宋曉靚,歐陽曉平,江新標(biāo)
(1.西安交通大學(xué) 核科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,陜西 西安 710049;2.西北核技術(shù)研究所 強(qiáng)脈沖輻射環(huán)境模擬與效應(yīng)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,陜西 西安 710024)
熱釋光方法[1-2]因測量范圍寬、易于操作、體積小、價格便宜等優(yōu)點(diǎn),在高能光子100 Gy~10 kGy范圍的高劑量測量中獲得了較廣泛的應(yīng)用。白小燕等[3]、王晨輝等[4]研究了國產(chǎn)LiF(Mg,Ti)-M元件的γ響應(yīng)特性,將其用于強(qiáng)脈沖輻射場幾百Gy吸收劑量測量。Bilski等[5]研究了標(biāo)準(zhǔn)(LiF:Mg,Ti)、(LiF:Mg,Cu,P)(MCP)及改進(jìn)的(LiF:Mg,Ti)等3種LiF磷光體在10 Gy~10 kGy范圍的高劑量性能,以滿足地球軌道國際空間站內(nèi)宇宙射線長期輻照的測量需求。陳朝陽等[6]制備了CaF2:Mn/Teflon劑量計(jì)用于測量穩(wěn)態(tài)γ射線輻射場內(nèi)電子材料吸收劑量。CaF2:Mn磷光體基于高靈敏度、寬響應(yīng)范圍和測量上限達(dá)kGy等優(yōu)點(diǎn),成為輻射劑量學(xué)領(lǐng)域高劑量水平測量的首選探測器之一[7-9]。但CaF2:Mn磷光體因廠家、形態(tài)和尺寸的差異,其輻射響應(yīng)性能有較大差異[10-12]。Singh等[13]制備的CaF2:Mn透明陶瓷僅在3~100 mGy呈線性響應(yīng),而Schulman等[14]制備的CaF2:Mn(玻璃封裝/金屬封裝)粉末劑量計(jì)線性上限達(dá)1.7 kGy。Gorbicst等[15]對多種CaF2:Mn(Teflon圓片、粉末、熱壓片)劑量計(jì)研究表明,在約870 Gy存在不同程度的非線性。美國Harshaw化學(xué)公司生產(chǎn)的CaF2:Mn(TLD-400)飽和劑量水平為1 kGy[2];而Bakshi等[11]制備的CaF2:Mn磷光體(3%Mn)在50 Gy~3 kGy范圍內(nèi)具有線性響應(yīng)。由此可見,因制備方法、制備工藝、測量設(shè)備等條件影響,CaF2:Mn磷光體對γ輻射的線性響應(yīng)、測量上限等關(guān)鍵性能仍存在較大分歧。為建立基于CaF2:Mn熱釋光的電子器件吸收劑量測量方法,了解美國賽默飛世爾科技公司生產(chǎn)的CaF2:Mn(TLD-400)的γ輻射響應(yīng)特性,本文利用60Co γ輻照裝置從發(fā)光曲線、響應(yīng)曲線、線性范圍、飽和特性等較系統(tǒng)地研究CaF2:Mn熱壓片在高劑量水平的熱釋光響應(yīng)性能,獲得新的響應(yīng)曲線,為CaF2:Mn熱壓片在電子器件劑量測量的可靠應(yīng)用提供重要參考。
實(shí)驗(yàn)采用的CaF2:Mn磷光體為美國賽默飛世爾科技公司生產(chǎn)的TLD-400熱壓片,尺寸為3.2 mm×3.2 mm×0.89 mm,標(biāo)稱范圍為0.87 μGy~2.6 kGy,退火后可重復(fù)使用。熱釋光信號讀出和退火分別采用北京康科洛電子有限公司生產(chǎn)的BRGD 2000-D型熱釋光劑量讀出器和2000B TLD遠(yuǎn)紅外精密退火爐。讀出參數(shù)為:高壓,575 V;靈敏度,4;溫度,400 ℃;加熱速率,1 ℃·s-1、5 ℃·s-1。退火程序?yàn)椋狠椪涨?50 ℃(1 h),讀出前100 ℃(10 min)。退火后利用退火爐的冷卻功能將CaF2:Mn熱壓片快速冷卻至室溫。
輻照實(shí)驗(yàn)是在西北核技術(shù)研究所強(qiáng)脈沖輻射環(huán)境模擬與效應(yīng)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的兩臺60Co γ輻照裝置上進(jìn)行的。兩臺60Co γ輻照裝置源出廠活度分別為3.7×1014Bq、9.6×1015Bq,輻照劑量率分別為21.38 Gy/h、945.5 Gy/h。劑量率測量采用德國PTW公司生產(chǎn)的工作級TW30013 0.6 cm3電離室,每年溯源至西北核技術(shù)研究所二級計(jì)量站次級標(biāo)準(zhǔn)0.6 cm3電離室(U=2.5%,k=2)。為滿足γ輻照時的電子平衡條件,將CaF2:Mn熱壓片放置在2.2 mm厚的鋁盒中輻照。
實(shí)驗(yàn)獲得的CaF2:Mn熱壓片熱釋光發(fā)光曲線如圖1所示。發(fā)光曲線均由一個主發(fā)光峰構(gòu)成,主發(fā)光峰是由多個峰疊加而成的寬復(fù)合峰,即為幾個非常接近的陷阱能級產(chǎn)生,主發(fā)光峰溫度在260 ℃左右。從圖1a~d可看出,CaF2:Mn熱壓片熱釋光發(fā)光曲線的形狀與輻照劑量有密切關(guān)系,隨輻照劑量的增加,發(fā)光峰峰形、峰寬、峰高都發(fā)生了相應(yīng)變化。
1) 劑量響應(yīng)
為獲取CaF2:Mn熱壓片在1~3 500 Gy范圍的高精度劑量響應(yīng)曲線,從同批劑量片中挑選出響應(yīng)一致性在0.5%內(nèi)的20片,分為4組進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。動態(tài)設(shè)定了26個劑量值,在兩臺60Co γ輻照裝置上逐一輻照至預(yù)定劑量水平。熱釋光讀出采用最小加熱速率1 ℃·s-1。按照輻照前退火、輻照設(shè)定劑量值、讀出前退火、熱釋光讀出等流程完成所有劑量的輻照測量。CaF2:Mn熱壓片對60Co γ輻射的熱釋光響應(yīng)采用主發(fā)光峰強(qiáng)度表示,即對發(fā)光曲線中的主發(fā)光峰面積進(jìn)行積分,得到總發(fā)光強(qiáng)度。
CaF2:Mn熱壓片對60Co γ射線的劑量響應(yīng)曲線如圖2a所示。在1~3 500 Gy范圍,劑量響應(yīng)曲線由兩段線性響應(yīng)區(qū)域(1~500 Gy、500~2 200 Gy)和一段飽和區(qū)域(2 200~3 500 Gy)組成。在1~500 Gy和500~2 200 Gy范圍,CaF2:Mn熱壓片發(fā)光強(qiáng)度隨輻照劑量增加而線性增長,但γ響應(yīng)靈敏度不同,1~500 Gy區(qū)域的靈敏度明顯大于500~2 200 Gy的靈敏度。CaF2:Mn熱壓片的雙線性響應(yīng)特點(diǎn)未見文獻(xiàn)公開報(bào)道,陳朝陽等[6]報(bào)道CaF2:Mn/Teflon線性范圍是一條直線(圖2b)。當(dāng)輻照劑量在2 200~3 500 Gy范圍時,CaF2:Mn熱壓片發(fā)光強(qiáng)度不再上漲,響應(yīng)出現(xiàn)飽和,且飽和前未觀察到亞線性或超線性等非線性增長區(qū)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,CaF2:Mn熱壓片的線性上限即測量上限為2 200 Gy,小于廠商標(biāo)稱上限2 600 Gy。
a——實(shí)驗(yàn)結(jié)果;b——文獻(xiàn)[6]結(jié)果圖2 CaF2:Mn熱壓片的劑量響應(yīng)曲線 Fig.2 Dose response curve of CaF2:Mn chip
2) 靈敏度響應(yīng)
熱釋光材料的靈敏度由單位質(zhì)量、單位吸收劑量發(fā)出的熱釋光強(qiáng)度來確定[2]。同一批次CaF2:Mn熱壓片質(zhì)量相同,其靈敏度可定義為單位吸收劑量的熱釋光響應(yīng)值,則:
(1)
式中:S為靈敏度,Gy-1;C為熱釋光發(fā)光峰強(qiáng)度(任意單位);D為吸收劑量,Gy。
將CaF2:Mn熱壓片在1~2 200 Gy范圍的熱釋光發(fā)光強(qiáng)度除以相應(yīng)的吸收劑量得到每個劑量值的靈敏度,以靈敏度和吸收劑量繪圖獲得CaF2:Mn熱壓片的靈敏度響應(yīng)曲線,如圖3所示??煽闯?,當(dāng)吸收劑量從1 Gy逐步增加到400 Gy時,CaF2:Mn熱壓片對60Co γ射線的響應(yīng)靈敏度隨吸收劑量的增加迅速增長,當(dāng)吸收劑量為400 Gy時達(dá)到極大值;隨后隨著吸收劑量繼續(xù)增大,靈敏度快速下降;當(dāng)吸收劑量為1 800 Gy時,靈敏度下降幅度趨于平緩直至飽和。
圖3 CaF2:Mn熱壓片的靈敏度響應(yīng)Fig.3 Sensitivity of CaF2:Mn chip
3) 線性擬合
CaF2:Mn熱壓片在1~500 Gy和500~2 200 Gy范圍的熱釋光響應(yīng)呈線性增長,分別對其線性擬合,結(jié)果如圖4所示,線性擬合函數(shù)的斜率代表線性范圍的響應(yīng)靈敏度。1~500 Gy線性范圍的響應(yīng)靈敏度為2.49×105,而500~2 200 Gy范圍的響應(yīng)靈敏度為4.48×104,兩者相差近5倍。線性相關(guān)系數(shù)(R2)分別為0.996、0.995,線性相關(guān)性較好。因此,在1~3 500 Gy的劑量范圍,其線性響應(yīng)范圍為1~2 200 Gy。
a——1~500 Gy;b——500~2 200 Gy圖4 CaF2:Mn熱壓片的線性范圍Fig.4 Linear range of CaF2:Mn chip
1) 一致性響應(yīng)
從同批CaF2:Mn熱壓片中隨機(jī)選取30片進(jìn)行響應(yīng)的一致性實(shí)驗(yàn),進(jìn)行編號、退火、輻照和測量。輻照劑量為50 Gy,劑量率為21.38 Gy/h,30片CaF2:Mn熱壓片響應(yīng)分布如圖5所示。由圖5可知,響應(yīng)范圍為9.50×106~1.15×107,平均值為1.06×107,變異系數(shù)為3.8%,滿足GJB 2165—94《應(yīng)用熱釋光劑量測量系統(tǒng)確定電子器件吸收劑量的方法》[16]關(guān)于TLD響應(yīng)一致性的要求。
圖5 CaF2:Mn熱壓片的一致性響應(yīng)Fig.5 Uniformity of CaF2:Mn chip response
2) 復(fù)現(xiàn)性響應(yīng)
選取10片CaF2:Mn熱壓片(<0.5%)組成1組進(jìn)行實(shí)驗(yàn),輻照劑量為1 000 Gy。為提高讀出效率,讀出器加熱速率設(shè)置為5 ℃·s-1。按照退火-輻照-退火-讀出完成1次測量,重復(fù)10次實(shí)驗(yàn),每次實(shí)驗(yàn)的平均值為測量結(jié)果,CaF2:Mn熱壓片響應(yīng)的復(fù)現(xiàn)性如圖6所示。10次重復(fù)實(shí)驗(yàn)的平均值為4.50×107,變異系數(shù)為0.47%,滿足GJB 2165—94《應(yīng)用熱釋光劑量測量系統(tǒng)確定電子器件吸收劑量的方法》[16]關(guān)于TLD響應(yīng)復(fù)現(xiàn)性的要求。
圖6 CaF2:Mn熱壓片響應(yīng)的復(fù)現(xiàn)性Fig.6 Reproducibility of CaF2:Mn chip response
選取兩組CaF2:Mn熱壓片開展其熱釋光信號隨貯存時間衰退的實(shí)驗(yàn)。一組輻照60 Gy,輻照后立即退火、冷卻,然后在暗室中室溫保存,觀察時間為1周,測量時間為輻照退火后1 h、24 h和1周,讀出時加熱速率為1 ℃·s-1;另一組輻照500 Gy,觀察時間為3周,測量時間為輻照退火后1 h、1周、2周、3周,讀出時加熱速率為5 ℃·s-1。兩組熱釋光信號隨時間衰退的變化如圖7所示,其中,圖7a輻照劑量為60 Gy,貯存時間最長為1周,對1 h的響應(yīng)強(qiáng)度歸一;圖7b輻照劑量為500 Gy,貯存時間最長為3周,對1 h的響應(yīng)強(qiáng)度歸一。當(dāng)劑量為60 Gy時,熱釋光信號在24 h和1周內(nèi)的衰退幅度均約為1%,未見明顯衰退,好于文獻(xiàn)[2-3]中24 h衰退7%~10%的幅度。當(dāng)劑量為500 Gy時,熱釋光信號在2周內(nèi)的衰退幅度為1%,3周內(nèi)的衰退幅度為4%。兩組結(jié)果表明,CaF2:Mn熱壓片熱釋光信號貯存穩(wěn)定性較好,衰退幅度與輻照劑量及加熱速率無明顯相關(guān)性。
圖7 CaF2:Mn熱壓片熱釋光強(qiáng)度隨貯存時間的衰退Fig.7 Dependence of CaF2:Mn chip TL intensity on storage time
根據(jù)上述實(shí)驗(yàn)結(jié)果,劑量大于2 200 Gy后,CaF2:Mn熱壓片熱釋光強(qiáng)度不再上升,響應(yīng)出現(xiàn)飽和,即所有陷阱能級均填滿。為測試飽和劑量輻照對CaF2:Mn熱壓片響應(yīng)性能的影響,選取1組劑量片,在60Co γ輻照裝置上依次輻照至預(yù)定劑量(500、1 000、1 500、2 000 Gy),讀出響應(yīng)值。再在飽和范圍選取3 000 Gy劑量輻照,直接退火(450 ℃/1 h)。冷卻后再次輻照相同劑量(500、1 000、1 500、2 000 Gy)。比較飽和劑量輻照前、后熱釋光響應(yīng)強(qiáng)度的變化,結(jié)果列于表1。當(dāng)輻照劑量為500 Gy時,飽和后響應(yīng)是飽和前的90.8%,響應(yīng)強(qiáng)度下降了9%;當(dāng)劑量為1 000、1 500、2 000 Gy時,飽和后響應(yīng)分別是飽和前的96.4%、97.0%、96.8%,響應(yīng)強(qiáng)度均下降約3%。結(jié)果表明,飽和劑量輻照導(dǎo)致CaF2:Mn熱壓片響應(yīng)性能下降,且對較低劑量的發(fā)光強(qiáng)度影響大于較高劑量;高溫退火無法恢復(fù)初始陷阱狀態(tài),表明熱壓片晶格中部分陷阱能級出現(xiàn)了輻照損傷,損傷劑量閾值約為3 000 Gy。
表1 CaF2:Mn熱壓片受到飽和劑量輻照前、后響應(yīng)強(qiáng)度的比較Table 1 Comparison of TL intensity for CaF2:Mn chip before and after saturation
對飽和劑量輻照前、后熱釋光響應(yīng)與劑量線性擬合,結(jié)果如圖8所示。飽和前線性相關(guān)系數(shù)為0.996,飽和后為0.987,線性相關(guān)性下降;擬合函數(shù)斜率從飽和前4.65×104提高至4.98×104,表明CaF2:Mn熱壓片受到3 000 Gy輻照后出現(xiàn)敏化現(xiàn)象,響應(yīng)靈敏度增加了7%。
a——飽和前;b——飽和后圖8 CaF2:Mn熱壓片受到飽和劑量輻照前、后線性響應(yīng)比較Fig.8 Comparison of dose linearity for CaF2:Mn chip before and after saturation
本文在60Co γ輻照裝置上開展了CaF2:Mn(TLD-400)熱壓片在高劑量水平的熱釋光響應(yīng)性能實(shí)驗(yàn)研究,得到如下結(jié)論。
1) 發(fā)光曲線由1個主發(fā)光峰構(gòu)成,主發(fā)光峰是由多個峰疊加而成的寬復(fù)合峰,發(fā)光峰溫度在260 ℃左右,主發(fā)光峰峰形隨輻照劑量而變化,表明發(fā)光曲線復(fù)合峰的準(zhǔn)確形狀與輻照劑量密切相關(guān)。
2) 采用動態(tài)布點(diǎn)和慢加熱速率(1 ℃·s-1)讀出,獲得了高精度劑量響應(yīng)曲線和準(zhǔn)確線性響應(yīng)范圍。1~3 500 Gy范圍的響應(yīng)曲線由γ響應(yīng)靈敏度相差近5倍的兩段線性區(qū)域(1~500 Gy、500~2 200 Gy)和一段飽和區(qū)域(2 200~3 500 Gy)構(gòu)成,線性范圍(1~2 200 Gy)相關(guān)系數(shù)好于0.99,響應(yīng)飽和前未出現(xiàn)亞線性或超線性響應(yīng)區(qū)。飽和劑量閾值(2 200 Gy)小于廠商標(biāo)稱上限2 600 Gy,實(shí)際測量范圍與測量方法和測量條件有關(guān),具體原因有待研究。
3) 響應(yīng)一致性和復(fù)現(xiàn)性分別為3.8%和0.47%,滿足相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)要求;熱壓片貯存兩周,信號衰退約1%,3周衰退約4%,表明熱壓片有良好貯存穩(wěn)定性,且信號衰退幅度與輻照劑量和加熱速率無明顯相關(guān)性。
4) 飽和劑量輻照導(dǎo)致CaF2:Mn熱壓片響應(yīng)強(qiáng)度下降3%~9%,線性相關(guān)性下降。高溫退火無法恢復(fù)初始陷阱狀態(tài),表明CaF2:Mn熱壓片已出現(xiàn)γ輻照損傷效應(yīng),閾值約為3 000 Gy。
綜上所述,CaF2:Mn熱壓片在高劑量水平的熱釋光響應(yīng)性能良好,與CaF2:Mn(粉末/Teflon)劑量計(jì)相比,其響應(yīng)趨勢和線性范圍明顯不同,表明制備方法、制備工藝及測量設(shè)備對CaF2:Mn磷光體熱釋光響應(yīng)性能有較大影響,在實(shí)際使用時應(yīng)予以關(guān)注。