陸喜紅,韓倩,任蘭,楊正標(biāo)
(南京市環(huán)境監(jiān)測(cè)中心站,南京 210013)
錫是人體必需的微量元素之一,本身并無(wú)毒性,但與有機(jī)物結(jié)合會(huì)形成毒性極強(qiáng)的有機(jī)錫化合物,危害人體的神經(jīng)系統(tǒng)、內(nèi)分泌系統(tǒng),對(duì)皮膚也有不良影響[1]。測(cè)定水中錫的含量對(duì)用水安全具有重要意義。
水中錫的測(cè)定方法主要有分光光度法[2]、原子熒光光譜法[3–5]、石墨爐原子吸收光譜法[6]等。電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP–OES)法線性范圍寬、分析速度快,在錫的測(cè)定中也有應(yīng)用[7–10]。目前,國(guó)內(nèi)尚無(wú)水中錫元素的ICP–OES法測(cè)定標(biāo)準(zhǔn),對(duì)于錫測(cè)定時(shí)介質(zhì)的選擇研究更少。
筆者進(jìn)行一系列試驗(yàn),對(duì)介質(zhì)用酸的種類和濃度對(duì)水中錫ICP–OES法測(cè)定結(jié)果的影響進(jìn)行考察,結(jié)果表明,體積分?jǐn)?shù)為1%的HNO3溶液作為ICP–OES測(cè)定方法中最常用的酸[11],不利于錫溶液的穩(wěn)定,而HCl溶液用于錫的測(cè)定及保存則較為理想。
等離子體發(fā)射光譜(ICP)儀:710型,附40 MHz 自激式射頻發(fā)生器,美國(guó)安捷倫公司;
電熱板:EG20B型,美國(guó)萊伯泰克公司;
錫標(biāo)準(zhǔn)儲(chǔ)備液:1 000 mg/L(擴(kuò)展不確定度為 0.7 mg /L,介質(zhì)為 3 mol/L HCl溶液),編號(hào)為GSB 04–1753–2004,國(guó)家有色金屬及電子材料分析測(cè)試中心;
HCl,HNO3:優(yōu)級(jí)純;
氬氣:純度大于99.99%;
實(shí)驗(yàn)用水為Milli-Q純水器制備的超純水,其電阻率為18.2 MΩ.cm。
觀測(cè)方式:水平;射頻(RF)功率:1 100W;霧化器:玻璃同心;霧化室:玻璃旋流;檢測(cè)器:VistaChip CCD;霧化氣壓力:200 kPa;等離子氣流量:15.0 L/min;輔助氣流量:1.50 L/min;樣品提升量:1.0 mL/min;泵轉(zhuǎn)速:15 r/min。
1.3.1 校準(zhǔn)系列溶液的配制
用體積分?jǐn)?shù)1%的HNO3溶液將錫標(biāo)準(zhǔn)儲(chǔ)備液稀釋配制成為100 mg/L錫標(biāo)準(zhǔn)使用液。準(zhǔn)確吸取錫標(biāo)準(zhǔn)使用液 0.00,0.10,0.50,2.00,7.50,10.0 mL于100 mL容量瓶中,用1% HNO3溶液稀釋并定容至標(biāo)線,搖勻,制得錫的質(zhì)量濃度分別為0.000,0.100,0.500,2.00,7.50,10.0 mg/L 的標(biāo)準(zhǔn)系列溶液。
按上述方法另配一瓶質(zhì)量濃度為100 mg/L的錫標(biāo)準(zhǔn)使用液,介質(zhì)為體積分?jǐn)?shù)1%的HCl溶液。
1.3.2 樣品制備
(1)硝酸介質(zhì)試驗(yàn)。準(zhǔn)確吸取介質(zhì)為1% HNO3溶液的錫標(biāo)準(zhǔn)使用液 0.25,1.00,2.00,4.00,7.50,10.0 mL于100 mL容量瓶中,用1% HNO3溶液稀釋并定容至標(biāo)線,搖勻,該標(biāo)準(zhǔn)系列中錫的質(zhì)量濃度分別為 0.250,1.00,2.00,4.00,7.50,10.0 mg/L。于室溫(20℃)保存。
另取8只100 mL容量瓶,向每只容量瓶中移入4.00 mL錫標(biāo)準(zhǔn)使用液,分別使用純水,1%,2%,3%,4%,5%,7%及10% HNO3溶液定容至標(biāo)線,在室溫保存一個(gè)月后測(cè)定錫的濃度。
(2)鹽酸介質(zhì)試驗(yàn)。準(zhǔn)確吸取介質(zhì)為1% HCl溶液的錫標(biāo)準(zhǔn)使用液 0.50,2.00,4.00,10.0 mL 于100 mL容量瓶中,用1% HCl溶液稀釋并定容至標(biāo)線,搖勻,制得溶液中錫的質(zhì)量濃度分別為0.500,2.00,4.00,10.0 mg/L。
按相同方法另配兩組溶液,分別使用5%的HCl溶液及10%的HCl溶液為介質(zhì)。
1.3.3 標(biāo)準(zhǔn)工作曲線繪制及樣品測(cè)定
開(kāi)機(jī),待儀器穩(wěn)定后,在儀器最佳工作條件下,選擇錫的最靈敏線189.9 nm作為分析線,將標(biāo)準(zhǔn)系列及樣品先后進(jìn)樣測(cè)定,以扣除背景法修正干擾。
2.1.1 1% HNO3溶液介質(zhì)下錫溶液的穩(wěn)定性
取質(zhì)量濃度分別為 0.250,1.00,2.00,4.00,7.50,10.0 mg/L的錫標(biāo)準(zhǔn)使用液進(jìn)行測(cè)定,繪制校準(zhǔn)曲線,每隔5 d測(cè)定一次,持續(xù)1個(gè)月,結(jié)果見(jiàn)圖1。
圖1 1% HNO3溶液介質(zhì)中錫溶液的穩(wěn)定性
由圖1可見(jiàn),在1% HNO3溶液介質(zhì)中,質(zhì)量濃度分別為0.25,1.00 mg/L的錫標(biāo)準(zhǔn)溶液,在一個(gè)月的實(shí)驗(yàn)周期中,其濃度幾乎沒(méi)有變化;質(zhì)量濃度為2.00~10.0 mg/L的錫標(biāo)準(zhǔn)溶液,在前5 d其濃度保持穩(wěn)定,之后則大幅度衰減,且溶液中錫含量越高,下降的絕對(duì)量也越大??梢?jiàn),1% HNO3介質(zhì)用于ICP–OES測(cè)定錫元素時(shí),標(biāo)準(zhǔn)溶液系列只能臨用現(xiàn)配,測(cè)定較高質(zhì)量濃度的錫溶液(2.00~10.0 mg/L)時(shí),保存時(shí)間不宜超過(guò)5 d。
2.1.2 不同HNO3溶液濃度下錫溶液的穩(wěn)定性
現(xiàn)配標(biāo)準(zhǔn)溶液系列,繪制介質(zhì)為1%的HNO3溶液的校準(zhǔn)曲線,取30 d之前配制的介質(zhì)不同、質(zhì)量濃度均為4.00 mg/L的錫標(biāo)準(zhǔn)溶液,測(cè)定其實(shí)際濃度,結(jié)果如圖2所示。
圖2 不同HNO3濃度下錫標(biāo)準(zhǔn)溶液的穩(wěn)定性
由圖2可看出,以1%的HNO3溶液為介質(zhì)的錫溶液穩(wěn)定性最差,而當(dāng)HNO3溶液的體積分?jǐn)?shù)大于5%時(shí),錫標(biāo)準(zhǔn)溶液可穩(wěn)定30 d。說(shuō)明提高HNO3介質(zhì)的濃度有利于延長(zhǎng)錫溶液的穩(wěn)定時(shí)間。
造成這一現(xiàn)象的原因可能是錫元素在HNO3溶液介質(zhì)中發(fā)生水解作用,生成難溶性的β-H2SnO3顆粒[12],在ICP測(cè)定中影響霧化效率,從而使結(jié)果偏低。高酸度(HNO3溶液的體積分?jǐn)?shù)大于5%)通常會(huì)抑制沉淀反應(yīng)的發(fā)生,所以錫可以穩(wěn)定存在于體積分?jǐn)?shù)5%以上的HNO3溶液中。
考察不同質(zhì)量濃度的錫標(biāo)準(zhǔn)溶液在不同體積分?jǐn)?shù)的HCl溶液介質(zhì)中的穩(wěn)定性,每隔一周測(cè)定一次,每次現(xiàn)配溶液,現(xiàn)繪一條介質(zhì)為1%的HCl溶液的校準(zhǔn)曲線,連續(xù)測(cè)定28 d,測(cè)定結(jié)果見(jiàn)表1。由表1可知,在一個(gè)月的實(shí)驗(yàn)周期中,分別用1%,5%,10% 的 HCl溶 液 作 為 介 質(zhì),0.500,2.00,4.00,10.0 mg/L錫溶液質(zhì)量濃度,測(cè)定結(jié)果的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.94%~3.04%之間,說(shuō)明其濃度沒(méi)有發(fā)生顯著變化,HCl是水中錫元素測(cè)定及保存的理想介質(zhì)。
表1 HCl介質(zhì)中錫標(biāo)準(zhǔn)溶液的穩(wěn)定性試驗(yàn)結(jié)果
使用ICP–OES法測(cè)定水中的錫,關(guān)于錫溶液介質(zhì)的選擇得到以下兩點(diǎn)結(jié)論:
(1)當(dāng)使用HNO3溶液作介質(zhì)時(shí),1%的HNO3溶液必須臨用現(xiàn)配,樣品處理后立即測(cè)定,若要將錫溶液保存超過(guò)5 d,則需將HNO3溶液的體積分?jǐn)?shù)提高至5%以上。
(2)HCl是用于錫溶液測(cè)定、保存的理想介質(zhì),體積分?jǐn)?shù)1%~10%的HCl溶液都能用于錫溶液的保存。
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[11]國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局《水和廢水監(jiān)測(cè)分析方法》編委會(huì).水和廢水監(jiān)測(cè)分析方法[M].4版(增補(bǔ)版).北京:中國(guó)環(huán)境科學(xué)出版社,2002: 291–298.
[12]天津大學(xué)無(wú)機(jī)化學(xué)教研室.無(wú)機(jī)化學(xué)[M].3版.北京:高等教育出版社,2002: 378.