趙天,劉鴻杰,何熙璞*,王中華,蔡同強,劉立福,黃澤林
(1.廣西石化資源加工及過程強化技術重點實驗室, 廣西 南寧 530004;2.廣西大學 化學化工學院, 廣西 南寧 530004)
印染廢水是我國幾種難治理的行業(yè)廢水之一,其成分復雜、色度高。在印染廢水中,有機污染物含量高、毒性大、COD和BOD均處于較高水平。為了解決這一問題,人們一直致力于尋找有效去除污染物的方法,光催化的低能耗、綠色環(huán)保等優(yōu)點使其在污染物去除領域的潛在應用頗受關注[1-3]。
ZnO作為一種重要的半導體光催化劑,在很多領域有著卓越的性能,且具有來源廣泛、綠色環(huán)保、成本低廉等特點,在光輔助作用下,ZnO能夠催化降解各種有機污染物[4]。但由于ZnO自身存在一些缺陷,比如光生電子復合率高、光利用率低等,這些缺陷使ZnO的光催化性能受到了一定程度的限制[5- 6]。目前,主要通過形貌調控、摻雜改性、復合異質等改善ZnO的光催化活性,其中摻雜改性是使ZnO光催化活性增強的常見方法之一[7-10]。研究表明,摻雜過渡金屬后可明顯提高納米材料的光催化活性[11-14]。目前在ZnO納米材料中摻雜金屬離子的主要方法有微波、共沉淀、軟化學合成和煅燒等[15]。一般的摻雜效應包括增強可見光區(qū)的吸附、引入雜質能級和抑制電子空穴復合[16-17]。Mo、Ga、Fe、Eu等過渡金屬離子摻雜ZnO納米晶都能形成良好的形貌[18-22],可以由此推測,摻雜劑離子和主體晶格間的相互作用能夠提高傳導電子的能力,從而增強光催化活性。在過渡金屬中,由于稀土元素具有較多的電子能級,使其成為光生電子或者空穴的淺勢捕獲陷阱。有學者在ZnO中摻雜稀土元素Er等,使其光生電子與空穴對的復合時間延長,提高了ZnO的光催化活性[23-24]。
為此,本文首先采用了簡單沉淀法制備ZnO納米材料,以不同比例的原料合成得到不同形貌的ZnO,在紫外光的輔助下,考察了不同形貌ZnO的光催化活性;然后通過稀土元素Ce摻雜對催化活性比較高的純相ZnO進行了改性,并考察了不同形貌Ce摻雜ZnO的光催化活性。相比其他納米材料氧化鋅,花狀形貌的氧化鋅具有較高的催化活性,在摻雜稀土元素Ce后得到了催化活性更高的氧化鋅材料。
稱取一定量的Zn(NO3)2和Na3C6H5O7·2H2O,溶于60 mL去離子水,再加入一定量NaOH,于磁力攪拌器攪拌2 h后過濾,分別用蒸餾水和無水乙醇洗滌3次,70 ℃干燥后自然冷卻至室溫[25]。在實驗過程中,考察了不同物質的量的Na3C6H5O7·2H2O、NaOH與0.003 mol Zn(NO3)2反應對納米ZnO形貌的影響。合成ZnO的物料比見表1。
表1 合成ZnO的物料比
稱取適量的Ce(NO3)4和Zn(NO3)2,將其溶解于去離子水,命名為溶液A(濃度約為0.925 mol/L)。稱取一定量的Na3C6H5O7·2H2O和NaOH溶于去離子水,命名為溶液B。將溶液B逐滴滴加到溶液A,待出現(xiàn)白色沉淀后靜置10 min,之后緩慢攪拌2 h使反應完全。過濾收集沉淀,然后用蒸餾水和無水乙醇洗滌3次,于恒溫干燥箱中70 ℃干燥12 h,充分研磨后放入馬弗爐中于700 ℃焙燒6 h,自然冷卻到室溫??疾霤e元素摻雜比分別為2.5%、5.0%、7.5%、10.0%時對材料形貌的影響。
用X射線衍射儀(荷蘭帕納科公司)分析ZnO和Ce摻雜ZnO的物相組成,掃描范圍為20°~70°。場發(fā)射掃描電子顯微鏡(蔡司設備有限公司)在加速電壓的條件下對ZnO和Ce摻雜ZnO的形貌進行觀察。
以亞甲基藍為目標物,評價樣品的光催化活性,光催化反應在自制的光催化反應器中進行。反應器中心光源為15 W 365 nm的汞燈。在催化反應中,亞甲基藍的初始濃度為10 mg/L。在光催化反應前,含ZnO的亞甲基藍懸浮液在暗處攪拌吸附30 min。進行光催化反應后,高速離心收集上清液,測定其在663 nm處的吸光值。
按表1的物料比進行制備,得到了ZnO納米材料,其場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)圖如圖1所示。
從圖1(a)至圖1(c)可見,隨著OH-/Zn2+摩爾比的增加,ZnO花型刻蝕嚴重,多級納米花結構消失。圖1(a)、(d)、(e)顯示,形成薄片的明顯程度與Na3C6H5O7·2H2O量有關,Na3C6H5O7·2H2O量過多或者過少都無法形成花狀結構。采用最佳摩爾比Zn(NO3)2∶Na3C6H5O7·2H2O∶NaOH=0.003∶0.007 1∶0.015 0得到的ZnO顯示較好的花狀形貌[見圖1(f)],其表面有著獨特的缺陷,保證了較高的表面能。
(a) ZnO-1
對制備的ZnO納米材料進行了X射線衍射圖譜(XRD)測試(圖 2),發(fā)現(xiàn)該材料的衍射峰較強而且尖銳,說明所得的材料有良好的結晶性。在圖2中沒有出現(xiàn)其他雜質的衍射峰,表明制備得到純相ZnO。且ZnO 納米材料的衍射角2θ分別為31.7°、34.3°、36.2°、47.5°、36.5°、62.8° 和 68.0°,其2θ值對應的晶面衍射分別為纖鋅礦結構ZnO中的(100)、(002)、(101)、(102)、(110)、(103)和(112),因此可將衍射峰歸屬為六方纖鋅礦結構ZnO的相應晶面(JCPDS 卡片號:36-141)。
圖2 ZnO的X射線衍射圖譜
以制備得到的納米ZnO為催化劑,光催化降解亞甲基藍。光催化活性實驗結果(圖3)表明,反應0.5 h之后,亞甲基藍濃度已經顯著降低。不同形貌的氧化鋅對亞甲基藍的降解率不同,但是基本都在1.5 h左右到達99%。
圖3 ZnO的光催化活性(x軸0表示暗處理0.5 h)
其中樣品ZnO-5催化降解亞甲基藍的速率最快,反應0.5 h后亞甲基藍的降解率就達到了71%,1 h后高達95%。這是因為樣品ZnO-5的結構是由大量的花瓣狀聚集而成,且花瓣表面光滑。顆粒大小均勻,且顆粒間也有適當?shù)目障?。其基本形貌是由內向外生長、內窄外寬[圖1(f)]。正是因為形成了結構尺寸較為清晰的花狀結構,ZnO-5具有獨特的花型和高表面能,與其他材料相比,具有更高的降解速率。
由于制備得到的ZnO-5樣品形貌均勻且光催化活性較高,因此在摻雜實驗中,以其為基礎,摻雜Ce元素對ZnO進行改性。Ce元素摻雜比分別為2.5%、5.0%、7.5%和10.0%時材料形貌如圖4。結果顯示摻雜Ce元素并未影響ZnO特殊的花型,因此其較高的表面能得以保留。與摻雜前相比,摻雜Ce元素后測得的XRD圖在36.5°發(fā)生偏移,應是由于摻雜的Ce元素進入ZnO的晶格導致峰型發(fā)生了變化(圖5)。
(a) 2.5 %Ce摻雜ZnO
圖5 不同含量Ce摻雜ZnO的X射線衍射圖
以Ce元素摻雜比分別為2.5%、5.0%、7.5%、10.0%時制備得到的材料為催化劑,進行了光催化活性測試。結果表明(圖6),反應0.5 h后,樣品Ce-ZnO對亞甲基藍的降解率達到95%,且在40 min時候降解已經到達99%。與純相ZnO-5樣品0.5 h的71%的降解率和1 h的99%降解率相比,降解效率顯著提高。且Ce摻雜比為7.5%的降解率最高。
圖6 Ce-ZnO的光催化活性(x軸0表示暗處理0.5 h)
研究表明,由于納米材料具有多級的能級結構,當電子躍遷到空的導帶時,會使價帶留下帶正電的空穴。由于納米材料光催化作用的本質是光生電子空穴對氧化還原反應,導帶電子具有強還原性,價帶空穴具有吸電子能量,在ZnO晶格中摻雜離子導致其帶隙內形成缺陷能級或者定域態(tài)的雜質能級,使得難以發(fā)生的反應,例如亞甲基藍的降解等反應變得更加容易進行。本實驗通過在ZnO中摻雜稀土元素Ce,大大延長了ZnO納米花中光生電子和空穴對的復合時間,從而提高了其光催化活性,因此,摻雜改性是一種簡單有效的改善ZnO光催化活性的方法。
綜上所述,本研究通過簡單水熱法制備了純相多級花狀ZnO納米材料,利用催化降解亞甲基藍實驗評價了其催化活性,并探討了形貌與光催化活性之間的關系。由于其特殊的表面形貌,比傳統(tǒng)的納米氧化鋅催化效能更高。研究結果表明,以7.5%的Ce摻雜制備獲得了ZnO多級納米花,反應0.5 h,降解亞甲基藍的效率可以高達99%,與摻雜前相比,具有較高的光催化活性,其在有機污染去除方面具有廣闊的應用前景。