阿卜杜拉國王科技大學(xué)(KAUST)首次展示的集成了具有奇異性質(zhì)的二維原子級薄材料的功能性微芯片預(yù)示著微電子學(xué)的新時(shí)代,這一突破證明了二維材料在擴(kuò)大基于微芯片技術(shù)的功能和性能方面的潛力。
自從2004年科學(xué)家首次制造出原子級石墨薄層——石墨烯以來,由于其奇特和有前途的物理特性,人們對這種材料的先進(jìn)和新型應(yīng)用產(chǎn)生了強(qiáng)烈的興趣。但是,盡管經(jīng)過二十年的研究,基于這些二維材料的功能性微器件已被證明是難以實(shí)現(xiàn)的,因?yàn)樵谥圃旌吞幚磉@種脆弱的薄膜方面存在挑戰(zhàn)。
受蘭扎實(shí)驗(yàn)室最近在功能性二維薄膜方面取得的成就的啟發(fā),KAUST領(lǐng)導(dǎo)的合作現(xiàn)在已經(jīng)生產(chǎn)并展示了一個(gè)基于二維的微芯片原型。
“我們的動機(jī)是通過使用傳統(tǒng)的硅基CMOS微電路作為基礎(chǔ)和標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù),提高基于二維材料的電子設(shè)備和電路的技術(shù)準(zhǔn)備水平,”蘭扎說?!叭欢魬?zhàn)在于合成的二維材料可能包含局部缺陷,如原子雜質(zhì),會導(dǎo)致小器件失效。而且,要把二維材料集成到微芯片中而不損壞它是非常困難的。”
研究小組優(yōu)化了芯片的設(shè)計(jì),使其更容易制造并將缺陷的影響降到最低。他們通過在芯片的一側(cè)制造標(biāo)準(zhǔn)的互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)晶體管,并將互連線輸送到底部,在那里,2D材料可以在直徑小于0.25微米的小墊子中可靠地轉(zhuǎn)移。
“我們生產(chǎn)了二維材料——銅箔上的六方氮化硼,或稱h-BN,并使用低溫濕法將其轉(zhuǎn)移到微芯片上,然后我們通過傳統(tǒng)的真空蒸發(fā)和光刻技術(shù)在上面形成電極,這些都是我們內(nèi)部擁有的工藝,”蘭扎說?!巴ㄟ^這種方式,我們生產(chǎn)了一個(gè)5×5的單晶體管/單記憶體單元陣列,以橫條矩陣連接。
二維h-BN的奇特特性在于它只有18個(gè)原子或6個(gè)納米的厚度,使它成為一個(gè)理想的“記憶體”,一個(gè)電阻元件,其電阻可由施加的電壓來設(shè)定。在這種5×5的規(guī)格中,每個(gè)微型記憶體墊都與一個(gè)專用晶體管相連。這提供了所需的精細(xì)電壓控制,使記憶體作為一個(gè)功能器件在數(shù)千次循環(huán)中具有高性能和高可靠性,在這種情況下作為一個(gè)低功率的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)元件運(yùn)行。
“有了這一旗艦性的突破,我們現(xiàn)在正與領(lǐng)先的半導(dǎo)體公司交談,以繼續(xù)朝這個(gè)方向努力,”蘭扎說?!拔覀冞€在考慮在KAUST安裝我們自己的二維材料的晶圓規(guī)模的工業(yè)加工系統(tǒng),以推進(jìn)這種能力?!?/p>