王占奎, 楊亞坤, 逄明華, 馬利杰, 梁明超, 李勇峰, 蘇建修
(河南科技學院 機電學院, 河南 新鄉(xiāng) 453003)
石英玻璃因具有透光性好、光譜頻帶寬、硬度高、耐腐蝕性強、絕緣性好以及化學性能穩(wěn)定等一系列優(yōu)異的物理化學性能,成為光電子、微電子、光學以及光纖技術(shù)行業(yè)的重要材料之一[1-3]。但是,石英玻璃同時具有較大脆性、較低的斷裂韌性等,傳統(tǒng)的游離磨料加工很容易在其表面產(chǎn)生裂紋、凹坑等缺陷,嚴重影響其產(chǎn)品的使用性能[4-5]。因此,如何改善其表面加工質(zhì)量、提高其加工效率,是石英玻璃超精密加工技術(shù)亟待解決的瓶頸問題。
固結(jié)磨料加工作為新興的超精密加工技術(shù)之一,在很多難加工材料特別是光學玻璃的加工中得到了廣泛應(yīng)用[6-7]。該技術(shù)可顯著提高石英玻璃加工的材料去除率并改善其表面質(zhì)量。對固結(jié)磨料加工而言,研磨墊和工藝參數(shù)是影響其加工效率和表面質(zhì)量的關(guān)鍵因素,因而是當前固結(jié)磨料加工研究的熱點。為提高石英玻璃加工的材料去除率,改善其表面質(zhì)量,朱永偉等[8-9]制備了粒徑為14 μm的親水性金剛石固結(jié)磨料墊,并利用它對石英玻璃進行精研,獲得了材料去除率為2.5~3.0 μm/min ,表面粗糙度Ra為 31.6 nm的良好表面。CHOI等[10-11]采用親水性聚合物黏結(jié)劑制備固結(jié)研磨墊,能夠?qū)崿F(xiàn)固結(jié)磨料研磨墊的自修整,顯著改善了石英玻璃加工后的表面質(zhì)量。SURATWALA等[12-14]對比研究了研磨和磨削的石英玻璃表面微觀形貌、表面損傷特征、亞表面微裂紋深度及其分布特征,結(jié)果表明:采用研磨工藝加工石英玻璃,使石英玻璃的加工質(zhì)量得到明顯改善。
目前,雖有很多研究者對石英玻璃固結(jié)磨料加工的研拋墊和加工工藝參數(shù)進行了研究,但有關(guān)工藝參數(shù)對加工效率和表面質(zhì)量影響規(guī)律的研究不夠詳細,涉及加工工藝優(yōu)化和參數(shù)影響規(guī)律模型的研究也較少。為此,擬采用正交試驗方法,探討石英玻璃固結(jié)磨料研磨過程中的研磨盤轉(zhuǎn)速、研磨壓力、研磨液種類等因素對其材料去除率和表面質(zhì)量的影響,并對試驗結(jié)果做回歸分析,得到材料去除率和工件表面粗糙度與轉(zhuǎn)速、壓力等的回歸方程,獲得研磨加工中各影響因素的顯著性大小和最優(yōu)的工藝參數(shù)組合。
試驗用研磨墊為試驗室自制的固結(jié)磨料研磨墊,它是由質(zhì)量分數(shù)為11.3%的M10/20金剛石、質(zhì)量分數(shù)為5.0%的平均粒徑為10 μm的硫酸鎂及質(zhì)量分數(shù)為83.7%的不飽和聚酯經(jīng)熱引發(fā)固化而成,其具體制備工藝見文獻[15]。加工工件是尺寸為φ25 mm×3 mm的石英玻璃晶圓,加工設(shè)備為圖1所示的ZPY300研磨拋光機。研磨試驗前每個工件的表面狀態(tài)基本一致,其表面粗糙度Ra均在 150~200 nm。每次試驗前,均采用金剛石平均粒徑為150 μm的金剛石修整器,在研拋盤轉(zhuǎn)速為80 r/min、修整壓力為27.58 kPa條件下對固結(jié)磨料研磨墊修整5 min,以確保固結(jié)磨料研磨墊每次試驗前表面狀況一致。
圖1 ZPY300研磨拋光機
采用L1645正交表進行3因素4水平正交試驗,所考察的因素有轉(zhuǎn)速(A)、壓力(B)、研磨液種類(C)。為充分分析各因素對研磨效果的影響及顯著性,每個因素選取4個水平,每組試驗做3次,求其平均值。故正交試驗所采用的因素水平如表1所示,正交試驗表如表2所示。由于實際加工中,一般工件的轉(zhuǎn)速和研磨盤轉(zhuǎn)速及方向一致,故表1中的轉(zhuǎn)速指二者的共同轉(zhuǎn)速。正交試驗表所列參數(shù)之外的其他工藝參數(shù)設(shè)定為研磨液流速50 mL/min,研磨時間20 min。表1中的研磨液種類由質(zhì)量分數(shù)分別為97.5%的去離子水、1.0%的丙三醇及1.5%的酸性或堿性單獨或混合物質(zhì)均勻混合構(gòu)成。
表1 正交試驗因素及水平表
表2 正交試驗表
工件加工效率的評價指標為材料去除率,工件表面質(zhì)量的評價指標為表面粗糙度數(shù)值、表面三維形貌。
(1)材料去除率檢測
用Satorious CP225D精密天平稱量加工前后石英玻璃樣品的質(zhì)量,用千分尺測量石英玻璃的直徑,然后通過失重法計算出石英玻璃在研磨中的材料去除率,具體計算公式為:
(1)
式中:RMRR為材料去除率,nm/min;Δm為石英玻璃加工前后的質(zhì)量差,g;ρ為石英玻璃的密度,試驗樣品ρ為2.2 g/mm3;t為加工時間,取值20 min;r為試驗用石英圓片半徑,mm。
(2)表面粗糙度和表面形貌檢測
每次試驗結(jié)束后,在超聲清洗機中經(jīng)無水乙醇超聲清洗5 min,晾干后,采用Contour GT-X3/X8白光干涉儀對研磨后樣品的表面粗糙度Ra值和表面三維形貌進行檢測。表面粗糙度測量時,在樣品表面間隔均勻地選取5個點檢測,最后取其平均值為最終測量結(jié)果。
表3顯示了正交試驗樣品的材料去除率均值與極差值,其中:k(i,j)表示表1中第j列中對應(yīng)水平i的所有材料去除率數(shù)據(jù)的平均值,Δrj表示第j列的去除率數(shù)據(jù)極差值。在正交試驗中,可以根據(jù)不同因素試驗結(jié)果的極差值大小來判斷其對材料去除率的影響強弱。由表3所示的各因素的極差值大小可知:B的極差值最大,A的極差值最小,C的極差值居中。因此,影響工件材料去除率的各因素大小順序為B(壓力)>C(研磨液種類)>A(轉(zhuǎn)速),最佳的工藝參數(shù)組合是A4B4C1。
表3 工件的材料去除率與極差正交試驗結(jié)果
表4顯示了正交試驗后工件的表面粗糙度值與極差值,其中:l(i,j)表示表1中第j列中對應(yīng)水平i的所有材料表面粗糙度數(shù)據(jù)的平均值,ΔRj表示第j列的表面粗糙度極差值。由表4所示的各因素的極差值的大小可知:A的極差最大,C的極差最小,B的居中。所以,影響表面粗糙度的因素大小為A(轉(zhuǎn)速)>B(壓力)>C(研磨液種類),最佳的工藝參數(shù)組合為A4B4C2。
表4 工件的表面粗糙度與極差值正交試驗結(jié)果
在B4C1條件下,不同轉(zhuǎn)速時的材料去除率如圖2a所示。由圖2a可知:工件的材料去除率隨轉(zhuǎn)速增加而增大。這是由于,當金剛石磨粒與工件表面接觸面積一定時,轉(zhuǎn)速越高磨料對工件材料的作用就越大,磨粒越容易從基體中脫落,磨粒的更新就較快,研磨墊的自修整性能就越好,使工件的材料去除率增大;此外,工件轉(zhuǎn)速越高,單位時間內(nèi)劃過工件表面的磨粒數(shù)就越多,工件表面被去除的材料就越多,因而其材料去除率就越高。對圖2a結(jié)果進行回歸分析,回歸曲線為二次函數(shù)形式,其預(yù)測值與試驗數(shù)據(jù)的標準誤差Se僅為0.597,表明了回歸方程的合理性。
在B4C2條件下,不同轉(zhuǎn)速下材料去除后的表面粗糙度如圖2b所示。圖2b的結(jié)果表明:工件表面粗糙度隨著轉(zhuǎn)速的增加而減小。其原因是,研磨過程中轉(zhuǎn)速越高,單位時間內(nèi)劃過工件表面的磨粒數(shù)就越多,工件表面產(chǎn)生的劃痕就越多,工件表面去除的材料痕跡就越細密,形成的工件表面就越光滑,其表面粗糙度就越小。對圖2b結(jié)果進行回歸分析,回歸曲線為冪函數(shù)形式,其預(yù)測值與試驗數(shù)據(jù)的標準誤差為0.072,表明了回歸方程的合理性。
(a) 材料去除率Material removal rate
當圖2中轉(zhuǎn)速為100 r/min時,材料去除率最大,為160.956 7 nm/min;表面粗糙度最低,為66.799 7 nm,玻璃的表面質(zhì)量最優(yōu)。此時,研磨后的工件表面形貌如圖3所示。
圖3的工件表面較為光滑,表面僅有金剛石磨粒劃擦所產(chǎn)生的細密劃痕,沒有脆性斷裂所產(chǎn)生的凹坑和粗大劃痕;且圖3a的X軸和Y軸的線掃結(jié)果也表明,材料表面沒有出現(xiàn)高低相差較大的點(圖3c、圖3d)。由此可知,100 r/min的轉(zhuǎn)速為試驗的最佳工件轉(zhuǎn)速。
(a) 二維形貌圖 (b) 三維形貌圖2D topography3D topography(c) X向線掃圖 (d) Y向線掃圖Line scan diagram in X directionLine scan diagram in Y direction圖3 轉(zhuǎn)速為100 r/min時的工件表面形貌 Fig. 3 Workpiece surface morphology at a speed of 100 r/min
在A4C1和A4C2條件下,不同研磨壓力下研磨石英玻璃的材料去除率和表面粗糙度分別如圖4a和圖4b所示。
由圖4a可知:工件的材料去除率隨研磨壓力的增加而增大。這是由于,隨著研磨壓力的增加,單個磨粒對工件材料施加的有效載荷就變大,在工件表面的切入深度就越深,工件表面材料的去除就越快,其材料去除率就越大。對其結(jié)果進行回歸分析,回歸曲線為指數(shù)函數(shù)形式,其預(yù)測值與試驗數(shù)據(jù)的標準誤差僅為0.094,表明了回歸方程的合理性。
(a) 材料去除率 (b) 表面粗糙度Material removal rateSurface roughness圖4 不同研磨壓力下的材料去除率和表面粗糙度Fig. 4 Material removal rate and surface roughness at different lapping pressures
圖4b中:工件表面粗糙度隨研磨壓力的增加而減小。其原因是,由于研磨前表面較為粗糙,其研磨壓力大,材料去除率高,在研磨時間內(nèi)前道工序形成的表面層被研磨去除的材料就多,工件表面就越光滑。對其結(jié)果進行回歸分析,回歸曲線為冪函數(shù)形式,其預(yù)測值與試驗數(shù)據(jù)的標準誤差為0.034,表明了回歸方程的合理性。
圖4的結(jié)果表明:研磨壓力為27.58 kPa時,材料去除率最大,為159.220 5 nm/min;表面粗糙度最小,為 76.274 3 nm,玻璃的表面質(zhì)量最優(yōu)。此時的表面形貌如圖5所示。圖5顯示工件表面較光滑,但仍存在金剛石磨粒劃擦所產(chǎn)生的粗大劃痕;且圖5a所示的X軸和Y軸的線掃結(jié)果也表明表面材料僅有數(shù)量極少的高點(圖5c、圖5d)。綜合起來,27.58 kPa壓力即為試驗的最佳研磨壓力。
(a) 二維形貌圖(b) 三維形貌圖2D topography3D topography(c) X向線掃圖 (d) Y向線掃圖Line scan diagram in X directionLine scan diagram in Y direction圖5 研磨壓力為27.58 kPa時的工件表面形貌 Fig. 5 Workpiece surface morphology at the grinding pressure of 27.58 kPa
在A4B4條件下,不同種類研磨液作用后的工件材料去除率和表面粗糙度如圖6所示。試驗所采用的研磨液分酸性和堿性2大類,他們均對工件產(chǎn)生化學作用,這有利于工件材料的去除和表面質(zhì)量的改善[16]。圖6顯示:單獨的三乙醇胺研磨液對工件的作用較差,此時材料去除的主要形式可能為機械去除,即表面粗糙度較大,但此時的材料去除率也較大;乙二胺研磨液加工后得到的工件表面最為光滑,工件表面粗糙度最小,但此時的材料去除率較低;乙二胺和三乙醇胺以體積比1∶1混合后的研磨液的材料去除率均比前二者低,表面粗糙度也介于二者之間;草酸研磨液作用的表面質(zhì)量優(yōu)于三乙醇胺研磨液的而差于乙二胺研磨液的,但其材料去除率最低。綜合以上結(jié)果,若以材料去除率為優(yōu)先考慮目標可選擇三乙醇胺研磨液;若以表面質(zhì)量為優(yōu)先考慮目標則可選擇乙二胺研磨液。
圖6 不同種類研磨液時的材料去除率和表面粗糙度
研究了石英玻璃的固結(jié)磨料研磨工藝,分析了研磨轉(zhuǎn)速、研磨壓力和研磨液種類對石英玻璃研磨的影響因素大小,確定了最佳工藝參數(shù)組合,擬合了材料去除率和表面粗糙度與研磨轉(zhuǎn)速、研磨壓力的回歸方程,得出如下結(jié)論:
(1)影響工件材料去除率的因素大小為壓力(B)>研磨液種類(C)>轉(zhuǎn)速(A);影響表面粗糙度的因素大小為轉(zhuǎn)速(A)>壓力(B)>研磨液種類(C)。
(2)根據(jù)極差分析,優(yōu)先考慮材料去除率的最佳工藝參數(shù)組合為A4B4C1,優(yōu)先考慮表面粗糙度的最佳工藝參數(shù)組合A4B4C2,即:材料去除率最佳的研磨工藝參數(shù)組合為轉(zhuǎn)速100 r/min,壓力27.580 kPa,三乙醇胺研磨液;表面粗糙度最佳的工藝參數(shù)組合為轉(zhuǎn)速100 r/min,壓力27.580 kPa,乙二胺研磨液。
(3)材料去除率與轉(zhuǎn)速的關(guān)系為二次函數(shù)形式,材料去除率與壓力的關(guān)系為指數(shù)函數(shù)形式;表面粗糙度與轉(zhuǎn)速及壓力的關(guān)系均為冪函數(shù)形式。
(4)以材料去除率為優(yōu)先考慮目標可選擇三乙醇胺研磨液,以表面質(zhì)量為優(yōu)先考慮目標則可選擇乙二胺研磨液。