林滔
(福建龍凈環(huán)保股份有限公司 福建龍巖 364000)
隨著城市化和工業(yè)化的快速發(fā)展,能源利用與工業(yè)活動高度活躍,導(dǎo)致大量污染物排放于大氣中,而揮發(fā)性有機物(Volatile Organic Compounds,VOCs)是典型污染物之一,對人體健康、局部空氣質(zhì)量、區(qū)域性大氣復(fù)合污染有著重要的影響[1]。目前,針對VOCs 的處理技術(shù),主要有冷凝法、吸附法、膜分離法、燃燒法、生物法等,而活性炭吸附法作為當(dāng)前成熟的工藝,具有較好的VOCs 吸附性能,適用于中低濃度、高通量的VOCs廢氣治理,具有去除效率高、能耗低、易于推廣的特點[2]。然而,在VOCs 治理工程中的活性炭吸附設(shè)備內(nèi)部,流場分布不均影響吸附劑有效接觸面積及穿透曲線,直接影響VOCs 的吸附效率。為此,有必要針對VOCs 廢氣治理設(shè)備內(nèi)部的流場進行研究。
現(xiàn)有針對吸附設(shè)備的流場研究分析,主要集中在內(nèi)部結(jié)構(gòu)、氣體分布裝置對設(shè)備內(nèi)部流場的影響。在設(shè)備結(jié)構(gòu)方面,徐攀等[3]研究了在吸附和解吸2 種工況下吸附器內(nèi)部結(jié)構(gòu)參數(shù)與吸附性能之間的影響關(guān)系,并獲得可用于指導(dǎo)設(shè)計制造的擬合關(guān)聯(lián)式。芮道哲等[4]對分層并聯(lián)的徑向流吸附器床層中流體流場進行數(shù)值模擬計算分析,發(fā)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)方式的吸附器內(nèi)部流場均布性提高80%。在氣體分布裝置方面,田津津等[5]對變壓吸附系統(tǒng)進行研究,發(fā)現(xiàn)分布器結(jié)構(gòu)是影響氣體分配效果的主要因素。劉義鑫等[6]利用計算流體動力學(xué)(CFD)軟件研究分析了原氣體分布器、改進型氣體分布器及多孔板對吸附器內(nèi)部流場的影響程度,發(fā)現(xiàn)氣體分布器與孔板相結(jié)合的方式,吸附截面上氣體分布最均勻,并通過試驗獲得極好的一致性。王浩宇等[7]利用CFD 方法對軸流吸附器內(nèi)部氣體流動特性進行分析,得出軸向吸附器配合擋板與孔板的方式可使吸附器內(nèi)部流場明顯改善。
從上述文獻可以看出針對單個吸附設(shè)備的內(nèi)部流場優(yōu)化分析具有部分研究,但針對整體吸附設(shè)備工藝系統(tǒng)的流場研究分析,卻少有翔實報道。作為大風(fēng)量、低濃度VOCs 廢氣治理主流工藝,“活性炭吸脫附+催化氧化”工藝一般設(shè)計有多個并聯(lián)吸附設(shè)備[8],應(yīng)用于實際治理工程的吸附系統(tǒng)設(shè)備往往是根據(jù)經(jīng)驗或者已有的模式進行設(shè)計制造的,鮮有相關(guān)的流場理論指導(dǎo)。本文以現(xiàn)有VOCs 廢氣治理設(shè)備為研究對象,采用CFD方法對活性炭吸附設(shè)備進行流場分析并提出改進措施,為吸附設(shè)備整體工藝系統(tǒng)的流場優(yōu)化設(shè)計提供一定的參考依據(jù)。
某企業(yè)為有組織噴漆(油性漆)廢氣處理配備1 套廢氣治理設(shè)備,處理風(fēng)量為10 萬m3/h,采用“活性炭吸附濃縮+催化燃燒”治理工藝,即廢氣經(jīng)前處理過濾漆霧等粉塵顆粒后再經(jīng)過活性炭吸附箱吸附VOCs 組分,最后經(jīng)煙囪排放。運行模式為6 吸/5 吸1 脫,非甲烷總烴(NMHC)排放要求≤70 mg/m3。
系統(tǒng)設(shè)備在實際生產(chǎn)過程中,在確?;钚蕴拷孛媪魉佟⒀b填量、入口濃度、廢氣溫度等參數(shù)合適的情況下,仍有排放超標(biāo)現(xiàn)象,可能是設(shè)備內(nèi)氣流分布不均導(dǎo)致吸附材料無法高效吸附廢氣中的有機組分,需對設(shè)備進行流場分析。
為貼近實際工況,以煙氣入口及吸附箱后接煙道出口為界,按照實際比例建立包含預(yù)處理設(shè)備、活性炭吸附箱、部分風(fēng)管在內(nèi)的計算模型。每個吸附箱內(nèi)部設(shè)置分布孔板及吸附劑,見圖1。
圖1 幾何模型
(1)速度入口條件,實際計算流速11.574 m/s,初始溫度298 K。
(2)壓力出口條件,設(shè)定出口壓力101 325 Pa。
(3)內(nèi)部孔板多孔跳躍邊界條件,根據(jù)相應(yīng)開孔率及厚度確定參數(shù)。
(4)壁面及導(dǎo)流板采用非滲透性和非滑移固體壁面條件。
按照原吸附設(shè)備結(jié)構(gòu)建立的幾何模型基礎(chǔ)上,進行了內(nèi)部流場模擬,系統(tǒng)設(shè)備速度云圖見圖2,分析統(tǒng)計吸附設(shè)備內(nèi)各碳箱流量、偏差及截面氣速分布,見表1 所示。
表1 系統(tǒng)設(shè)備各碳箱的流量、流量偏差及截面流速分布
圖2 原設(shè)備速度云圖
可以看出,氣流從預(yù)處理設(shè)備流進活性炭吸附箱頂部后,直沖進入風(fēng)管尾部,進入吸附箱的氣流流量從前往后呈現(xiàn)由少變多的規(guī)律,且流量偏差較大,大于±5%。通過復(fù)核吸附箱截面尺寸及廢氣處理量,截面氣速按照1.1 m/s 設(shè)計,臨近蜂窩活性炭上限流速1.2 m/s[9]。應(yīng)盡量減少流量偏差,才能保證吸附箱截面流速處于合理范圍。
對于單個吸附箱,吸附截面四周氣速較大,高者為2.49 m/s,吸附截面中心氣速較小,低者為0.35 m/s,呈現(xiàn)四周氣速高、中心氣速低的特點,存在較為嚴(yán)重的邊流效應(yīng)。這樣,過高氣速形成射流,導(dǎo)致VOCs 分子向活性炭表面?zhèn)髻|(zhì)時間減少,影響吸附效果。另外,氣速分布極度不均,引起截面活性炭穿透時間不均,部分區(qū)域活性炭過早穿透失效,失去吸附作用,由此造成出口超排問題。
從模擬結(jié)果看出,主要存在各吸附箱流量偏差較大且吸附箱內(nèi)部氣流分布不均的問題。應(yīng)當(dāng)使氣速盡量低于1.2 m/s 且氣速分布集中且均勻,以此獲得較好的廢氣凈化率。由于吸附設(shè)備為已建工程項目,不宜大肆改造,可通過內(nèi)部增設(shè)導(dǎo)流裝置或者修改分布孔板方式,來改善設(shè)備的氣流分布。
從各吸附箱流量分布不均來看,這和系統(tǒng)設(shè)備本身氣流結(jié)構(gòu)、風(fēng)管內(nèi)導(dǎo)流缺失及各吸附箱內(nèi)分布孔板型式有關(guān),而吸附箱內(nèi)部氣流分布不均,與吸附箱本身結(jié)構(gòu),喇叭型入口角度尺寸、分布孔板型式有關(guān)。因此,可在煙氣入口處彎頭局部增設(shè)導(dǎo)流,并將各吸附箱入口處原平板型分布孔板重置優(yōu)化為喇叭型分布孔板,來完善氣流均布。參照以往類似項目結(jié)構(gòu)設(shè)備,經(jīng)過不斷優(yōu)化嘗試,獲得彎頭局部導(dǎo)流板合適位置及轉(zhuǎn)彎半徑等參數(shù),見圖3。由于吸附箱內(nèi)的氣流邊流效應(yīng),且較多氣流均有涌向四周的趨勢,使截面氣流分布不均,因此喇叭型分布孔板各面開孔率需區(qū)別設(shè)置,且煙氣方向吸附箱流量偏差現(xiàn)象,不同吸附箱分布孔板開孔率也需區(qū)別設(shè)置,經(jīng)過不斷優(yōu)化嘗試,獲得較合適的各孔板開孔率參數(shù)設(shè)置,見圖4。
圖3 彎頭局部增設(shè)導(dǎo)流
圖4 孔板開孔參數(shù)
改進后,再次模擬內(nèi)部流場,設(shè)備吸附截面速度云圖見圖5,各碳箱流量、偏差及截面氣速分布,見表2。可以看出,進入吸附箱的氣流依然呈現(xiàn)由少變多的現(xiàn)象,但流量偏差已經(jīng)縮小至±1.5%以內(nèi),在氣流進入各個吸附箱后,截面平均氣速已基本接近。氣流在吸附箱內(nèi)依然有輕微的邊流效應(yīng),但氣流的均布性已獲得較大改善,相對均方根差均在0.2 以內(nèi),氣速相對集中,>1.2 m/s 的氣流所占面積有較大下降。因此,對于設(shè)備的改進效果是良好的。
表2 改進設(shè)備各吸附箱的流量、流量偏差及截面流速分布
圖5 改進設(shè)備吸附截面速度云圖
在實際生產(chǎn)過程中,該吸附設(shè)備存在5 吸1 脫運行模式,即其中5 個吸附箱同時吸附VOCs 廢氣,另1 個吸附箱處于解吸或者備用狀態(tài),因此,需關(guān)閉其中1 個吸附箱進行模擬。明顯地,各吸附箱左右對稱,僅關(guān)閉左側(cè)吸附箱進行模擬,結(jié)果見表3、圖6 所示??梢钥闯觯P(guān)閉左1、左2、左3 任一吸附箱后,流量偏差相對較低,平均氣速均<1.2 m/s,且氣速相對均方根均<0.2,從速度云圖看,>1.2 m/s 的氣流所占面積占幅小,氣速相對集中??梢哉J(rèn)為氣流均布良好。
表3 關(guān)閉左1、左2、左3 時的模擬結(jié)果
圖6 左1、左2、左3 關(guān)閉時速度云圖
原設(shè)備經(jīng)工程改進后,噴漆線恢復(fù)生產(chǎn)。在確保活性炭均有效再生后,監(jiān)測該噴漆線有機廢氣濃度與改造前工況相似的初始噴漆時段,對比改造前后的廢氣處理效果,見圖7??梢钥闯?,在開始噴漆后的270 min 內(nèi),改進前后入口有機廢氣濃度上升趨勢及水平基本一致。對比出口濃度,改進前設(shè)備在運行一段時間后,部分活性炭材料穿透,出口濃度急劇上升。而改進后設(shè)備出口濃度緩慢上升,始終低于排放限值。說明對于設(shè)備的流場優(yōu)化改造是合適的。
圖7 設(shè)備改造前后進出口非甲烷總烴濃度對比
對于多吸附箱并聯(lián)組成的VOCs 吸附設(shè)備,各碳箱流量偏差過大及內(nèi)部流場均布不一的問題,是吸附設(shè)備凈化率低的原因之一??赏ㄟ^CFD 方法,在各碳箱入口處設(shè)置開孔不均的導(dǎo)流裝置,針對全吸或者多吸一脫的運行模式,調(diào)整碳箱之間的流量偏差及內(nèi)部流場,最終使吸附截面氣速均布且氣速<1.2 m/s,提升吸附設(shè)備對于VOCs 廢氣的凈化率。本文研究的多吸附箱吸附設(shè)備流場優(yōu)化,對于該工藝設(shè)備后續(xù)的選型設(shè)計具有一定參考意義。