熊勛旺 吳焱 陳康 陳健 楊濤 李清蓮
摘 要:釉面拋光亮面類瓷磚色彩豐富、紋理清晰,備受消費(fèi)者喜愛(ài),隨著釉面磚的不斷發(fā)展,拋釉類瓷磚經(jīng)歷了拋晶復(fù)合板,普通拋釉、晶剛釉、干粒拋,這幾類產(chǎn)品都在追求釉面透感和平整度上不斷改進(jìn)。結(jié)晶大理石產(chǎn)品不僅具有良好的透感和幾乎沒(méi)有水波紋的鏡面效果,在光線偏暗的環(huán)境下,用燈光照射,擁有反光效果,猶如夜空中點(diǎn)點(diǎn)繁星,這會(huì)受到年輕消費(fèi)者的青睞。
關(guān)鍵詞:結(jié)晶大理石;結(jié)晶干粒;工藝流程;控制要點(diǎn)
1 引 言
結(jié)晶大理石產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝流程與常規(guī)拋釉磚類的工藝流程相類似,差異在施釉環(huán)節(jié),分濕法工藝和干法工藝兩種,本文概述結(jié)晶大理石生產(chǎn)工藝流程并著重介紹兩種施釉工藝的優(yōu)缺點(diǎn)和控制方法。
2 工藝流程概述
2.1工藝流程
見(jiàn)圖1。
2.2干法工藝與濕法工藝的優(yōu)缺點(diǎn)分析
兩種工藝各有優(yōu)缺點(diǎn),需要根據(jù)生產(chǎn)釉線的干燥設(shè)備配置和對(duì)產(chǎn)品磚面水波紋的要求來(lái)選擇。如果追求產(chǎn)品磚面無(wú)水波紋,則選擇干法工藝,這樣可以增加釉層的厚度,在拋光時(shí)可深拋,達(dá)到鏡面效果。如果對(duì)磚面鏡面效果要求不高的話,可選擇濕法工藝。
3干法工藝的控制要點(diǎn)
3.1干法工藝的優(yōu)缺點(diǎn)分析
優(yōu)勢(shì)有兩點(diǎn),其一干??刹己瘢科椒矫卓刹几闪A康?00克以上,在拋光時(shí)可深拋,解決水波紋問(wèn)題;其二是進(jìn)入坯體的水分少,不會(huì)炸磚。缺點(diǎn)是回收料多,干粒損耗大;如果膠水粘性不好的話,在窯頭前幾個(gè)倉(cāng)位吹干粒的風(fēng)險(xiǎn)較大。
3.2釉線布料工藝控制
干法布料效果對(duì)布料設(shè)備和噴膠水設(shè)備要求高,需要確保布料效果均勻平整。由于結(jié)晶干粒是由透明釉干粒和結(jié)晶粒子混合而成,結(jié)晶粒子的比重在4.6-4.7g/cm3之間,而透明干粒比重在1.3-1.5g/cm3之間,結(jié)晶粒子比重要遠(yuǎn)大于透明干粒,因此結(jié)晶干粒在運(yùn)輸過(guò)程中容易造成結(jié)晶粒子下沉,所以在布料前需要進(jìn)行攪拌均化。
噴膠水的控制要點(diǎn):第一道膠水一般噴200-250克/平方米,第二道膠水噴量要根據(jù)干粒的量來(lái)控制,一般為干粒重量的四分之一,確保干粒層呈微濕狀態(tài)即可,膠水霧化要好,不能滴水,膠水滴在干粒上會(huì)產(chǎn)生團(tuán)聚現(xiàn)象,影響燒后的釉面平整度。
釉線干燥窯溫度控制200-300℃之間,如果小干燥窯的供熱方式是熱風(fēng)爐供熱或者燒成窯熱氣供熱,溫度可控制在250-300℃之間,如果是燃燒棒供熱的話,最好是不要超過(guò)250℃,否則會(huì)由于磚坯局部排水過(guò)快造成裂磚。
4濕法工藝的控制要點(diǎn)
4.1 濕法工藝的優(yōu)缺點(diǎn)分析
濕法工藝的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡(jiǎn)單,生產(chǎn)車間操作方便,材料損耗小;拋光后的閃光效果相對(duì)于干法要均勻一些,結(jié)晶粒子不會(huì)有團(tuán)聚現(xiàn)象。其缺點(diǎn)是鐘罩淋釉時(shí)進(jìn)入坯體的水分大,需要足夠的干燥溫度和干燥時(shí)間,保證入窯前的水分小于1%;結(jié)晶粒子比重大,特別容易沉淀。沉淀現(xiàn)象會(huì)在淋釉時(shí)和燒成時(shí),淋釉時(shí)主要是受懸浮劑的懸浮性的影響,主要發(fā)生在鐘罩上和釉漿淋在磚面未干前。燒成時(shí)發(fā)生在懸浮劑分解后,懸浮劑的支稱失效后結(jié)晶粒子會(huì)追著磚坯的顛簸而下沉。為了解決該問(wèn)題,需外加20-30%的生料透明釉,這樣既可以提高結(jié)晶干粒釉漿的懸浮性,又可防止懸浮劑經(jīng)高溫后失效,結(jié)晶粒子有足夠的支撐力。
4.2 生料透明釉配方要求及其作用
生料透明釉的主要作用是提高閃光粒子的數(shù)量和均勻度,其還有改善防污性、促進(jìn)墨水發(fā)色,通過(guò)控制生料透明釉的膨脹系數(shù)來(lái)調(diào)節(jié)磚型。配方百分比如下:
球磨細(xì)度控制在0.2-0.5克篩余/325目篩·比重杯,球磨細(xì)度越小越有利于其在干粒顆粒之間進(jìn)行填充,有助于閃光粒子的閃光效果和改善防污的問(wèn)題。
濕法工藝是將結(jié)晶干粒、懸浮劑、透明釉漿按一定的比例混合均勻后,通過(guò)鐘罩淋釉的方式淋在磚面上。由于懸浮劑是半油性,透明釉是水性,兩者不完全相融,隨著透明釉漿占比增加,透明釉漿就會(huì)被包裹在懸浮劑當(dāng)中,從而增加混合液體的粘稠度。結(jié)晶干粒顆粒直徑在0.1-0.2mm之間,與懸浮劑、透明釉完全不相融,三者混合以后形成一種類似于疏溶膠體系。結(jié)晶干粒密度大,容易沉淀,結(jié)晶干粒包裹在透明釉、懸浮劑和透明釉與懸浮劑形成相斥的區(qū)域,從而達(dá)到相對(duì)穩(wěn)定不沉淀的狀態(tài)(如圖3所示)。
以下是關(guān)于透明釉漿的加入量,試驗(yàn)燒成拋光后閃光粒子數(shù)量和閃光效果的影響,以懸浮劑100份,結(jié)晶干粒100份為定量,透明釉漿加入量為變量。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,透明釉漿的加入量直接影響閃光粒子的數(shù)量和閃光效果,其中最佳效果的加入量為40-60,也就是結(jié)晶干粒和懸浮劑總量的20-30%。
4.3 濕法鐘罩淋釉控制要點(diǎn)
由于結(jié)晶干?;旌暇鶆虻挠詽{相比普通釉漿是更容易沉淀,結(jié)晶干粒、懸浮劑、透明釉漿的混合方式最好在釉線附近,備一個(gè)可裝下3-4噸料的攪拌缸,攪拌均勻后直接管道送到鐘罩上釉缸內(nèi),上釉缸最好是采用立式泵,其攪拌力較大,攪拌式抽釉缸的攪拌速度再快也不如立式泵好。鐘罩上銅圈內(nèi)、回釉槽需定時(shí)清理,防止沉淀過(guò)多堵塞或者外溢。
5拋光工序控制要點(diǎn)
拋光的深度對(duì)閃效果有較大的影響,淺拋閃光效果較好,但水波紋差,深拋閃光效果差,但水波紋好。為了兩者兼得,那么施釉量最好控制在750-900克/方的水釉,確保燒成后的釉層厚度在0.4-0.5mm,再使用切削力大的平板模塊5-7組,壓力根據(jù)拋光效果而定,一般控制在0-3kg不等。
6 小 結(jié)
實(shí)踐表明,影響閃光效果的主要因素有結(jié)晶粒子的加入量、透明釉漿的加入量和拋光深度,閃光效果在不同深淺色產(chǎn)品上有不同效果,由于深色與結(jié)晶粒子的對(duì)比度大,所以閃光效果更明顯。故在生產(chǎn)不同深淺的產(chǎn)品時(shí)可通過(guò)以上手段來(lái)調(diào)整閃光效果。