鄧?guó)P萍,苗東偉,狄娜
(長(zhǎng)春理工大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,長(zhǎng)春 130022)
釓鎵石榴石(Gd3Ga5O12,簡(jiǎn)稱GGG),屬立方晶系,空間群Oh(10)-Ia3d。其特性甚至可以與釔鋁石榴石(YAG)相媲美,是一種穩(wěn)定的,優(yōu)質(zhì)的光學(xué)材料[1]。而作為立方晶系,石榴石結(jié)構(gòu)的GGG,其特性之一是可以通過(guò)摻雜的形式,使陽(yáng)離子在GGG晶體中實(shí)現(xiàn)大范圍的取代。在釓鎵石榴石中,可在其十二面體晶格中進(jìn)行稀土離子的摻雜,如:Er3+、Ho3+、Nd3+、和Yb3+等[2,3],作為激活離子的晶格場(chǎng)。另外,在GGG中的八面體晶格中也可以接受Cr3+、Mn3+、Fe3+和V3+等三價(jià)過(guò)渡金屬離子作為敏化離子[4,5]。綜合其物理化學(xué)性質(zhì)和其摻雜特性,GGG是適用于固體激光器的一種理想激光材料。
本研究采用共沉淀法,以碳酸氫銨為沉淀劑,硫酸銨為分散劑,制備沉淀液,將沉淀進(jìn)行抽濾、洗滌和干燥、熱分解等后續(xù)處理,制備了其晶相均勻的Yb:GGG納米粉體。采用紅外光譜、XRD、SEM、熒光光譜等手段對(duì)粉體的物相、結(jié)構(gòu)與形貌及熒光性能進(jìn)行了表征。對(duì)納米粉體進(jìn)行成型、預(yù)燒及燒結(jié)等處理,通過(guò)真空燒結(jié)方法制備了Yb:GGG透明陶瓷。借助XRD、熒光光譜和透過(guò)率光譜等測(cè)試手段對(duì)制備的陶瓷材料進(jìn)行了結(jié)構(gòu)及光學(xué)性能的表征。
按照化學(xué)計(jì)量比稱量分析純的Gd2O3、Ga2O3和Yb2O3。分別溶于不同濃度的硝酸溶液中(Ga2O3=5mol/L;Gd2O3和 Yb2O3=0.5mol/L),由于 Ga2O3較穩(wěn)定,加入適量鹽酸加速溶解,當(dāng)完全溶解后,將上述Ga2O3、Gd2O3以及Yb2O3溶液進(jìn)行混合,得到沉淀母液。將NH4HCO3溶解于適量的去離子水中,得到一定濃度(1.5mol/L)的沉淀劑溶液,待用。然后將上述含有Ga3+、Gd3+及Yb3+三種離子的混合溶液緩慢滴入溶解后的沉淀劑溶液中,滴加速度為3mL/min,并加入適量(NH4)2SO4,邊滴定邊強(qiáng)烈攪拌,并將溶液的pH值控制在7-8,形成了Gd(OH)3、Ga(OH)3和Yb(OH)3的共沉淀。將沉淀陳化12h后,倒入布氏漏斗中進(jìn)行真空抽濾,用去離子水洗滌4次,再用無(wú)水乙醇洗滌3次,以除去反應(yīng)后殘余硝酸根、氨根等離子。然后將所得的沉淀置于烘箱中,80℃干燥24h,得到疏松的Yb:GGG前驅(qū)體.將前驅(qū)體干燥后,置于瑪瑙研缽中研磨1~2h,并在空氣中于800℃、900℃及1000℃下煅燒4h,得最終樣品。
1.2.1 Yb:GGG納米粉體的燒結(jié)溫度確定
1.2.1.1 XRD分析
將于800℃、900℃及1000℃下煅燒4h的樣品進(jìn)行XRD測(cè)試分析。得到XRD圖譜。
圖1 不同溫度下燒結(jié)粉體的XRD圖
從圖1中可以看出,在800℃以下出現(xiàn)GGG相,但峰形不夠尖銳,衍射峰比較雜亂,還存在一些雜相,并且有些偏移。燒結(jié)溫度在900℃以上時(shí),峰形較尖銳,衍射峰與標(biāo)準(zhǔn)卡(JCPDS No.13-0493)基本吻合,無(wú)其它雜相存在。
1.2.1.2 掃描電鏡(SEM)分析
圖2 900℃煅燒4h后的粉體SEM照片
圖2與圖3分別為前驅(qū)體在900℃和1000℃下煅燒4h后的掃描電鏡圖樣。
圖3 1000℃煅燒4h后的粉體的SEM照片
從圖2可以看出,900℃煅燒4h的粉體大多呈球形,粉體粒徑在60~100nm之間,分布較均勻。從圖3可以看出,1000℃,粉體逐漸長(zhǎng)大,粒徑在100nm以上,形狀不規(guī)則,分布不均勻。
所以,結(jié)合上述兩種檢測(cè)分析,確定Yb:GGG納米粉體燒結(jié)溫度為900℃。
1.2.2 Yb:GGG納米粉體燒結(jié)保溫時(shí)間的確定
1.2.2.1 XRD分析
圖4為相同濃度(Yb3+為5at.%)前驅(qū)體在900℃,不同保溫時(shí)間(1h、2h、4h)下的XRD譜圖。由圖4可知,煅燒時(shí)間為1h和2h的粉體的譜線峰值較較低,偏離了GGG的標(biāo)準(zhǔn)譜線,特別是煅燒1h的有Gd4Ga2O9相和Gd2O3相等雜相存在;煅燒4h以上時(shí),衍射峰較明顯,且峰形尖銳,與GGG相完全對(duì)應(yīng)。所以,確定Yb:GGG納米粉體燒結(jié)保溫時(shí)間為4h。
圖4 不同時(shí)間下燒結(jié)粉體的XRD圖
1.2.2.2 激光粒度分析
圖5為采用激光粒度分析儀測(cè)試的900℃燒結(jié)4h的樣品粒徑分布曲線,從圖中可見(jiàn):粉體的平均粒徑在80nm左右,粉體具有有較好的分布均勻性,且顆粒大小平均。通過(guò)XRD與掃描電鏡綜合分析考慮,認(rèn)為燒結(jié)溫度900℃,保溫4h所得粉體粒徑尺寸適宜,分散性較好,適合于后續(xù)陶瓷的成型及燒結(jié)。
圖5 Yb:GGG粉體的粒徑分布狀況
1.2.3 熒光性能確定Yb3+離子摻雜濃度
圖6為不同濃度的Yb:GGG粉體(1at.%,3at.%,5at.%,7at.%,10at.%)在900℃煅燒4h后的熒光光譜。從圖6中可以看出,隨著Yb3+離子摻雜濃度的增加,熒光光譜峰值逐漸變強(qiáng),在Yb3+離子摻雜濃度為5at.%時(shí)達(dá)到最大值。但隨著摻雜濃度繼續(xù)增加,熒光性能逐漸減弱,這是由于Yb3+離子摻雜量的過(guò)多導(dǎo)致的濃度猝滅現(xiàn)象。因此,通過(guò)熒光光譜測(cè)試分析,認(rèn)為Yb3+。離子摻雜濃度為5at.%時(shí),Yb:GGG粉體的熒光性能最為優(yōu)越。
圖6 Yb3+摻雜濃度對(duì)粉體的熒光性能影響
稱適量5at%的Yb:GGG納米粉體,加適量無(wú)水乙醇,作為介質(zhì),并加一定量的聚乙烯醇,作為粘合劑,將粉體在瑪瑙研缽中進(jìn)行研磨。然后對(duì)粉體進(jìn)行壓坯、干燥和預(yù)燒。采用ZW-30-20型真空燒結(jié)爐,鎢坩堝作為燒結(jié)坩堝。在真空爐中進(jìn)行燒結(jié)。本實(shí)驗(yàn)采用200Mpa的冷靜壓對(duì)坯體進(jìn)行加壓和保壓5min,得到最終陶瓷素坯。在真空燒結(jié)時(shí)真空度抽至10-3MPa以下,溫度升至110℃,保溫8h,充分排除坯體表面的水分,避免坯體開(kāi)裂現(xiàn)象的發(fā)生。然后將溫度升至200℃,聚乙烯醇開(kāi)始揮發(fā),恒速升溫至500℃,聚乙烯醇完全揮發(fā)。本研究采用的煅燒溫度為1000℃。
Yb:GGG透明陶瓷的燒結(jié)品見(jiàn)圖7。樣品為Φ 12×1.5mm圓片,兩面進(jìn)行了機(jī)械拋光處理。
圖7 Yb:GGG透明陶瓷燒結(jié)實(shí)物圖
2.2.1 陶瓷的XRD分析
圖8為5at.%Yb:GGG透明陶瓷XRD的檢測(cè)結(jié)果,圖8中表明,Yb:GGG陶瓷物相結(jié)構(gòu)與GGG基本相同,屬立方晶系,空間群Ia3d。
圖8 5at.%Yb:GGG透明陶瓷的XRD圖像
2.2.2 Yb:GGG透明陶瓷的熒光光譜
圖9為摻雜鐿離子濃度為5at.%的Yb:GGG激光陶瓷的熒光光譜,泵浦源為980nm二極管(LD)。在1000-1200nm波段范圍內(nèi),只存在兩個(gè)發(fā)射峰,分別位于1006nm及1030nm處,且光譜帶很寬。最強(qiáng)峰位于1030nm處,恰好對(duì)應(yīng)Yb3+離子的2F5/2-2F7/2躍遷。
圖9 摻雜鐿離子濃度為5at.%的Yb:GGG激光陶瓷的熒光光譜
2.2.3 陶瓷透過(guò)率性能測(cè)試
圖10為5at.%Yb:GGG透明陶瓷在200-1500nm波段范圍內(nèi)的透過(guò)率曲線,透明陶瓷在可見(jiàn)光區(qū)域(400-800nm)內(nèi),透過(guò)率在30%-50%,最大透光度可達(dá)到55%。
圖10 5at.%Yb:GGG透明陶瓷的透過(guò)率曲線
2.2.3 陶瓷的斷面形貌分析
圖11為5at.%Yb:GGG透明陶瓷的斷面掃描電鏡圖像。從圖中可以看出,Yb:GGG透明陶瓷晶粒尺寸大小在1-5μm,晶粒分布均勻,致密度較高。
圖11 5at.%Yb:GGG透明陶瓷的斷面掃描電鏡圖像
采用共沉淀法,以碳酸氫銨為沉淀劑,硫酸銨為分散劑,摻雜5at.%的Yb3+離子得到沉淀液,將沉淀進(jìn)行抽濾、洗滌和干燥,并在900℃煅燒4h制備出球形,粒徑在80nm,分布均勻的Yb:GGG納米粉體材料。
將摻雜鐿離子濃度5at%的Yb:GGG粉體材料,在真空中燒結(jié),得到在可見(jiàn)光區(qū)域(400-800nm)內(nèi),透光度可達(dá)到55%,晶粒尺寸大小在1-5μm,晶粒分布均勻,致密度較高的Yb:GGG透明陶瓷。
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