郭勇文,黃晉強,權(quán)紀(jì)亮
(1.廣東工業(yè)大學(xué)輕工化工學(xué)院,廣州 510006;2.廣州半導(dǎo)體材料研究所,廣州 510610)
近年來,遠(yuǎn)程激光測距、激光軟殺傷、光電對抗等領(lǐng)域?qū)Ω叻逯倒β始す廨敵龅囊笤絹碓礁遊1],需要研制出具有光路結(jié)構(gòu)簡單、級數(shù)少、體積小、電光轉(zhuǎn)換效率高等優(yōu)點,且符合小型化、輕型化要求的高峰值功率大能量激光器[2-3]。但目前常用的Nd∶YAG晶體,受吸收帶的位置和寬度制約,對短波長的泵浦光能量利用率不高[4]。此外,Nd3+在YAG中的分凝系數(shù)很小(約為0.2[5]),限制了激光效率的提高。雙摻Nd,Ce∶YAG晶體作為新的激光晶體,摻入的Ce3+對短波長光具有吸收作用,能夠與其他同摻雜的離子發(fā)生能量轉(zhuǎn)移,產(chǎn)生能級躍遷,通過自發(fā)輻射的熒光效應(yīng),將能量轉(zhuǎn)移到Nd3+可以吸收的光譜上,達(dá)到增大輸出能量、降低激光振蕩閾值的目的[6-8]。
目前,國內(nèi)Nd,Ce∶YAG激光晶體生長普遍采用電阻加熱鉬坩堝提拉法,生長的晶體直徑在φ30~40 mm。受鉬坩堝的高溫?fù)]發(fā)性影響,晶體在生長過程中極易產(chǎn)生包裹物等缺陷,整體質(zhì)量不高。本文提出了采用中頻感應(yīng)加熱銥金坩堝提拉法(Cz)生長大尺寸Nd,Ce∶YAG晶體,并分析了晶體缺陷的成因。
生長Nd,Ce∶YAG晶體所用的原料為Y2O3(5N)、Al2O3(5N)、CeO2(4N)、Nd2O3(6N),按化學(xué)式(Y1-x-yNdxCey)3Al5O12進行稱量(其中x=0.01,y=0.001),將稱量好的原料混合均勻后在等靜壓設(shè)備下壓制成柱型,然后放入馬弗爐中升溫至1 300 ℃恒溫48 h形成多晶料,最后按設(shè)計好的溫場系統(tǒng)進行裝爐生長晶體。本實驗晶體生長設(shè)備采用北京雷生強式科技公司產(chǎn)的DJL-800型全自動控制單晶爐。銥金坩堝規(guī)格為φ120 mm×120 mm,一次性投料5 200 g。選用<111>方向的Nd∶YAG籽晶,在氬氣保護氣氛中生長。
實驗所用樣品為經(jīng)頭尾切除兩端面拋光的Nd,Ce∶YAG晶體毛坯等徑部分。紅光平行光光源型號LP-80(深圳恒寶光電有限公司),波長638 nm。正交偏光系統(tǒng)型號PSV-201(蘇州精創(chuàng)光學(xué)儀器有限公司)。
實驗所用樣品規(guī)格分別為φ6 mm×145 mm,φ7 mm×145 mm,φ8 mm×145 mm。消光比儀型號CF-XGB-II(西安超凡光電設(shè)備有限公司),干涉儀型號G30D(上海乾曜光學(xué)科技有限公司)。
在采用提拉法生長Nd,Ce∶YAG晶體的初始過程中,發(fā)現(xiàn)晶體產(chǎn)生的缺陷非常嚴(yán)重,主要包含包裹體和開裂缺陷。影響晶體產(chǎn)生缺陷的因素主要有溫度梯度、晶體生長工藝、晶體尺寸等方面,下面將對這些影響因素和缺陷的關(guān)系加以討論,并提出解決辦法。
Nd,Ce∶YAG熔體和Nd∶YAG一樣具有較大的過冷度,在生長過程中極易產(chǎn)生包裹物。在Cz法中,晶體是從固液界面進行生長的,結(jié)晶潛熱也通過同一位置釋放出來,這意味著溫度和對流分布決定了固液界面的形狀。因此,合適的生長界面對獲得高質(zhì)量的單晶至關(guān)重要。在Nd,Ce∶YAG晶體中,由于Nd3+和Ce3+的半徑比Y3+大,Nd3+和Ce3+在YAG熔體中的分凝系數(shù)分別為0.2和0.1[5,9]左右,隨著晶體生長,熔體中Nd3+和Ce3+的濃度不斷增加,這種濃度的富集很容易產(chǎn)生組分過冷現(xiàn)象[10]。當(dāng)組分過冷出現(xiàn)后,穩(wěn)定的生長界面被破壞,變成胞狀界面。然后,高濃度、低熔點的熔體被封閉在晶胞界面的凹槽中,會在晶體生長過程中形成云層狀、空洞等各類包裹物缺陷。為了克服Nd,Ce∶YAG晶體在生長過程中出現(xiàn)的組分過冷問題,需要設(shè)計有較大溫度梯度(軸向分量)的保溫系統(tǒng),但是溫度梯度過大也會導(dǎo)致晶體裂紋、高應(yīng)力和位錯缺陷產(chǎn)生[11]。為此,進行了如下的設(shè)計:
(1)溫場調(diào)整
晶體在不合適的溫度場中生長會產(chǎn)生各種缺陷,為了改變溫度分布,本團隊調(diào)整了銥金坩堝與感應(yīng)線圈之間的相對垂直高度,同時坩堝上方溫場系統(tǒng)采用了多層保溫結(jié)構(gòu)。通過這樣的設(shè)計,增大了Nd,Ce∶YAG晶體生長界面的溫度梯度,有效地抑制了組分過冷現(xiàn)象的出現(xiàn),同時也降低了坩堝上方的溫度梯度,減小了晶體的開裂幾率,類似的溫場調(diào)整在文獻[12-13]中也有報道。
(2)生長工藝調(diào)整
在晶體生長過程中,晶體的旋轉(zhuǎn)速率對熔體的流場影響特別大。熔體的自然對流和強迫對流的相互作用決定晶體生長界面的形狀,隨著晶體旋轉(zhuǎn)速率的增加和軸向溫度梯度的減小,界面形狀會由凸變凹[14-16]。在晶體生長后期,由于液面的下降,熔體的自然對流強度也逐漸減弱[17]。本實驗中,Nd,Ce∶YAG晶體采用凸界面生長方式。為了維持晶體在生長過程中的凸界面保持不變,采用了變轉(zhuǎn)速的生長方式,等徑生長過程的晶轉(zhuǎn)在15~12 r/min范圍內(nèi)。
(1)
式中:εb為斷裂應(yīng)變值;α為熱膨脹系數(shù);h為傳熱系數(shù);R為晶體半徑。由式(1)可知,晶體生長允許的最大軸向溫度梯度與R1.5近似成反比,這意味著軸向溫度梯度隨著晶體半徑的增大而減小,為了防止Nd,Ce∶YAG晶體放肩生長時的開裂,必須減小軸向溫度梯度。從這個角度看,采用多層保溫裝置,使熔體上方的軸向溫度梯度由15 ℃/mm降低到10 ℃/mm,有效地減小了Nd,Ce∶YAG晶體放肩時的開裂幾率。
(2)
圖1 調(diào)整前后的Nd,Ce∶YAG晶體冷卻過程示意圖Fig.1 Cooling process of Nd, Ce∶YAG crystals before and after modification
經(jīng)過晶體生長溫場環(huán)境、工藝參數(shù)、冷卻速率的調(diào)整后,成功地生長出直徑φ50 mm等徑長150 mm的Nd,Ce∶YAG晶體,如圖2所示。從圖中可以看出,所生長的Nd,Ce∶YAG晶體結(jié)構(gòu)完整,無包裹體和裂紋宏觀缺陷。
圖2 實驗生長的直徑φ50 mm 等徑長150 mm的Nd,Ce∶YAG晶體Fig.2 Photo of as-grown Nd,Ce∶YAG crystal(diameter is φ50 mm, and the equal length is 150 mm)
晶體毛坯經(jīng)頭尾切除和兩端面拋光后,在紅光平行光和正交偏光系統(tǒng)下觀察其核心和側(cè)心的分布情況,如圖3所示。從圖中可以看出,實驗生長的Nd,Ce∶YAG晶體的核心和側(cè)心面積很小,可進行選材的區(qū)域較大。選取部分加工好的激光棒進行光學(xué)質(zhì)量測試,表1給出了三種不同規(guī)格晶體棒消光比和波前畸變的測試結(jié)果。從測試結(jié)果可以看出,實驗生長的大直徑Nd,Ce∶YAG晶體具有良好的光學(xué)品質(zhì)。
圖3 Nd,Ce∶YAG晶體在紅光平行光和正交偏光系統(tǒng)下的核心和側(cè)心分布圖Fig.3 Distribution of the core and lateral centers of Nd,Ce∶YAG crystals under red parallel light and crossed polarization system
表1 不同規(guī)格Nd,Ce∶YAG晶體棒的消光比和波前畸變測試Table 1 Extinction ratio and wavefront distortion test of Nd,Ce∶YAG crystal rods with different sizes
大尺寸Nd,Ce∶YAG晶體生長過程中產(chǎn)生的包裹物缺陷主要是由組分過冷造成的,通過提高生長界面的溫度梯度和變轉(zhuǎn)速生長工藝可以抑制包裹物的產(chǎn)生;放肩時產(chǎn)生的開裂缺陷主要由上保溫系統(tǒng)溫度梯度過大造成,通過采用多層保溫結(jié)構(gòu)設(shè)計可有效減小晶體開裂的幾率;晶體冷卻時產(chǎn)生的開裂問題可以通過采用更加緩慢的多段降溫程序來解決。通過對晶體生長的溫場環(huán)境、工藝參數(shù)、冷卻速率調(diào)整后成功生長出直徑φ50 mm等徑長150 mm的無缺陷Nd,Ce∶YAG晶體,晶體核心和側(cè)心面積小,光學(xué)性能優(yōu)良。本研究可為批量化生長大尺寸Nd,Ce∶YAG晶體過程中的質(zhì)量改進提供方向和指導(dǎo)。