摘要:新能源并網(wǎng)技術(shù)的進(jìn)步,對(duì)電力電子器件的性能提出了更高的要求。傳統(tǒng)電力電子器件逐步逼近理論極限。寬禁帶半導(dǎo)體氮化鎵材料(GaN)是第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,有許多硅材料不具備的優(yōu)異性能,在軍事、民用等領(lǐng)域應(yīng)用前景廣闊。近年來(lái),GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)被相繼推出,受到廣泛的關(guān)注。氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)在電力電子領(lǐng)域已經(jīng)應(yīng)用。高壓共源共柵(Cascode)型GaN HEMT,實(shí)現(xiàn)了在高壓場(chǎng)合,可以應(yīng)用GaN器件。本文對(duì)Cascode型GaN HEMT的全范圍輸出伏安特性進(jìn)行研究,分析其工作模態(tài)及條件,以及在單相全橋逆變器電路中的應(yīng)用。
關(guān)鍵詞:Cascode;GaN HEMT;特性應(yīng)用;單相全橋逆變器電路
第三代半導(dǎo)體器件的代表為SiC和GaN。GaN器件的特性受到國(guó)內(nèi)外研究者的關(guān)注。在電力電子領(lǐng)域中,已經(jīng)使用GaN器件。氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)有兩種類型,耗盡型、增強(qiáng)型。單體增強(qiáng)型的額定電壓最高250V。驅(qū)動(dòng)電壓達(dá)到閥值電壓,增強(qiáng)型GaN HEMT的器件就會(huì)導(dǎo)通,最大柵源電壓是6V,柵極電壓4.5V-5.5V,對(duì)驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)有較高的要求。單體耗盡型GaN HEMT驅(qū)動(dòng)電壓范圍較寬,為-30-2V。但使用時(shí)需要負(fù)壓關(guān)斷,作為常通型器件,存在短路直通的風(fēng)險(xiǎn)。有兩種方式可以制備高壓GaN HEMT。一種是共源共柵結(jié)構(gòu)(Cascode),一種是單體GaN HEMT。Cascode型GaN HEMT可以有效提升電源系統(tǒng)的效率,相比Si MOSFET,Cascode型GaN HEMT二極管反向恢復(fù)更優(yōu),并且開關(guān)損耗極低,具有重要的應(yīng)用價(jià)值。
1Cascode型GaN HEMT器件的結(jié)構(gòu)及輸出伏安特性
1.1 Cascode型GaN HEMT器件結(jié)構(gòu)
作為一種橫向器件,耗盡型GaN HEMT的襯底是Si半導(dǎo)體材料,高阻性GaN晶體層由此生長(zhǎng)。加入氮化鋁絕緣層,在Si襯底層、GaN層之間。將襯底、器件隔離。AIGaN層在GaN層與漏極、源極、柵極之間。二維電子氣在此之間產(chǎn)生,具有低阻特性以及高的電子遷移率。如果閥值電壓,低于柵極和源極負(fù)向電壓,激活柵極,形成二維電子氣。從而導(dǎo)通晶體管。如果閥值電壓更高,關(guān)斷晶體管。為驅(qū)動(dòng)高電壓的GaN HEMT,通常串聯(lián)使用耗盡型GaN HEMT,以及低壓SiMOSFET,使用Cascode結(jié)構(gòu)完成。 本文選取Transphorm公司的高壓Cascode型 GaN HEMTTPH3006,由耗盡型高壓GaN HEMT,與IRF8707串聯(lián),最大通態(tài)電流17A,最大耐壓600V。
1.2Cascode型GaN HEMT輸出伏安特性
在Cascode型GaN HEMT中,串聯(lián)使用高壓耗盡型GaN HEMT,以及低壓SiMOSFET。為等效電路圖。
Cascode型GaN HEMT驅(qū)動(dòng)電壓后,開始導(dǎo)通Si MOSFET。等效電容CDS_Si、CGD_ Si開始放電。并且CGS_GaN也隨著放電,主要是由于CDS _ Si、CGS _ GaN并聯(lián)。VTH _ GaN與Vgs _ GaN相同時(shí),GaN HEMT導(dǎo)通。VDS _ GaN電壓降低,CGD _ GaN及CDS _ GaN放電。Cascode型GaN HEMT器件600V,為輸出伏安特性。
2 Cascode型GaN HEMT工作模態(tài)
2.1 正向阻斷模態(tài)
當(dāng)關(guān)斷Si MOSFET,導(dǎo)通GaN HEMT,0< Vds <-VTH _GaN,Vgs=0。Si MOSFET處于關(guān)斷的狀態(tài),驅(qū)動(dòng)電壓Vgs是0。開關(guān)管沒(méi)有電流,因此Id=0。耗盡型GaN HEMT在開通狀態(tài)中,因?yàn)?Vgs _GaN =-Vds _Si< Vds <-VTH _GaN。Cascode型GaN HEMT的漏源電壓,是開關(guān)管中Si MOSFET承受的電壓。Vds _Si與 Vds 相等。
關(guān)斷GaN HEMT及Si MOSFET,-VTH _GaN< Vds。Vgs=0。Si MOSFET處于關(guān)斷的狀態(tài),驅(qū)動(dòng)電壓Vgs是0。漏源電壓Vds不斷上升,如果-VTH _GaN< Vds,耗盡型GaN HEMT處于關(guān)斷的狀態(tài),其驅(qū)動(dòng)電壓比閥值電壓更低。漏源電壓Vds 由耗盡型GaN HEMT、Si MOSFET共同承擔(dān)。
2.2正向?qū)B(tài)
如果相比Si MOSFET的閥值電壓VTH _Si,Cascode型GaN HEMT的驅(qū)動(dòng)電壓更高,Si MOSFET導(dǎo)通。Cascode型GaN HEMT的漏源電壓是。
2.3反向?qū)B(tài)
Si MOSFET溝道處于關(guān)斷的狀態(tài),Cascode型GaN HEMT驅(qū)動(dòng)電壓Vgs是0。漏源電壓低于0,導(dǎo)通Si MOSFET體二極管。二極管導(dǎo)通壓降VF,與耗盡型GaN HEMT驅(qū)動(dòng)電壓相同。耗盡型GaN HEMT、Si MOSFET體二極管溝道,有電流流過(guò)。Cascode型GaN HEMT漏源電壓是。
施加一個(gè)較大的驅(qū)動(dòng)電壓給Cascode型GaN HEMT,也就是VTH _Si低于 Vds,解決反向?qū)▔航递^多的問(wèn)題。在飽和區(qū)時(shí),Si MOSFET溝道阻抗很小,處于完全導(dǎo)通的狀態(tài)。Si MOSFET溝道由電流全部流過(guò)。Cascode型GaN HEMT漏源電壓是。
如果Cascode型GaN HEMT的驅(qū)動(dòng)電壓比較小,VTH _Si低于 Vds。在放大區(qū)的Si MOSFET,驅(qū)動(dòng)電壓決定其溝道電阻。如果0>-VF ≥Vds _Si,在體二極管導(dǎo)通Si MOSFET,其漏源電壓被壓降,同時(shí)導(dǎo)通MOSFET溝道、體二極管,并且進(jìn)行分流。Cascode型GaN HEMT漏源電壓是。
2.4 反向恢復(fù)模態(tài)
導(dǎo)通GaN HEMT器件時(shí),沒(méi)有反向恢復(fù),因?yàn)樯贁?shù)載流子不存在。反向關(guān)斷Cascode型GaN HEMT,反向恢復(fù)在Si MOSFET體二極管中存在。Cascode型GaN HEMT完全關(guān)斷,需要Si MOSFET壓降-VTH _GaN≤ Vds _Si。
3Cascode型GaN HEMT在單相逆變器中的應(yīng)用
3.1單相逆變器電路拓?fù)?/p>
單相全橋逆變電路拓?fù)湟訡ascode型GaN HEMT為基礎(chǔ)。兩個(gè)半橋由四個(gè)開關(guān)管組成。直流母線支撐電容為CDC。橋臂的中點(diǎn)連接電網(wǎng),經(jīng)過(guò)濾波網(wǎng)絡(luò)。
3.2建立仿真模型
建立TPH3006 GaNHEMT仿真模型,使用LTSpice仿真軟件,驗(yàn)證單相逆變器電路。輸出功率Po為500W。并網(wǎng)電壓Vac為220V。開關(guān)頻率fs為20kHz。輸入電壓Vdc為380V。 仿真結(jié)果,顯示應(yīng)用Cascode型GaN HEMT,在單相逆變器中的工作情況。在區(qū)間t1-t2內(nèi),電感電流IL增加,S2、S3的狀態(tài)是正向阻斷,Sl、S4是正向?qū)ā^(qū)間t2-t3內(nèi),電感電流IL減少,S2、S4的狀態(tài)是正向阻斷,S3是二極管反向續(xù)流,Sl是正向?qū)?。區(qū)間t3-t4內(nèi),電感電流IL減少,S2、S4的狀態(tài)是正向阻斷,S3是溝道反向續(xù)流,Sl是正向?qū)?。區(qū)間t4-t5內(nèi),電感電流IL減少,S2、S4的狀態(tài)是正向阻斷,S3是二極管反向續(xù)流,Sl是正向?qū)ā^(qū)間t5-t6內(nèi),電感電流IL增加,S2、S3的狀態(tài)是正向阻斷,Sl、S4是正向?qū)?。區(qū)間t6-t7內(nèi),電感電流IL減少,S1、S3的狀態(tài)是正向阻斷,S2是二極管反向續(xù)流,S4是正向?qū)?。區(qū)間t7-t8內(nèi),電感電流IL減少,S1、S3的狀態(tài)是正向阻斷,S2是反向溝道導(dǎo)通,S4是正向?qū)?。區(qū)間t8-t9內(nèi),電感電流IL減少,S1、S3的狀態(tài)是正向阻斷,S2是二極管反向續(xù)流,S4是正向?qū)ā7聪蚧謴?fù)過(guò)程在所有開關(guān)管關(guān)斷的過(guò)程中。
3.3單相逆變器的損耗分析
關(guān)斷損耗(Poff)、通態(tài)損耗(Pcon)、開通損耗(Pon)等,都是Cascode型GaN HEMT的損耗。結(jié)溫影響開關(guān)管的通態(tài)阻抗。因此需分析溫度與開關(guān)管的通態(tài)電阻的關(guān)系,才能準(zhǔn)確了解開關(guān)管的損耗。
通常MOSFET體二極管的反向恢復(fù),在橋臂換流過(guò)程中,對(duì)另一只開關(guān)管的開通電流產(chǎn)生影響。Cascode型GaN HEMT的反向恢復(fù)特性較好,可以忽略對(duì)Cascode型GaN HEMT開通的影響,由此可以獲得平均導(dǎo)通損耗,以及關(guān)斷損耗。開關(guān)一次Cascode型GaN HEMT,在開關(guān)管開通時(shí),硬開關(guān)條件下,輸出電容儲(chǔ)存的能量放電,將能量釋放。高頻情況下,需要計(jì)算損耗的結(jié)電容。Cascode型GaN HEMT的反向恢復(fù)特性較好,開通損耗、通態(tài)損耗都是需要考慮的損耗,體二極管的關(guān)斷損耗很少,可以忽略。體二極管通態(tài)壓降類似開關(guān)管的通態(tài)損耗,與結(jié)溫、通態(tài)電流存在相關(guān)性。不同通態(tài)電流、結(jié)溫下的情況,依據(jù)數(shù)據(jù)手冊(cè)曲線獲取。
以S3和S4的換流過(guò)程為例,在Cascode型GaN HEMT的換流中,關(guān)斷S4,電壓Vds _S4升高,減少二極管反向壓降。S3反向續(xù)流導(dǎo)通,在S4向S3換流時(shí)。開關(guān)管關(guān)斷時(shí),換流結(jié)束。GaN HEMT換流速度極快,開關(guān)管決定換流時(shí)間,不用考慮正向恢復(fù)時(shí)間。相比Si MOSFET的開通關(guān)斷速度,Cascode型GaN HEMT更快。Si MOSFET的關(guān)斷損耗是Cascode型GaN HEMT的兩倍,開通損耗Cascode型GaN HEMT的四倍。Si MOSFET的反向恢復(fù)特性不如Cascode型GaN HEMT。不能忽視Si MOSFET的反向恢復(fù)損耗。但可忽略Cascode型GaN HEMT的反向恢復(fù)損耗。隨著溫度的上升,相同溫度下,Si MOSFET IPB60R190C6、TPS3006 GaN HEMT有同樣的導(dǎo)通阻抗。結(jié)溫50℃,額定功率500W時(shí),Cascode型GaN HEMT效率大約99%,單管總損耗1.23W。Si MOSFET效率大約96.6%,單管損耗4.2W。
4結(jié)論
總之,本文詳細(xì)分析了Cascode型GaN HEMT的輸出伏安特性,并以此探討不同工作模態(tài)條件,以及穩(wěn)態(tài)工作模態(tài)。Cascode型GaN HEMT具有低反向恢復(fù)特性,低開關(guān)損耗,并且開關(guān)速度快,耐高壓,優(yōu)勢(shì)明顯。Cascode型GaN HEMT在單相逆變器中有良好的應(yīng)用。相比Si MOSFET IPB60R190C,Cascode型GaN HEMT效率更高,可以在高壓場(chǎng)合變換器中使用Cascode型GaN HEMT,促進(jìn)變換器效率的提升。
參考文獻(xiàn):
[1]徐波,戈勤,沈宏昌, 等.GaN HEMT工藝的X波段發(fā)射前端多功能MMIC[J].微波學(xué)報(bào),2017,33(6):57-61.
[2]劉燕麗,王偉,董燕, 等.結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)N極性面GaN/InAlN高電子遷移率晶體管性能的影響[J].物理學(xué)報(bào),2019,68(24):288-294.
[3]顧子悅,吳燈鵬,程新紅, 等.高阻硅基GaN晶片上MIS柵結(jié)構(gòu)GaN HEMT射頻器件研制[J].微波學(xué)報(bào),2019,35(4):16-20.
[4]崔興濤,陳萬(wàn)軍,施宜軍, 等.柵槽刻蝕工藝對(duì)增強(qiáng)型GaN HEMT器件性能的影響[J].半導(dǎo)體技術(shù),2019,44(4):286-290.
[5]趙清林,崔少威,袁精, 等.低壓氮化鎵器件諧振驅(qū)動(dòng)技術(shù)及其反向?qū)ㄌ匦訹J].電工技術(shù)學(xué)報(bào),2019,34(z1):133-140.
[6]班文君,朱冰.氮化鎵/摻偶氮苯聚合物光柵耦合器特性研究[J].量子電子學(xué)報(bào),2019,36(4):506-512.
[7]程亮亮,劉爭(zhēng)暉,徐耿釗, 等.超薄氮化鎵制備及其光學(xué)性質(zhì)[J].半導(dǎo)體技術(shù),2019,44(10):790-794.
[8]高凱侖,葉焱,謝晉雄, 等.一種高效率E-1/F類GaN HEMT射頻功率放大器[J].微波學(xué)報(bào),2019,35(4):42-46,61.
[9]彭子和,秦海鴻,修強(qiáng), 等.寄生電感對(duì)低壓增強(qiáng)型GaN HEMT開關(guān)行為的影響[J].半導(dǎo)體技術(shù),2019,44(4):257-264.
[10]梁李敏,解新建,劉輝, 等.Ni離子注入和熱退火對(duì)GaN形貌和磁性的影響[J].微納電子技術(shù),2018,55(10):757-761.
作者簡(jiǎn)介:曾鴻志( 1994.06-) 漢族,男, 江蘇南京人, 上海海事大學(xué)物流工程專業(yè) 18級(jí)在讀生碩士研究生, 研究方向:寬禁帶半導(dǎo)體器件開關(guān)特性與應(yīng)用