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    高密度互連技術(shù)在系統(tǒng)級(jí)封裝中的應(yīng)用

    2023-03-20 07:26:16楊鵬飛肖安云田重慶黃健銘
    印制電路信息 2023年2期
    關(guān)鍵詞:對(duì)位通孔鉆孔

    楊鵬飛 肖安云 田重慶 黃健銘

    (珠海中京電路電子有限公司,廣東 珠海 519175)

    0 引言

    系統(tǒng)級(jí)封裝(system-in-package,SiP),是一個(gè)包含多種具備不同功能器件的組合體,能提供不同的功能,形成一個(gè)系統(tǒng)或者亞系統(tǒng)。SiP可以包含源器件、無源器件、MEMS、光電子甚至已經(jīng)封裝好的器件;SiP可以有效地減小產(chǎn)品尺寸,降低功耗。因此,SiP 對(duì)印制電路板(print circuit board,PCB)提出了一些特殊要求,如對(duì)準(zhǔn)度要求高、線路密度大、半孔加工、成型公差小等。本文闡述一款6 層SiP 線路板在制程過程中的難點(diǎn)及其解決方案,供業(yè)界同行參考和借鑒。

    1 產(chǎn)品基本信息

    1.1 產(chǎn)品設(shè)計(jì)基本信息

    產(chǎn)品設(shè)計(jì)基本信息見表1,產(chǎn)品疊構(gòu)信息如圖1所示。

    表1 產(chǎn)品設(shè)計(jì)基本信息

    圖1 SiP產(chǎn)品PCB疊構(gòu)

    1.2 產(chǎn)品制作工藝流程

    開料→(L3/4)激光鉆孔→填孔電鍍→內(nèi)層線路→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層光學(xué)檢測(cè)→棕化→壓合→(L2/5)激光鉆孔→填孔電鍍→內(nèi)層線路→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層光學(xué)檢測(cè)→棕化→壓合→(L1/6)激光鉆孔→通孔鉆孔→填孔電鍍→外層線路→外層光學(xué)檢測(cè)→防焊→成型→測(cè)試→出貨前檢驗(yàn)→包裝→出貨。

    2 關(guān)鍵技術(shù)

    2.1 對(duì)準(zhǔn)度控制技術(shù)

    該P(yáng)CB 為任意層互聯(lián)的高密度互連(HDI)板,設(shè)計(jì)最小孔環(huán)為35 μm,對(duì)準(zhǔn)度要求較高。為滿足該類產(chǎn)品的對(duì)準(zhǔn)度要求,需要在制作過程中加以特殊控制,關(guān)鍵控制要點(diǎn)包括以下幾個(gè)方面。

    (1)芯板層激光鉆孔:使用機(jī)械鉆機(jī)鉆2.0 mm 通孔對(duì)位和激光1.0 mm 燒孔對(duì)位對(duì)比測(cè)試,選取激光燒出的1.0 mm 通孔對(duì)位,叉型孔兩面的對(duì)位偏差效果最佳。

    (2)芯板層線路:使用機(jī)械鉆機(jī)鉆2.0 mm 通孔和激光1.0 mm 燒孔對(duì)位對(duì)比測(cè)試,選取激光燒出的1.0 mm通孔對(duì)位,線路層兩面偏差效果最佳。

    (3)提高對(duì)準(zhǔn)度關(guān)鍵是選取的漲縮模式,其中激光鉆孔使用自動(dòng)漲縮,線路曝光采用激光直接成像技術(shù),并使用自動(dòng)漲縮曝光模式。

    采用以上應(yīng)對(duì)措施制作完成的SiP產(chǎn)品板,將整體對(duì)準(zhǔn)度控制在±25 μm 以內(nèi),符合產(chǎn)品對(duì)位要求,不同對(duì)位方式驗(yàn)證見表2。

    表2 不同對(duì)位方式驗(yàn)證

    2.2 芯板層叉型孔激光鉆孔

    由于叉型孔需要2 次激光鉆孔,加工過程中容易鉆偏,影響后面的對(duì)位。為解決鉆偏問題,通過叉型孔第1面鉆孔采用固定漲縮、第2面鉆孔采用自動(dòng)漲縮模式鉆孔,采用1.0 mm 激光燒孔對(duì)位方式實(shí)現(xiàn)激光鉆孔。制作結(jié)果顯示,可以將叉型孔兩面偏移對(duì)準(zhǔn)度控制在±15.0 μm 以內(nèi),滿足產(chǎn)品要求,叉型孔激光鉆孔切片如圖2所示。

    圖2 叉型孔激光鉆孔切片

    2.3 板彎翹控制

    產(chǎn)品板厚0.36 mm,制造過程中轉(zhuǎn)板采用酚醛墊板夾住搬運(yùn),避免板薄搬運(yùn)過程中引起品質(zhì)異常。在成型銑板后,采用氮?dú)鈮嚎敬胧?,確保將板彎翹控制在客戶要求(0.5%)范圍內(nèi)。

    2.4 線路制作

    本項(xiàng)目產(chǎn)品線路設(shè)計(jì)復(fù)雜,最小線寬距、線距分別為40 μm 和45 μm。為了保證線路制作的良率,關(guān)鍵控制要求如下。

    (1)將填孔后填孔的表面銅厚控制在(18±2.5)μm范圍,保證線寬蝕刻的均勻性。

    (2)使用15 μm 薄干膜自動(dòng)壓膜,嚴(yán)禁手動(dòng)切膜,避免出現(xiàn)碎屑等影響線路質(zhì)量的問題,提高線路制作的精度和合格率。

    (3)采用激光直接成像技術(shù),曝光前對(duì)激光直接成像機(jī)臺(tái)實(shí)施保養(yǎng)清潔,避免臺(tái)面膜屑反粘,減少出現(xiàn)膜屑等影響線路質(zhì)量的問題,提高線路制作的精度和合格率。

    通過對(duì)以上關(guān)鍵點(diǎn)的控制,可確保將線路良率控制在95%以上,線路制程能力指數(shù)Cpk 大于1.33,符合產(chǎn)品要求。

    2.5 防焊制作

    該產(chǎn)品為半孔設(shè)計(jì),油墨厚度將直接影響半孔位置的油墨入孔。該產(chǎn)品防焊焊球陣列封裝(ball grid array,BGA)開窗設(shè)計(jì)尺寸約為100 μm,防焊油墨厚度將會(huì)影響開窗大小??刂品篮赣湍穸仁瞧焚|(zhì)關(guān)鍵,控制重點(diǎn)如下。

    (1)網(wǎng)版采用51目網(wǎng)版,成品油墨厚度內(nèi)控管控在(10±5)μm內(nèi)。

    (2)防焊曝光采用直接成像(direct imaging,DI)生產(chǎn)。

    (3)防焊控制一次良率,禁止退洗重工。

    采用上述應(yīng)對(duì)措施,可將防焊良率控制在98.5%以上,油墨入孔控制符合產(chǎn)品要求。

    2.6 半孔成型

    工藝對(duì)比測(cè)試如圖3所示。

    圖3 半孔不同銑板方式測(cè)試

    由圖3(a)可知,采用普通銑刀和主軸正轉(zhuǎn),半孔角懸空不受力的位置容易產(chǎn)生披鋒;由圖3(b)可知,采用主軸正/反轉(zhuǎn),搭配正/反旋銑刀方式,可以實(shí)現(xiàn)直接銑半孔板的能力提升,產(chǎn)品符合品質(zhì)要求。

    3 可靠性測(cè)試

    產(chǎn)品可靠性測(cè)試見表3。

    表3 產(chǎn)品可靠性測(cè)試

    4 結(jié)語

    SiP對(duì)產(chǎn)品各制程中的難點(diǎn)進(jìn)行技術(shù)突破,在叉型孔激光加工尺寸、盲孔填孔、外層光學(xué)檢測(cè)、防焊和成型測(cè)試方面均獲得技術(shù)突破,產(chǎn)品全部通過可靠性認(rèn)證。此類板比傳統(tǒng)HDI 板更注重過程管控,對(duì)各關(guān)鍵工序的作業(yè)能力提出挑戰(zhàn),在制作中要加強(qiáng)對(duì)各關(guān)鍵工序規(guī)范作業(yè)的關(guān)注,并以此提出了更高的要求。

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