 7 Morphology and composition analysis result of particulate splash by SEM and EDS, respectively
由于越靠近基體的沉積層,受基體影響越大,越遠(yuǎn)離基體的沉積層,因?yàn)榉烹姲l(fā)生在電極和先形成的沉積層之間,所以更接近電極的成分。因此從圖8可見(jiàn),沉積層的顯微硬度呈梯度分布,且隨著與沉積層表面的距離增大,顯微硬度逐漸降低。在距沉積層表面30 μm處(結(jié)合圖5可知,此處為沉積層和基體的分界線),顯微硬度發(fā)生較大變化。由于沉積層中含有大量的C和W元素,即存在WC彌散相,因此顯微硬度要遠(yuǎn)高于基體,最高可達(dá)969 HV0.5。
圖8 電火花沉積層的顯微硬度隨深度的分布Figure 8 Microhardness distribution along the depth of electrospark-deposited coating
(1) 以WC–20Ni為電極,采用氬氣保護(hù),在PH17-4不銹鋼基體表面沉積了WC–20Ni涂層,最佳工藝參數(shù)為:輸出電壓125 V,輸出頻率660 Hz,輸出電容120 μF。此時(shí)能獲得厚度約30 μm的涂層。
(2) 電火花放電過(guò)程具有疊加性和相似性,沉積點(diǎn)的形貌主要呈云朵狀,沉積層實(shí)際上是由多個(gè)單點(diǎn)放電組織疊加而成,且最終獲得的沉積層組織連續(xù)、致密、細(xì)膩,厚度均勻。
(3) 電極與基體之間發(fā)生了冶金化合反應(yīng),兩者所含元素發(fā)生了相互間的擴(kuò)散熔滲,且顆粒狀飛濺物是在兩者間發(fā)生冶金化合反應(yīng)后被旋轉(zhuǎn)的電極甩出形成的。
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