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      創(chuàng)新之光耀中華

      2013-12-31 00:00:00文清
      創(chuàng)新時代 2013年10期

      劉玉嶺教授,博士生導(dǎo)師,第九屆、第十屆、第十一屆全國政協(xié)委員,國家級有突出貢獻(xiàn)中青年專家。他治學(xué)嚴(yán)謹(jǐn),學(xué)風(fēng)正派,創(chuàng)新成果業(yè)績突出:以他為第一發(fā)明人,獲得國家發(fā)明獎5項,省部級科技發(fā)明與進(jìn)步獎21項,取得發(fā)明專利57項,美國發(fā)明專利3項;出版專著5部,發(fā)表論文200余篇。他還很注重對學(xué)生的培養(yǎng),在他的悉心教導(dǎo)下培養(yǎng)碩士、博士、博士后共百余名;以他為學(xué)術(shù)帶頭人的微電子學(xué)科是碩士、博士、博士后等高層次人才培養(yǎng)的省級重點學(xué)科。這一切源于他對祖國科技事業(yè)執(zhí)著追求和孜孜不倦的創(chuàng)新精神。

      走近劉玉嶺,看到的是他輝煌的創(chuàng)新歷程:1979年我國引進(jìn)日本11條IC生產(chǎn)線,其硅襯底拋光材料需要由日本不二見株式會社進(jìn)口。劉玉嶺看在眼里急在心里,針對該產(chǎn)品黏度大、結(jié)塊、高鈉離子污染環(huán)境等問題,發(fā)明了懸浮性好、無鈉離子、不揮發(fā)、易清洗的FNO-MOS型拋光液,價格僅為日本的十分之一,該成果獲天津科技成果二等獎,國家發(fā)明四等獎;2000年劉玉嶺發(fā)明的以化學(xué)作用絡(luò)合胺化為技術(shù)路線堿性CMP材料與相應(yīng)工藝技術(shù),低于目前世界花數(shù)億元巨資研發(fā)的電化學(xué)拋光(ECMP)機械壓力的三分之一,為GLSI向45nm以下產(chǎn)業(yè)化發(fā)展做出創(chuàng)造性貢獻(xiàn),該技術(shù)已獲國家發(fā)明專利54項,克服了占世界主導(dǎo)市場的酸性漿料強機械研磨后溶解機理模型存在的速率低、機械作用大、工藝復(fù)雜等難題;他在“ULSI襯底表面潔凈技術(shù)”研究中,首次提出了優(yōu)先吸附理論及數(shù)學(xué)模型:t=Kr2/f1f2S;發(fā)明了“專用界面活性劑處理晶片表面吸附物技術(shù)”,使吸附物處于物理吸附狀態(tài)的時間延長了30倍以上,并采用集中清洗,提高了效率,節(jié)省了試劑。該技術(shù)已在洛陽740、有研硅股等企業(yè)規(guī)模應(yīng)用,僅刷片機一項,可節(jié)省3936萬元,專家鑒定該項技術(shù)為國際領(lǐng)先水平,獲國家發(fā)明專利,天津市發(fā)明二等獎,國家發(fā)明三等獎,2000年被科技部列為國家級科技成果重點推廣計劃和國家級新產(chǎn)品。目前,新研制的半導(dǎo)體膜電-化清洗技術(shù)應(yīng)用于GLSI清洗工藝,同時去除有機物與金屬離子沾污,既節(jié)能又環(huán)保。

      在這些發(fā)明專利中最讓他驕傲的技術(shù)是“FA/O均腐蝕拋光液與拋光技術(shù)”。由于采用自己研發(fā)的多功能強絡(luò)合劑(同時作pH調(diào)節(jié)劑,緩蝕劑),有效控制了重金屬雜質(zhì)沾污,洛陽鼎晶半導(dǎo)體材料公司用此拋光液加工的IC襯底片成為唯一最可靠的“神五”、“神六”、“神七”專用電路硅襯底,為航天事業(yè)作出貢獻(xiàn),獲國家發(fā)明三等獎,被國家5部委審評為國家級新產(chǎn)品,被國家科委列為國家科技成果重點推廣計劃。

      在劉玉玲的科研之路上,一直堅持產(chǎn)學(xué)研用相結(jié)合,他領(lǐng)銜創(chuàng)建了與微電子技術(shù)與材料相結(jié)合的產(chǎn)學(xué)研實體,建立6000噸表面加工耗材生產(chǎn)線,產(chǎn)品已在京、津、滬、浙等十多個省市的引進(jìn)生產(chǎn)線上取代了進(jìn)口,進(jìn)行新技術(shù)培訓(xùn)1000余人次。臺灣廣潤科技公司、臺灣弘弦科技公司、國家工程物理九院、洛陽空空導(dǎo)彈研究院、電子45所等眾多企業(yè)與他簽訂了技術(shù)協(xié)議。他還是國家中長期科技發(fā)展重大專項項目、國家重點安全基金NSAF等項目的技術(shù)負(fù)責(zé)人。他長期為大中企業(yè)的第一線解決新技術(shù)問題。在科研成果推廣中培訓(xùn)技術(shù)人員1000余人次。

      劉玉嶺教授作為我國微電子技術(shù)與材料CMP超精細(xì)領(lǐng)域技術(shù)帶頭人,在國內(nèi)外享有較高的聲譽。國際CMP耗材最有影響的多家專業(yè)公司多次提出買斷該技術(shù),目前由中芯國際支持的以劉玉嶺教授為負(fù)責(zé)人的國家重大專項“極大規(guī)模集成電路平坦化材料與技術(shù)”已進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化階段,產(chǎn)品在理論、方法、路線和材料方面均實現(xiàn)了創(chuàng)新,性能提高,工藝簡化,成本低,環(huán)境友好。2012年獲國家02專項驗收成績優(yōu)秀,該團(tuán)隊成為100多個承擔(dān)項目單位中五個優(yōu)秀團(tuán)隊之一。硅、藍(lán)寶石等產(chǎn)品已在中國華晶、華微等30多條引進(jìn)生產(chǎn)線上規(guī)模化應(yīng)用,代替進(jìn)口產(chǎn)品,取得經(jīng)濟效益超過億元。劉玉嶺教授無疑是科學(xué)家,但他同時又是企業(yè)家、實干家,他的創(chuàng)新之光照耀中國走向世界的同時,也為祖國帶來了巨大的經(jīng)濟效益。

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