孫松松 賈桂霄 王曉霞 蔣濤 羅輝
摘 要:采用第一性原理方法研究了Ni在曲率K1=0.024、K2=0.065、K3=0.105、K4=0.146、K5=0.162和K6=0.186六種不同彎曲程度石墨烯表面的吸附情況和電子結(jié)構(gòu)。研究結(jié)果如下:當(dāng)曲率K4為0.146時,Ni與石墨烯體系結(jié)合能最小,此時Ni原子位于C—C鍵橋位,且C—C鍵被打斷。對差分電荷和Mulliken電荷的分析發(fā)現(xiàn),在負(fù)載Ni原子的彎曲石墨烯體系中,Ni失去電子給石墨烯。對體系態(tài)密度的研究發(fā)現(xiàn),負(fù)載Ni原子的彎曲石墨烯體系費米能級上移,與差分電荷和Mulliken電荷分析結(jié)果一致,即石墨烯得到電子。本工作將可能影響Ni負(fù)載石墨烯體系對一些小分子,如CO、NH3、O2和NO2的敏感性。
關(guān)鍵詞:彎曲石墨烯;Ni負(fù)載;電子結(jié)構(gòu);密度泛函理論
單層石墨烯(Graphene)是一種二維穩(wěn)定結(jié)構(gòu)[ 1 ],且已被實驗證實。石墨烯的理論比表面積可達(dá)2600m2/g[ 2 ],具有較高的導(dǎo)熱系數(shù)[ 3 ],并擁有良好的力學(xué)特性,高達(dá)1060GPa[ 4 ],因此,石墨烯可應(yīng)用于太陽能電池、納米電子器件、化學(xué)吸附劑、傳感器等。
目前對過渡金屬負(fù)載石墨烯的研究有很多。Hu[ 5 ]等基于第一性原理計算了15種過渡金屬負(fù)載的本征石墨烯,研究發(fā)現(xiàn),負(fù)載的金屬對石墨烯磁矩有顯著影響。Zhou[ 6 ]等基于第一性原理方法計算了過渡金屬(V、Mn、Fe和Ni)負(fù)載空位石墨烯和B摻雜空位石墨烯的電學(xué)性質(zhì)和磁性,研究發(fā)現(xiàn),空位的存在增強(qiáng)了過渡金屬原子與石墨烯之間的相互作用,對負(fù)載在B摻雜的空位石墨烯體系,其磁性減小甚至消失。Wang等[ 7 ]基于第一性原理方法計算了負(fù)載的過渡金屬(Fe、Co、 Ni和Cu)及其簇對空位石墨烯吸附CO和H2的影響,研究發(fā)現(xiàn),空位有助于石墨烯吸附單個過渡金屬原子。
二維的石墨烯材料可被彎曲成三維,關(guān)于彎曲石墨烯,人們也發(fā)現(xiàn)了許多有價值的結(jié)果,例如,在彎曲石墨烯的折疊區(qū)域會出現(xiàn)一個新的Hall態(tài)[ 8-10 ],這也將導(dǎo)致一些新奇的輸運性質(zhì)[ 11-13 ]。因此本工作使用第一性原理方法研究了Ni負(fù)載在具有不同彎曲程度的石墨烯表面幾何和電子結(jié)構(gòu),這將彌補(bǔ)對彎曲石墨烯負(fù)載研究的空缺,并對一些可作為氣敏的小分子進(jìn)一步吸附提供了理論依據(jù)。
一、計算方法和模型
本文采用基于密度泛函理論(DFT)軟件完成。選取廣義梯度近似GGA(Generalized Gradient Approximation)- PW91(Perdew-Wang)方法對單胞參數(shù)進(jìn)行了計算,得到的單胞參數(shù)為2.464 ,與實驗值2.463 接近。因此,本工作采用此方法對含有50個碳原子的5×5×1石墨烯超胞圖1(a)體系幾何結(jié)構(gòu)進(jìn)行了全優(yōu)化,真空高度為20 ,幾何結(jié)構(gòu)優(yōu)化的布里淵區(qū)k點設(shè)為2×2×1,電子結(jié)構(gòu)計算的布里淵區(qū)k點設(shè)為10×10×1,能量收斂截止設(shè)為2×10-5Hartree,最大力收斂設(shè)為4×10-3Hartree/ ,最大位移收斂為5×10-3 ,選取雙數(shù)值原子軌道加極化(DNP)基組處理電子,平面波截止半徑為3.5 。
為了獲得不同彎曲度的石墨烯結(jié)構(gòu),我們將超胞參數(shù)a設(shè)為11.520 、 12.020 、11.020 、10.020 、10.520 和10.320 ,且用如下公式表示不同的彎曲度:
K=1- (1)
其中,K表示石墨烯的彎曲度,從公式(1)可以看出,a值越小,K值越大。使用公式(1)我們得到不同的K值。對這些具有不同彎曲度的石墨烯幾何結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化,得到其穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。在此基礎(chǔ)上根據(jù)彎曲石墨烯表面不同位置,即最高點T1、第二高點T2、第三高點T3、最低點T4四個位置,分別負(fù)載金屬原子Ni,如見圖1(a)。
Ni負(fù)載在彎曲石墨烯表面的吸附能Ea定義如下:
Ea=Eadsorp-Egraphene-ENi (2)
其中,Eadsorp表示Ni負(fù)載彎曲石墨烯體系的能量,Egraphene是彎曲石墨烯體系的能量,ENi是Ni原子的能量。
二、結(jié)果與討論
(一)幾何結(jié)構(gòu)和結(jié)合能
當(dāng)Ni負(fù)載在具有不同彎曲度的石墨烯表面時,可能T4位置對應(yīng)的結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定,因此,本文沒有得到T4位置幾何優(yōu)化的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。
對T1、T2和T3位置,本工作獲得了這些負(fù)載體系的幾何和電子結(jié)構(gòu)以及總能量。當(dāng)單個Ni原子負(fù)載在具有K1 ~ K6大小彎曲度的石墨烯表面時,除K1彎曲度的穩(wěn)定負(fù)載位為T1以及K3彎曲度的穩(wěn)定負(fù)載位為T3外,其它K2、K4、K5、K6彎曲度的穩(wěn)定負(fù)載位均為T2。
通過計算發(fā)現(xiàn),Ni—C鍵長均接近C原子和Ni原子的共價半徑之和1.920,即C和Ni原子形成了共價鍵。單個Ni原子吸附在具有K1彎曲度的石墨烯表面時,T1位置的Ni原子稍偏離T1位。對單個Ni原子吸附在具有其它彎曲度的石墨烯表面時,Ni原子從C頂位移到C—C鍵橋位,Ni原子吸附在具有彎曲度為K4的石墨烯表面時,橋位的C—C鍵被打斷,且此時吸附能最大,為-4.979eV。為了弄清彎曲度對Ni在石墨烯表面吸附能的影響,本工作研究了Ni在石墨烯表面的吸附能隨彎曲度的變化規(guī)律,見圖2。
我們知道,當(dāng)石墨烯彎曲時,C—C鍵也將必然被彎曲,如果這些彎曲鍵被打斷,則由C—C鍵彎曲引起的張力能將得到釋放,例如,對具有K4彎曲度的石墨烯體系,由于Ni負(fù)載的C—C鍵被打斷,因此,相應(yīng)的吸附能最大。
當(dāng)彎曲度小于或大于K4時,吸附能隨彎曲度的增大而減小,這可能源于石墨烯越彎曲其表面活性越強(qiáng),類似于碳納米管表面活性隨管徑減小而增強(qiáng)的情況[ 14 ]。負(fù)載的Ni失去電子給彎曲石墨烯。
(二)電子結(jié)構(gòu)
對金屬Ni負(fù)載在不同彎曲度的石墨烯表面態(tài)密度進(jìn)行了計算,結(jié)果表明,當(dāng)Ni負(fù)載在石墨烯表面時,Ni負(fù)載的彎曲石墨烯體系帶隙未打開,不同彎曲度石墨烯體系的費米能級均發(fā)生上移,其中,具有彎曲度為K4的石墨烯體系的態(tài)密度圖不同于其它體系,因此,我們以具有K1和K4吸附體系為代表,見圖3,這與石墨烯得到電子的結(jié)果是一致的(圖3)。對具有彎曲度為K4的石墨烯體系,與Ni相鄰的C原子在Fermi能級附近態(tài)密度發(fā)生明顯變化,且為了與Ni相互作用變強(qiáng),與Ni相鄰的C原子軌道從2p雜化為2s2p,見圖3c。
從圖3可知, Ni原子3d電子與石墨烯表面最鄰近C原子2p電子在Fermi能級附近發(fā)生相互作用。為了直觀看清Ni與具有不同彎曲度石墨烯電荷轉(zhuǎn)移以及成鍵情況,本工作還計算了相應(yīng)穩(wěn)定體系的差分電荷密度,見圖3b和d。從圖3b和d可以看出,Ni失去電子給石墨烯,與Mulliken電荷和態(tài)密度分析結(jié)果一致,且這些電子主要集中在新形成的Ni—C鍵上。
藍(lán)色表示電荷密度增加,黃色表示電荷密度減少,精度為0.03
三、結(jié)論
本文運用密度泛函理論系統(tǒng)地研究了Ni負(fù)載在不同彎曲度石墨烯表面的吸附能和電子結(jié)構(gòu),包括電荷轉(zhuǎn)移、態(tài)密度和差分電荷密度,獲得了Ni負(fù)載在不同彎曲度石墨烯表面結(jié)構(gòu)最穩(wěn)定時相應(yīng)的彎曲度以及幾何結(jié)構(gòu)。
在Ni負(fù)載的不同彎曲度石墨烯體系中,C和Ni原子形成了共價鍵,最穩(wěn)定體系相應(yīng)的彎曲度為K4(K4=0.146),此時Ni原子負(fù)載在石墨烯的橋位,且橋位C—C鍵被打斷。對具有K4彎曲度的石墨烯體系, Ni負(fù)載的吸附能最大。
當(dāng)彎曲度小于或大于K4時,吸附能隨彎曲度的增大而減小。Ni原子失去電子給彎曲石墨烯。隨著彎曲度的增大或Ni與石墨烯相互作用的增強(qiáng),與Ni相鄰的C在Fermi能級附近不僅有來自2p電子還有少量2s電子參與相互作用。
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基金項目:
內(nèi)蒙古科技大學(xué)材料與冶金學(xué)院孵化器基金(No.2014CY012)和內(nèi)蒙古科技大學(xué)大學(xué)生科技創(chuàng)新基金(No.PY-201502)資助項目
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