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      Ru摻雜MoS2對SO2F2和H2S氣體吸附的第一性原理研究

      2023-03-14 13:51:30張瑞恩陳林聰李欣然趙海龍符小桃范曉舟雷添翔
      人工晶體學(xué)報 2023年2期
      關(guān)鍵詞:雜化空位單層

      張瑞恩,陳林聰,李欣然,趙海龍,符小桃,范曉舟,雷添翔

      (1.海南電網(wǎng)有限責(zé)任公司電力科學(xué)研究院,???570311;2.海南省電網(wǎng)理化分析重點(diǎn)實驗室,???570311;3.華北電力大學(xué),保定 071003)

      0 引 言

      SF6氣體具有優(yōu)異的物理化學(xué)性能、滅弧性能以及極強(qiáng)的絕緣性能,被廣泛應(yīng)用于電力行業(yè)中,比如氣體絕緣組合電器(gas insulated switchgear, GIS)[1-3]。但在長期高壓運(yùn)行后,此類設(shè)備可能會產(chǎn)生絕緣缺陷,引起設(shè)備內(nèi)部局部放電、火花放電或電弧放電等故障。SF6氣體會發(fā)生分解并與微量氧氣和水分二次反應(yīng)生成SO2、SOF2和SO2F2,這不僅會降低SF6的絕緣性能,若這些有毒氣體直接排放到大氣中,還將對人類健康構(gòu)成威脅[4-7]。在這些產(chǎn)物中,SO2F2和H2S占比較大。早期放電故障不易通過定期檢查或離線檢測等發(fā)現(xiàn),而檢測SO2F2和H2S可以有效反映放電故障的嚴(yán)重程度[4]。因此,檢測SO2F2和H2S是判斷SF6絕緣設(shè)備內(nèi)部放電故障類型和嚴(yán)重程度的有效在線監(jiān)測手段,為SF6氣體絕緣設(shè)備的可靠運(yùn)行提供保障。

      MoS2作為二維(two dimension, 2D)層狀納米材料,具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性、高電子遷移率和穩(wěn)定的半導(dǎo)體性能(其帶隙為1.9 eV)[8-10],成為近年來類石墨烯二維材料的研究熱點(diǎn)之一[11]。近期研究已經(jīng)證明,與本征MoS2相比,過渡金屬(transition metal, TM)摻雜的單層MoS2對氣體分子的吸附性能大幅增強(qiáng),因為摻雜原子可以有效調(diào)節(jié)MoS2表面的電子分配,在摻雜原子位置處發(fā)生電子密度局域化[12]。多項研究表明,摻雜TM的單層MoS2對CO和NO等常見氣體具有快速的傳感響應(yīng)和高靈敏度[12-13]。研究者通過理論仿真研究了10種TM摻雜的MoS2對CO、NO、O2、NO2和NH3吸附性能的影響,發(fā)現(xiàn)與本征MoS2相比,摻雜表面對氣體分子的化學(xué)活性和吸附性能有顯著提高,吸附能可達(dá)3.12 eV[14]。另外,有研究表明Cu摻雜的單層MoS2對一些有毒氣體具有化學(xué)吸附作用[12],這說明TM摻雜的單層MoS2(TM-MoS2)在氣體傳感應(yīng)用中具有巨大潛力。

      根據(jù)研究發(fā)現(xiàn),TM摻雜的單層MoS2在吸附性能、化學(xué)活性和靈敏度方面比本征MoS2具有更優(yōu)異的性能[14-16]。原因主要有兩方面:1)TM原子摻雜引起的自由電子數(shù)量增加,可以提高單層MoS2的電導(dǎo)率;2)TM原子和氣體分子之間的軌道雜化,可以使單層MoS2的氣體吸附性能得到改善[17]。在眾多TM元素中,釕(Ru)在氣體相互作用中表現(xiàn)出很強(qiáng)的催化性能[18-20]。多項研究表明,單硫空位是非常常見的點(diǎn)缺陷結(jié)構(gòu),其中的硫空位可以被過渡金屬原子替代填充[21-23]。因此可以預(yù)測,通過Ru原子空位摻雜的改性方式能提高單層MoS2吸附性能。本文基于第一性原理提出Ru摻雜的單層MoS2(Ru-MoS2)作為檢測SF6的分解組分SO2F2和H2S的傳感材料。通過吸附體系的幾何構(gòu)型、電子轉(zhuǎn)移、態(tài)密度、能帶結(jié)構(gòu),深入探索Ru-MoS2對SO2F2和H2S的氣敏性能影響,闡明Ru-MoS2檢測氣體的氣敏傳感機(jī)制,為SF6分解組分的在線監(jiān)測提供理論依據(jù)。

      1 仿真模型的建立

      基于密度泛函理論(density functional theory, DFT)的第一性原理,本文建立本征和Ru摻雜單層MoS2的模型,研究Ru-MoS2對SO2F2和H2S的氣敏性能和傳感機(jī)制。利用Materials Studio軟件中的DMol3模塊對單層Ru-MoS2的吸附模型進(jìn)行幾何優(yōu)化計算,以保證模型結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性[24-26]。首先,建立SO2F2和H2S分子模型,進(jìn)行幾何優(yōu)化以得到最穩(wěn)定的分子結(jié)構(gòu),優(yōu)化后氣體分子結(jié)構(gòu)如圖1所示。然后從數(shù)據(jù)庫中導(dǎo)出MoS2的最小晶胞,顯示方式設(shè)置為球棍模型,取消模型的對稱性,構(gòu)建4×4×1的MoS2超晶胞結(jié)構(gòu)模型并進(jìn)行結(jié)構(gòu)優(yōu)化。然后建立Ru-MoS2晶面模型,幾何優(yōu)化后得到最穩(wěn)定的摻雜結(jié)構(gòu)。最后構(gòu)建Ru-MoS2吸附優(yōu)化后的氣體分子模型,經(jīng)優(yōu)化后得到最穩(wěn)定的吸附結(jié)構(gòu)。

      圖1 氣體分子的幾何結(jié)構(gòu)

      本研究中所有的幾何結(jié)構(gòu)優(yōu)化和計算均采用廣義梯度近似(generalized gradient approximation, GGA)中的Perdew-Burke-Ernzerhof(PBE)泛函處理交換關(guān)聯(lián)能[27-29]。考慮到范德瓦耳斯力對吸附效果的影響,本文采用GRIMME提出的DFT-D2方法來進(jìn)行迭代過程的校正色散。在所有電荷密度和能量的計算中,布里淵區(qū)k點(diǎn)網(wǎng)格設(shè)置為10×10×1以提高計算的準(zhǔn)確度[30]。迭代收斂的能量的最大差值、原子受力的最大值和原子的最大位移值分別設(shè)置為1×10-4Ha、2×10-3Ha/nm和5×10-3nm,自洽計算收斂條件、截止半徑和展寬分別設(shè)置為10-6Ha、0.5 nm和0.005 Ha,以確保總能量的準(zhǔn)確性。

      4×4×1的MoS2超晶胞包含共32個S原子和16個Mo原子,真空區(qū)域設(shè)置為2 nm,以防止相鄰單元之間的相互作用。根據(jù)先前的研究報告,優(yōu)化的單層MoS2的晶格常數(shù)為0.318 nm。吸附體系中的吸附能(Ead)計算方式為:

      Ead=ERu-MoS2/gas-ERu-MoS2-Egas

      (1)

      式中:ERu-MoS2/gas、ERu-MoS2和Egas分別為氣體吸附體系、吸附前的Ru-MoS2和游離的氣體分子的能量。若計算的Ead<0,則表示在氣體吸附過程為放熱反應(yīng),說明該反應(yīng)能夠自發(fā)進(jìn)行,Ead的絕對值越大,說明吸附過程的總能量變化越大,表示晶面與氣體分子之間的作用力越強(qiáng)。本研究采用Hirshfeld方法來分析氣體分子與吸附表面之間的電荷轉(zhuǎn)移(QT),并且僅討論氣體吸附的最穩(wěn)定構(gòu)型(most stable configurations, MSC)。

      2 傳感器吸附性能分析

      2.1 Ru-MoS2及氣體模型的結(jié)構(gòu)分析

      圖1展示了兩種氣體SO2F2和H2S優(yōu)化后的結(jié)構(gòu)。從圖1(a)可以看出,SO2F2分子中S—F和S—O的鍵長分別為0.161 1 nm和0.144 1 nm。由于H原子的半徑小于F和O原子的半徑,因此H2S分子中S—H的鍵長(0.135 6 nm)比圖1(a)中SO2F2分子中S—F和S—O的鍵長短。

      圖2(a)和(b)分別展示了經(jīng)優(yōu)化后得到的Ru-MoS2的MSC和相關(guān)的差分電荷密度(electron density difference, EDD)的俯視圖和正視圖,以便更好地觀察其結(jié)構(gòu)和電子云。據(jù)研究表明,單硫空位是過渡金屬二鹵化物中最常見的點(diǎn)缺陷結(jié)構(gòu)。在Ru-MoS2中,S空位比Mo空位的形成能低,因此,相比Mo空位來說,Ru原子更容易摻雜到S空位中。為確定Ru-MoS2的化學(xué)穩(wěn)定性,計算了Ru原子和含S空位缺陷的單層MoS2間的Ead。根據(jù)計算結(jié)果,Ru-MoS2的結(jié)合強(qiáng)度(-4.78 eV)遠(yuǎn)大于本征MoS2,這表明其化學(xué)穩(wěn)定性較本征MoS2大幅提高。本文利用Ru原子填充S空位,與相鄰的Mo原子形成三個新的化學(xué)鍵,其鍵長均為0.264 7 nm。根據(jù)Hirshfeld法可以發(fā)現(xiàn),Ru原子在Ru-MoS2體系中作為電子供體,在摻雜過程中,0.097 e從Ru原子轉(zhuǎn)移到單層MoS2,其中Mo原子作為電子受體。如圖2(b)所示,電子聚集主要集中在Mo原子和Mo—Ru周圍,這說明了Mo—Ru的形成,而電子損失則主要集中在Ru原子周圍。這些現(xiàn)象充分展現(xiàn)Ru原子與相鄰原子間的電子雜化,這也與Hirshfeld分析結(jié)果一致。

      圖2 Ru-MoS2的MSC和EDD

      為進(jìn)一步研究Ru原子摻雜對單層MoS2電子性能的影響,對Ru原子摻雜前后體系的能帶結(jié)構(gòu)(band structure, BS)、總態(tài)密度(total density of state, TDOS)和分波態(tài)密度(partial density of state, PDOS)進(jìn)行了深入分析。多項研究表明,本征MoS2的帶隙高達(dá)1.9 eV,具有顯著的半導(dǎo)體特性,這意味著電子從價帶躍遷到導(dǎo)帶需要很大的能量。如圖3(a)所示,由于Ru原子的摻雜,MoS2的帶隙大幅降低至0.082 eV,說明單層MoS2的電導(dǎo)率升高。圖3(b)展示了Ru原子摻雜單層MoS2的總態(tài)密度變化情況,Ru-MoS2的態(tài)密度相對本征MoS2向左移動,并且總態(tài)密度的形態(tài)與本征MoS2相似,這說明Ru原子的摻雜沒有改變MoS2原本的晶體結(jié)構(gòu)。另外,Ru-MoS2的費(fèi)米能級附近產(chǎn)生了新的峰,說明電子更容易從費(fèi)米能級左邊躍遷到費(fèi)米能級右邊,即Ru原子的摻雜提高了單層MoS2的電導(dǎo)率。從圖3(c)的分波態(tài)密度可知,Ru 4d和Mo 4d軌道在-6.25~1.9 eV處存在明顯的重疊峰,表明軌道間存在強(qiáng)烈的雜化,也說明了Ru—Mo化學(xué)鍵的形成。

      圖3 Ru-MoS2體系的BS、TDOS和PDOS。BS中的值是帶隙,DOS中的虛線是費(fèi)米能級

      2.2 Ru-MoS2對氣體的吸附計算和結(jié)構(gòu)分析

      為探究Ru-MoS2對SO2F2和H2S的吸附性能,分別建立了其對兩種氣體的吸附模型,圖4和5展示了兩個吸附體系經(jīng)優(yōu)化計算得到的MSC和EDD。根據(jù)式(1)計算了SO2F2和H2S吸附體系的參數(shù)并列于表1中。其中,Ru-MoS2晶面與氣體分子之間的QT表示氣體被吸附后的電子攜帶數(shù)。QT為負(fù)值時表明氣體分子從Ru-MoS2晶面接收電荷,說明氣體吸附后,晶體電導(dǎo)率降低,電阻升高。QRu表示Ru原子在吸附體系中的攜帶電子數(shù)。

      表1 Ru-MoS2吸附SO2F2和H2S的參數(shù)

      圖4 Ru-MoS2/SO2F2體系的MSC和EDD

      圖4(a)為Ru-MoS2吸附SO2F2的MSC。可以發(fā)現(xiàn),SO2F2分子被吸附在Ru-MoS2上,形成一個新的共價鍵,即Ru—S鍵,其鍵長為0.232 5 nm,這表明Ru原子和SO2F2分子之間存在很強(qiáng)的鍵合力。由圖4(a)中的正視圖可看出,在吸附SO2F2分子后,Ru原子的位置相比圖2(a)發(fā)生了較明顯的形變。由表1可知,SO2F2在Ru-MoS2上的吸附能為-1.52 eV,說明該吸附可以自發(fā)穩(wěn)定進(jìn)行,且吸附能大于臨界值0.8 eV,該吸附被歸為化學(xué)吸附,也反映了吸附作用的強(qiáng)烈。此外,SO2F2的吸附過程中QT為-0.237 e,說明0.237 e從Ru-MoS2轉(zhuǎn)移到SO2F2分子,吸附體系的電導(dǎo)率降低。另一方面,Ru原子攜帶電子數(shù)為0.087 e,說明Ru原子在氣體吸附過程中失電子,這與圖4(b)中的電子雜化相一致??傊谖竭^程中,Ru-MoS2的結(jié)構(gòu)形變以及電子轉(zhuǎn)移說明Ru原子摻雜可以促進(jìn)Ru-MoS2與SO2F2分子之間化學(xué)反應(yīng)的發(fā)生和電子的重新分配。

      經(jīng)優(yōu)化后的Ru-MoS2吸附H2S氣體分子的模型如圖5所示。吸附后的H2S分子與晶面之間形成一個新的化學(xué)鍵,由于S原子的電負(fù)性較強(qiáng),其離Ru原子較近,而H原子離Ru原子較遠(yuǎn)。Ru-MoS2吸附H2S分子的吸附能Ead為-2.11 eV,說明相比SO2F2,Ru-MoS2與H2S分子間具有更強(qiáng)的化學(xué)相互作用。根據(jù)Hirshfeld法計算得到QT為-0.159 e,表明H2S分子表現(xiàn)為電子受體,而Ru原子攜帶電子數(shù)為0.056 e,說明了Ru原子的失電子特性。如圖5(b)所示,H2S分子和Ru原子間主要被電子損失區(qū)域所包圍,這表明它們在氣體吸附過程中失電子。而Ru—S鍵上大量的電子聚集區(qū)域說明Ru原子與S原子之間存在強(qiáng)烈的電子雜化并且反映了Ru—S鍵的形成,這與上述Hirshfeld分析結(jié)果一致。

      圖5 Ru-MoS2/H2S體系的MSC和EDD

      2.3 Ru-MoS2對氣體的吸附性能研究

      圖6顯示了SO2F2和H2S吸附體系的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度,以更深入地探究Ru-MoS2晶面與氣體分子間的相互作用。圖6(a1)和(b1)分別為SO2F2和H2S吸附體系的能帶結(jié)構(gòu)。與Ru-MoS2體系相比,SO2F2和H2S體系中的帶隙分別增加到0.086和0.091 eV,這說明吸附這兩種氣體后Ru-MoS2的電導(dǎo)率得到不同程度地降低,其中H2S吸附體系中電子躍遷難度更大,也說明Ru-MoS2對H2S氣體分子的傳感響應(yīng)相較于SO2F2更強(qiáng)。

      圖6(a2)展示了SO2F2吸附系統(tǒng)的TDOS。從圖中可以看出,TDOS曲線整體出現(xiàn)明顯的右移,費(fèi)米能級增大,電子跨越費(fèi)米能級的難度增大,說明SO2F2吸附系統(tǒng)的電導(dǎo)率降低,這與能帶分析的結(jié)果一致。吸附SO2F2氣體分子后,SO2F2吸附系統(tǒng)的TDOS曲線與Ru-MoS2體系相比,在-9、-8.5、-7 eV附近出現(xiàn)了3個新峰。對照圖6(a3)中的SO2F2的態(tài)密度圖可知,SO2F2吸附系統(tǒng)的TDOS曲線的變化與吸附SO2F2有關(guān)。除此之外,氣體吸附前后的曲線大部分一致,表現(xiàn)出Ru原子摻雜的強(qiáng)電子活性。由圖6(a4)可知,SO2F2氣體吸附前后波形的變化主要是由Ru 4d和S 3p之間的雜化引起的,Ru 4d軌道和S 3p軌道在-6.25~2 eV存在大量的重疊,說明了Ru和S原子間的強(qiáng)相互作用。

      如圖6(b2)所示,H2S吸附體系的TDOS曲線整體向左偏移,在-7.5 eV附近出現(xiàn)新的態(tài)密度峰,吸附H2S氣體后Ru-MoS2晶面的態(tài)密度出現(xiàn)變化,說明H2S的吸附對單層的電荷分布有較大影響,導(dǎo)致晶面電導(dǎo)率發(fā)生變化,這是由于單層Ru-MoS2吸附了H2S氣體分子,同時H2S分子的DOS曲線也相應(yīng)產(chǎn)生形變。由圖6(b4)可知,在H2S吸附體系中,由于Ru 4d軌道和S 3p軌道之間的雜化,在-7~1.5 eV具有明顯的峰值重疊,其重疊區(qū)域大于SO2F2吸附系統(tǒng)中的Ru 4d軌道和S 3p軌道雜化的重疊區(qū)域,表明H2S體系中的軌道雜化程度更深,也說明Ru-MoS2吸附H2S氣體分子的強(qiáng)度更大。

      圖6 SO2F2吸附體系(a1)~(a4)和H2S吸附體系(b1)~(b4)的BS和DOS。虛線是費(fèi)米能級

      綜上所述,Ru-MoS2吸附SO2F2和H2S氣體均為化學(xué)吸附,Ru-MoS2晶面吸附氣體后導(dǎo)電性均降低,其中吸附H2S氣體后導(dǎo)電性有更明顯的降低,在實際的氣體檢測中材料對H2S氣體的靈敏度更高。

      2.4 Ru-MoS2的恢復(fù)性能研究

      基于以上分析,可以發(fā)現(xiàn)Ru-MoS2對H2S和SO2F2分子的吸附性能都相當(dāng)優(yōu)異,均屬于化學(xué)吸附,但相比于H2S,Ru-MoS2對SO2F2分子的吸附性能稍弱。因此,可以推斷出H2S分子難以從Ru-MoS2上脫附,而SO2F2分子將更容易脫附。為了研究該氣體傳感器的可重復(fù)性,減少Ru-MoS2對氣體解吸附的恢復(fù)時間(τ)對其潛在應(yīng)用具有重要意義。恢復(fù)時間的理論計算公式如下所示:

      τ=A-1e(-Ea/kT)

      (2)

      式中:A是嘗試頻率(1012s-1);T是溫度;k是玻爾茲曼常數(shù);Ea是勢壘,在本文中等于Ead。由公式(2)可知,Ead越大,氣體解吸附的難度會相應(yīng)增加,而采取提高溫度的方法可以有效地加速解吸附過程。因此,如圖7所示,本文記錄了不同氣體在不同溫度(298、448和598 K)下的恢復(fù)時間,根據(jù)溫度對τ的影響來分析Ru-MoS2對氣體的解吸附性能。

      圖7 兩種氣體吸附系統(tǒng)在不同溫度下的恢復(fù)時間

      如圖7所示,在室溫下,從Ru-MoS2上解吸附SO2F2和H2S相當(dāng)困難,恢復(fù)時間隨溫度的升高而下降??梢园l(fā)現(xiàn),在598 K溫度下,SO2F2吸附體系的恢復(fù)時間下降到6.40 s,這意味著Ru-MoS2這一氣敏材料可以在598 K溫度下重復(fù)使用。此外,由于SO2F2分子與Ru-MoS2的結(jié)合力較弱,SO2F2吸附體系在不同溫度下的恢復(fù)時間都低于H2S體系。說明Ru-MoS2對H2S化學(xué)吸附更強(qiáng)。因此,對于SF6分解氣體,Ru-MoS2是一種有前景的傳感材料,可通過升高溫度縮短恢復(fù)時間。

      3 結(jié) 論

      本文利用第一性原理探索Ru-MoS2對SF6分解產(chǎn)物中兩種主要成分SO2F2和H2S的傳感性能,以此判斷該材料是否可以作為吸附這些氣體的傳感材料。對于該傳感材料,Ru原子填充在單層MoS2的硫空位上,與相鄰的Mo原子發(fā)生電子雜化。通過仿真計算可知,SO2F2和H2S吸附體系的Ead分別為-2.11和-1.52 eV,均歸類為化學(xué)吸附。其中Ru-MoS2對H2S氣體的吸附性能更強(qiáng),BS和DOS分析進(jìn)一步證實了這一點(diǎn),同時本文也闡述了Ru-MoS2作為電阻式氣體傳感器在氣體吸附時的傳感機(jī)制。此外,本文計算了Ru-MoS2對SF6絕緣裝置故障產(chǎn)生的SO2F2和H2S解吸附的恢復(fù)時間,展示了其在高溫下的可恢復(fù)性。綜上所述,Ru-MoS2對SF6分解氣體SO2F2和H2S有很好的吸附性能,是一種很有前景的氣體傳感材料。

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