閻紅娟,劉懿鋒,米智豐,司麗娜,豆照良,劉峰斌
(北方工業(yè)大學(xué) 機(jī)械與材料工程學(xué)院,北京 100144)
螺旋槳和水輪機(jī)等設(shè)備高速旋轉(zhuǎn)時(shí),對(duì)流部位因空化腐蝕,嚴(yán)重時(shí)使工件表面發(fā)生脆性斷裂和塑性變形,造成嚴(yán)重的損傷,會(huì)引起部件失效,不僅大幅度地提高水利機(jī)械的成本,降低了設(shè)備使用的安全性[1-2]。目前通過優(yōu)化關(guān)鍵零部件外形[3]、開發(fā)抗空蝕性能優(yōu)異的材料[4]和研制抗空蝕性能的涂層材料[5-6]等途徑改善設(shè)備的抗空蝕性能,而涂層材料既可以節(jié)省材料又可以改善基體的性能,成為一種經(jīng)濟(jì)有效的方法。
常用的抗空蝕涂層有鎳鋁青銅合金[6]、鎳基合金涂層[7]、鈷基合金涂層[8]、不銹鋼涂層[9]、WC基陶瓷涂層[10-12]、TiNi合金涂層[13-14]、高熵合金涂層[15-18]等。其中,高熵合金因高強(qiáng)度、高塑性、良好的耐磨性和耐蝕性被廣泛應(yīng)用于耐空蝕涂層[4, 15-18]。CuAlNiTiSi中熵涂層由體心立方固溶體和納米晶相組成,比鋁青銅具有更高的硬度、力學(xué)性能和耐蝕性[16],涂層的空蝕損傷機(jī)制為疲勞破壞和層狀剝落。FeCoCrAlNi高熵合金具有體心立方結(jié)構(gòu),顯微硬度和耐蝕性分別是是304不銹鋼的3倍和7倍[17]。在蒸餾水和3.5%NaCl溶液中AlCoCrFeNi涂層的抗氣蝕性能是06Cr13Ni5Mo鋼的3.5倍左右,空蝕機(jī)理是層間裂紋擴(kuò)展引起的層狀剝落[18]。綜上所述,高熵合金的涂層能有效提高基體的硬度,改善基體的抗空蝕性能。本文擬選用等元素比例的NiTiAlCr中熵合金靶,采用磁控濺射技術(shù),通過改變通入氬氣與氮?dú)獾谋壤?04不銹鋼基體和單晶硅片上制備NiTiAlCrN陶瓷涂層,探究該涂層在3.5%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))NaCl溶液環(huán)境下的抗空蝕性能和抗空蝕機(jī)理。
使用JCP-350M2型高真空多功能磁控鍍膜儀在304不銹鋼基體和單晶硅片沉積NiTiAlCrN涂層。304不銹鋼基體尺寸為Φ20 mm×3 mm,鏡面加工;單晶硅片尺寸為10 mm×10 mm×1 mm?;w和單晶硅片分別用蒸餾水、無水乙醇、丙酮超聲清洗15 min,吹干后固定在可旋轉(zhuǎn)的基片架上。Ti靶安裝在直流電源上,鍍膜前對(duì)真空腔抽真空氣壓達(dá)到3×10-3Pa,打開110 W直流電源。打開基片偏壓電源調(diào)到-600 V,開啟基片旋轉(zhuǎn),打開基片擋板。通入Ar氣,使用Ar離子轟擊清洗基片表面,清洗時(shí)間為10 min。然后將基片偏壓電源調(diào)到-100 V,開啟基片加熱到60 ℃左右,關(guān)閉基片擋板,打開靶材擋板,先進(jìn)行5 min預(yù)濺射清除靶材表面雜質(zhì)。隨后通入反應(yīng)氣體N2氣,保持N2氣的流量不超過Ar氣的1/4,打開基片擋板,在基體上沉積60 min的TiN作為過渡層。NiTiAlCr靶材安裝在直流電源上,通過改變Ar與N2通入含量的比例(氮?dú)辶髁勘纫姳?),在基體上制備不同N元素含量的NiTiAlCrN涂層。
采用日本Rigaku(理學(xué))Ultima IV X 射線衍射儀分析NiTiAlCrN涂層的相結(jié)構(gòu),銅靶(Cu-Kα) X射線,波長0.15406 nm,電壓40 kV,電流為40 mA,掃描速度為8°/min,測(cè)試步長為0.02°,掃描角度為20°~100°。采用Cart Zeiss Sigma-300 掃描電子顯微鏡(SEM)觀察NiTiAlCrN涂層表面形貌和截面形貌,并使用EDS分析沉積態(tài)和磨痕表面的元素分布。采用安東帕UNHT納米壓痕儀測(cè)量NiTiAlCrN涂層的硬度和彈性模量,壓頭形狀為玻式針尖,針尖曲率半徑為100 nm,最大加載載荷為4 mN, 加載速率為20 mN/min,卸載速率為20 mN/min,每個(gè)樣品隨機(jī)取5個(gè)點(diǎn),計(jì)算平均硬度和彈性模量。采用超聲振動(dòng)空蝕機(jī)進(jìn)行空蝕實(shí)驗(yàn),選用3.5%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))NaCl溶液作為流體介質(zhì),涂層表面與振動(dòng)頭頂端間距為0.5 mm,振動(dòng)頭頂端直徑為Φ20 mm,樣品表面浸入流體介質(zhì)的深度為(25±5)mm,燒杯外用循環(huán)水冷卻,將溫度保持在(25±5)℃,功率為1 200 W,頻率為20 kHz,振幅為25 μm,每空蝕2 h將試樣拿出,用無水乙醇進(jìn)行超聲清洗,使用精度為0.1 mg的HUAZHI電子天平稱其質(zhì)量損失,空蝕實(shí)驗(yàn)總時(shí)長為12 h。
表1 氮?dú)辶髁勘萒able 1 Nitrogen-argon flow ratio
圖1為不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層在EDS能譜儀下的元素含量。從圖1中可以看出,隨著通入氮?dú)辶髁勘壤黾?,涂層中的N元素原子占比呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢(shì)。氮?dú)馀c氬氣流量比例為1∶1時(shí),涂層中N含量最高,達(dá)到41.42%(原子分?jǐn)?shù)),其余4種元素的占比基本相同,與靶材中的元素組成一致。
圖1 NiTiAlCrN涂層的各元素含量Fig.1 Contents of elements in NiTiAlCrN coating
圖2為不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層的截面形貌和表面形貌。NiTiAlCrN涂層截面形貌從上到下依次是NiTiAlCrN涂層、TiN過渡層和基體。NiTiAlCrN涂層以柱狀晶的形式生長,其中生長方向與基體的方向垂直,通入氮?dú)馀c氬氣流量比例為1∶1時(shí),涂層晶粒細(xì)化,結(jié)構(gòu)致密。涂層均表面光滑,氮?dú)馀c氬氣流量比例為1∶2時(shí),表面粗糙度最高。
圖2 不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層的截面形貌和表面形貌:(a)V(N2)∶V(Ar)=1∶2的截面形貌;(b)V(N2)∶V(Ar)=1∶1的截面形貌;(c)V(N2)∶V(Ar)=3∶2的截面形貌;(d)V(N2)∶V(Ar)=1∶2的表面形貌;(e)V(N2)∶V(Ar)=1∶1的表面形貌;(f)V(N2)∶V(Ar)=3∶2的表面形貌Fig.2 Cross-sectional and surface images of NiTiAlCrN coatings with different N2/Ar flow ratio Cross-sectional morphology of (a) V(N2)∶V(Ar)=1∶2, (b) V(N2)∶V(Ar)=1∶1, (c) V(N2)∶V(Ar)=3∶2, and surface images of (d) V(N2)∶V(Ar)=1∶2, (e) V(N2)∶V(Ar)=1∶1, (f) V(N2)∶V(Ar)=3∶2
圖3為不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層的XRD圖譜。可以看出,該涂層主要由CrN、TiN、Ni0.3-Ti0.7N和AlN相以及少量的Ni3Ti和AlNi3等相組成。通入N2后,涂層中出現(xiàn)了CrN、TiN、Ni0.3Ti0.7N和AlN等面心立方相結(jié)構(gòu),在(111)晶面和(200)晶面出現(xiàn)擇優(yōu)取向,氮?dú)馀c氬氣流量比例為1∶1時(shí),(111)晶面衍射峰最強(qiáng)。
圖3 不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層的XRD圖譜Fig.3 XRD patterns of NiTiAlCrN coatings with differentnitrogen-argon flow ratio
圖4為不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層的平均納米硬度、彈性模量和H/E、H3/E2。其中氮?dú)辶髁勘葹?∶1涂層時(shí)納米硬度最高,為(15.426±0.460)GPa,彈性模量為(282.097±9.625)GPa;氮?dú)辶髁勘葹?∶2時(shí)涂層納米硬度最低,為(12.430±0.624)GPa,彈性模量略大于1∶1時(shí)涂層的彈性模量。氮?dú)辶髁勘葹?∶2時(shí)涂層時(shí)硬度略小于1∶1時(shí)的涂層硬度,彈性模量最小,為(240.364±12.864)GPa。眾所周知,氮化物性能明顯優(yōu)于金屬材料,通入N2氣后形成的CrN、TiN、Ni0.3Ti0.7N和AlN等氮化物相,強(qiáng)化了NiTiAlCrN涂層性能。當(dāng)?shù)獨(dú)辶髁勘葹?∶1涂層時(shí),涂層中N含量最高,且(111)晶面衍射峰最高,此時(shí)結(jié)晶程度高,因此NiTiAlCrN涂層硬度最高。
圖4 不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層的(a)平均硬度和平均彈性模量;(b)H/E和H3/E2Fig.4 (a) Hardness and elastic modulus and (b) H/E and H3/E2 of NiTiAlCrN coatings with different nitrogen-argon flow ratio
根據(jù)Leyland理論,H/E表示涂層被破壞時(shí)所需的彈性勢(shì)能,H/E越大,說明涂層的韌性越強(qiáng),H3/E2表示剛性球?qū)椥员P的接觸屈服壓應(yīng)力,H3/E2越大,說明涂層抵抗塑性變形的能力越強(qiáng)[19]。圖中可知,隨著通入氮?dú)獾谋壤饾u增多,H/E和H3/E2均呈上升趨勢(shì),氮?dú)馀c氬氣流量比例3∶2時(shí)涂層的韌性和塑性能力最好。
圖5為不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層以及304不銹鋼的質(zhì)量損失與空蝕時(shí)間的關(guān)系曲線。可看出涂層的抗空蝕性能是遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于304不銹鋼基片的,在NiTiAlCrN涂層中,氮?dú)辶髁勘葹?∶1的涂層質(zhì)量損失最小,抗空蝕性能最佳。其原因是此時(shí)NiTiAlCrN涂層硬度和H/E最高,此時(shí)涂層具有較高的硬度和韌性,因此抗空蝕性能較好。
圖5 NiTiAlCrN涂層與304基體的質(zhì)量損失與空蝕時(shí)間關(guān)系曲線Fig.5 Relationship between mass loss and cavitation time of NiTiAlCrN coating and 304 substrate
圖6為不同氮?dú)辶髁勘认翹iTiAlCrN涂層空蝕12 h后的表面形貌,附著在表面上的小顆粒為空蝕夾具上的銅粒。空蝕12 h后涂層的表面粗糙度沒有明顯變化,說明涂層的具備良好的力學(xué)性能,氮?dú)辶髁勘葹?∶2的涂層空蝕12 h后的表面有大面積的涂層脫落,空蝕坑的數(shù)量較多;氮?dú)辶髁勘葹?∶2的涂層空蝕12 h后表面無大面積的涂層脫落現(xiàn)象,空蝕坑較少,并且涂層脫落處可能由空蝕坑的進(jìn)一步擴(kuò)大而形成的;氮?dú)辶髁勘葹?∶1的涂層空蝕12 h后表面的涂層脫落處和空蝕坑的數(shù)量均較少,其抗空蝕的效果最佳,與圖5中質(zhì)量損失曲線分析結(jié)果相一致。
圖6 不同N2分量下NiTiAlCrN涂層空蝕12 h后的表面形貌: (a)V(N2/V(Ar)=1∶2;(b)V(N2/V(Ar)=1∶1;(c)V(N2/V(Ar)=3∶2Fig.6 Surfaceimages of NiTiAlCrN coatings with different nitrogen-argon flow ratio after cavitation (a)V(N2/V(Ar)=1∶2, (b)V(N2/V(Ar)=1∶1, (c)V(N2/V(Ar)=3∶2
圖7為氮?dú)辶髁勘葹?∶2時(shí),單個(gè)空蝕坑局部放大的元素分布圖??梢钥闯觯瘴g坑內(nèi)的涂層剝落,露出304不銹鋼基底。在空蝕坑的內(nèi)壁Ni、Ti、Al、Cr 4種元素均勻分布,空蝕過程中生成了Cr2O3、Al2O3、NiO、TiO2等氧化物,抵抗了空蝕作用時(shí)小顆粒帶來的沖擊,其中TiO2、Cr2O3和Al2O3、的結(jié)構(gòu)致密,抗空蝕性好,NiO在高溫環(huán)境下可與Cr2O3反應(yīng)生成NiCr2O4的尖晶石相,提高了涂層的抗空蝕能力。
圖7 空蝕坑的元素分布(a)空蝕坑表面形貌;(b)N;(c)O;(d)Al;(e)Ti;(f)Cr;(g)Ni;(h)FeFig.7 Element distribution of cavitation pits (a) cavitation pit; (b) N; (c) O; (d) Al; (e) Ti; (f) Cr; (g) Ni; (h) Fe
(1)隨著氮?dú)辶髁勘仍黾?,通入氮?dú)夂康脑龆?,涂層中N元素含量呈現(xiàn)出先增大后減小的趨勢(shì),當(dāng)通入氮?dú)辶髁勘葹?∶1時(shí),涂層N元素的含量達(dá)到最高,為41.42%(原子分?jǐn)?shù))。
(2)隨著氮?dú)辶髁勘仍黾?,硬度與彈性模量先增加后減小。氮?dú)辶髁勘葹?∶1時(shí),涂層硬度和彈性模量最高,分別為(15.426±0.460),(282.097±9.625)GPa。此時(shí)涂層的結(jié)構(gòu)最致密,晶粒最細(xì),證明涂層中N元素的增多有助于提升涂層材料的抗空蝕能力。
(3)氮?dú)辶髁勘葹?∶1時(shí),涂層抗空蝕性能最佳??瘴g過程中,在空蝕坑的內(nèi)壁生產(chǎn)了Cr2O3、Al2O3、NiO、TiO2等氧化物,減輕微射流的沖擊,提高了涂層的抗空蝕能力。