Ge 摻雜GaN 晶體雙光子誘導(dǎo)超快載流子動(dòng)力學(xué)的飛秒瞬態(tài)吸收光譜研究*

方宇 吳幸智 陳永強(qiáng) 楊俊義 宋瑛林

1) (蘇州科技大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院, 江蘇省微納熱流技術(shù)與能源應(yīng)用重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室, 蘇州 215009)

2) (蘇州大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院, 蘇州 215006)

1 引 言

氮化鎵(GaN)是藍(lán)色發(fā)光器件的關(guān)鍵材料,被公認(rèn)為是僅次于硅(Si)的最重要的半導(dǎo)體之一[1].由于具有出色的導(dǎo)熱性、高飽和速度和高擊穿電場(chǎng), GaN 極其適用于大功率和高頻等器件[2]. 與窄間接帶隙半導(dǎo)體Si 相比, GaN 具有很寬的直接帶隙(室溫下約為3.4 eV), 具有極寬的透明窗口, 跨越紫外、可見(jiàn)光和紅外波段, 這使其適合于制備超寬帶的光學(xué)設(shè)備, 尤其是在光通信頻段[3?5]. 眾所周知, 寬帶隙半導(dǎo)體材料(譬如GaN, ZnO)中的固有(本征)缺陷可以極大地改變器件的光學(xué)性能和指標(biāo). 諸如雜質(zhì)和空位之類(lèi)的點(diǎn)缺陷是GaN 中非輻射復(fù)合的主要來(lái)源[6,7], 非輻射復(fù)合會(huì)縮短載流子壽命從而嚴(yán)重影響發(fā)光器件的效率[8]. 另外,線(xiàn)位錯(cuò)(threading dislocations, TDs)和表面缺陷的存在對(duì)載流子傳輸和復(fù)合也起著重要的作用[9].因此, 要設(shè)計(jì)基于GaN 的先進(jìn)光學(xué)和電子器件,探測(cè)和控制非平衡載流子壽命, 對(duì)載流子動(dòng)力學(xué)機(jī)制的清晰認(rèn)識(shí)都是至關(guān)重要的.

Si 是GaN 最常見(jiàn)的n 型摻雜劑, 但是在外延層中出現(xiàn)顯著的拉伸應(yīng)變導(dǎo)致Si 摻雜GaN 的總?cè)毕菝芏仍黾? 最近, 幾個(gè)研究小組發(fā)現(xiàn), 使用鍺(Ge)代替Si 作為n 型摻雜劑可能有助于解決該問(wèn)題, 因?yàn)橛捎贕e 和Ga 原子具有相似的離子半徑,Ge 替換Ga 點(diǎn)位所引起的晶格畸變會(huì)較小[10,11].Ge 也是一種淺施主, 其激活能約為20 meV, 與Si(17 meV)相似[12,13]. Ge 可作為GaN 中非常有利的n 型摻雜劑, 它將使GaN 的表面更平滑, 膜應(yīng)力更低, 缺陷更少[14,15]. 因此, 對(duì)Ge 摻雜GaN(GaN:Ge)晶體缺陷態(tài)的載流子動(dòng)力學(xué)研究尤為必要.

GaN 中缺陷引起的載流子動(dòng)力學(xué)除了與缺陷本身有關(guān), 還和載流子的產(chǎn)生方式有關(guān). 利用單光子吸收和雙光子吸收都可以產(chǎn)生載流子, 這兩種方式不僅可以改變光生載流子的濃度還可以控制非平衡載流子的分布. 在單光子激發(fā)下(one-photon excitation, 1PE), 高吸收系數(shù)會(huì)在半導(dǎo)體表面區(qū)域產(chǎn)生極不均勻的光生載流子. 在這種情況下, 載流子擴(kuò)散和表面復(fù)合等效應(yīng)會(huì)導(dǎo)致GaN 基發(fā)光二極管內(nèi)部量子效率顯著下降[16,17]. 而相反, 雙光子激發(fā)(two-photon excitation, 2PE)會(huì)在半導(dǎo)體內(nèi)部產(chǎn)生較均勻的光生載流子, 這可以有效地避免載流子擴(kuò)散和表面復(fù)合效應(yīng), 更準(zhǔn)確地獲得缺陷引起的載流子復(fù)合弛豫等載流子動(dòng)力學(xué)特性. 基于自由載流子吸收的時(shí)間分辨泵浦探測(cè)技術(shù)是探究GaN 載流子動(dòng)力學(xué)十分有效的方法[18]. 然而, 大部分瞬態(tài)吸收測(cè)量都只利用單波長(zhǎng)進(jìn)行探測(cè)[19?21].利用白光超連續(xù)譜(寬波段)作為探測(cè)光可以同時(shí)了解光生載流子的光譜和時(shí)間特性, 了解不同缺陷態(tài)之間載流子的弛豫復(fù)合機(jī)制和壽命, 給載流子動(dòng)力學(xué)提供更豐富和準(zhǔn)確的信息[22,23]. 最近, 利用飛秒瞬態(tài)吸收光譜, 成功區(qū)分了p 型GaN 中的表面復(fù)合和體缺陷俘獲過(guò)程, 獲得了相應(yīng)的表面復(fù)合壽命和載流子俘獲時(shí)間[24].

本文利用飛秒脈沖2PE 下的近紅外探測(cè)吸收光譜方法探究GaN: Ge 的缺陷載流子動(dòng)力學(xué)機(jī)制.在近紅外波段下寬帶半導(dǎo)體中的載流子吸收會(huì)明顯強(qiáng)于可見(jiàn)光波段下. 實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn), 在n 型GaN 中,載流子吸收隨著探測(cè)波長(zhǎng)增加而顯著增強(qiáng), 光學(xué)聲子輔助的空穴間接吸收對(duì)載流子動(dòng)力學(xué)起著決定性的作用. 瞬態(tài)吸收響應(yīng)呈現(xiàn)雙指數(shù)衰減, 其中較快的壽命t1幾乎不隨激發(fā)能流發(fā)生變化, 而較慢的壽命t2隨著激發(fā)能流逐漸增大. 利用載流子復(fù)合模型可以很好地解釋實(shí)驗(yàn)結(jié)果, 并且獲得了相應(yīng)缺陷態(tài)的載流子俘獲系數(shù).

2 樣品與實(shí)驗(yàn)方法

(0001)取向的GaN 晶體利用氫化物氣相外延(hydride vapor phase epitaxy, HVPE)生長(zhǎng)在GaN/藍(lán)寶石基底上(約3 mm), 在生長(zhǎng)過(guò)程中通過(guò)控制HCl 流量來(lái)控制Ge 摻雜的濃度. 實(shí)驗(yàn)所用的樣品是從塊狀GaN 晶體中距離基底約1 mm 處切下, 并對(duì)兩面進(jìn)行了拋光, 尺寸為10 mm×10.5 mm×2 mm. 樣品具有很低的位錯(cuò)密度(約1×106cm–2),通過(guò)霍爾效應(yīng)確定GaN: Ge 在熱平衡下的載流子濃度n0約為0.5×1018—1×1018cm–3. 利用二次離子質(zhì)譜(secondary ion mass spectroscopy, SIMS)方法測(cè)量了GaN: Ge 中最常見(jiàn)的雜質(zhì)氧(O)和碳(C)的 濃 度 分 別 約 為2×1016—5×1016cm–3和0.8×1016—2.2×1016cm–3, 證明了HVPE 生長(zhǎng)的GaN 具有很高的純度.

本文利用瞬態(tài)吸收光譜(transient absorption spectroscopy, TAS)來(lái)探究GaN: Ge 的超快載流子動(dòng)力學(xué), 進(jìn)行了波長(zhǎng)相關(guān)的瞬態(tài)吸收測(cè)量. 與時(shí)間分辨光致發(fā)光相比, TAS 方法不受載流子復(fù)合方式的影響, 能夠在不同光子能量探測(cè)下獲得非平衡載流子濃度, 可以通過(guò)吸收譜線(xiàn)獲得缺陷態(tài)的躍遷能級(jí), 具體測(cè)量光路以及原理參見(jiàn)文獻(xiàn)[25,26].TAS 的激 發(fā) 脈沖光 源為L(zhǎng)ight Conversion 公司摻鐿光纖(Yb: KGW)飛秒激光器(PHAROS,1030 nm)泵浦的光學(xué)參量放大器(OPA, Light Conversion ORPHEUS, 190 fs, 6 kHz), 激發(fā)光在樣品處的光斑半徑約為0.8 mm.500—1100 nm 波長(zhǎng) 范 圍 的 白 光 超 連 續(xù) 譜 (white-light supercontinuum, WLS)探測(cè)脈沖由OPA 泵浦脈沖(1030 nm)聚焦到5 mm 非線(xiàn)性介質(zhì)YAG 晶體上而產(chǎn)生, 在樣品處的光斑半徑小于100 μm. 利用成像光譜儀結(jié)合Si 二極管陣列光電探測(cè)器檢測(cè)樣品之后的透射探測(cè)脈沖信號(hào). 在每個(gè)延遲時(shí)間對(duì)300 個(gè)瞬態(tài)吸收光譜進(jìn)行平均處理來(lái)消除泵浦光和光譜的浮動(dòng). 通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)同步鎖相放大器比較在有泵浦脈沖和無(wú)泵浦脈沖時(shí)的透過(guò)樣品的WLS 強(qiáng)度, 即可得到不同探測(cè)波長(zhǎng)lp和延遲時(shí)間t下樣品的差分光密度(?OD):

式中Iunpumped為沒(méi)有泵浦光激發(fā)時(shí)WLS 的強(qiáng)度,而Ipumped為有泵浦光激發(fā)時(shí)WLS 的強(qiáng)度. 本文涉及的所有實(shí)驗(yàn)測(cè)量均在室溫下進(jìn)行.

3 結(jié)果與討論

3.1 雙光子激發(fā)下的瞬態(tài)吸收光譜

圖1(a)顯示了GaN: Ge 晶體的線(xiàn)性吸收光譜, 當(dāng)波長(zhǎng)大于帶隙對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)時(shí)(365 nm,3.4 eV)時(shí), 樣品不存在任何光吸收, 證明了樣品具有很高的純度及極低的缺陷密度. 利用650 nm 下的飛秒Z掃描測(cè)量技術(shù)來(lái)驗(yàn)證GaN: Ge 晶體的雙光子吸收特性. 光源與瞬態(tài)吸收光譜所用的光源一致, 在焦點(diǎn)處光斑的半徑約為45 μm. 在不同入射脈沖能量下的開(kāi)孔Z掃描曲線(xiàn)如圖1(b)所示. 樣品表現(xiàn)出明顯的反飽和吸收, 樣品的吸收系數(shù)變化Da可表示為

其中b為雙光子吸收系數(shù),I為樣品處的峰值光強(qiáng).利用Z掃描理論[27]擬合得到b≈ 5.1 cm/GW,其值不隨入射能量變化, 證明了反飽和吸收來(lái)自于雙光子吸收. 圖1(a)的內(nèi)插圖還顯示了在2PE(650 nm)下GaN: Ge 晶體的照片, 整個(gè)晶體發(fā)出了明亮的黃光. GaN 的黃帶發(fā)光是GaN 中最常見(jiàn)的由點(diǎn)缺陷引起的發(fā)光[7]. HVPE 生長(zhǎng)的低位錯(cuò)GaN 晶體在室溫下的光致發(fā)光(photoluminescence)光譜可參考文獻(xiàn)[28,29], 除了很強(qiáng)的帶邊發(fā)射(bandedge emission, BE)以外, 依然可以觀(guān)測(cè)到中心約為2.2 eV 的黃色發(fā)光(yellow luminescence, YL)帶. 說(shuō)明即使在較低的位錯(cuò)密度和雜質(zhì)濃度下,GaN 中的缺陷依然會(huì)對(duì)其光學(xué)性質(zhì)產(chǎn)生嚴(yán)重的影響.

圖1 (a) GaN: Ge 晶體的線(xiàn)性吸收譜, 內(nèi)插圖為2PE 下的發(fā)光圖片; (b)不同脈沖能量激發(fā)下GaN: Ge 的開(kāi)孔Z 掃描曲線(xiàn), 實(shí)線(xiàn)為理論擬合曲線(xiàn)Fig. 1. (a) Linear absorption spectrum of GaN: Ge crystal.The inset shows the two-photon excited photoluminescence photograph of sample; (b) open-aperture Z-scan data of GaN: Ge at several input pulse energies, the solid lines are theoretical fitting curves.

圖2 (a) 2PE 下GaN: Ge 的 超快瞬 態(tài) 吸收光譜, 激發(fā)能流 為0.8 mJ/cm2; (b) 1PE 下GaN: Ge 的 超 快 瞬 態(tài) 吸 收 光譜, 激發(fā)能流為0.5 mJ/cm2. 內(nèi)插圖均為可見(jiàn)光探測(cè)下的結(jié)果Fig. 2. (a) Ultrafast TAS in GaN: Ge using 2PE under the excitation fluence of 0.8 mJ/cm2; (b) ultrafast TAS in GaN:Ge using 1PE under the excitation fluence of 0.5 mJ/cm2.The insets show the TAS probed at visible wavelengths.

圖2 顯 示 了2PE(650 nm)和1PE(325 nm)下GaN:Ge 的TAS 響應(yīng). 在不同的激發(fā)波長(zhǎng)下,整個(gè)吸收光譜(1.1—2.6 eV)都隨著探測(cè)波長(zhǎng)的增加單調(diào)增強(qiáng), 這是自由載流子吸收才具備的特點(diǎn)[30,31].此外, 沒(méi)有任何吸收峰的存在, 也證明可以忽略帶內(nèi)缺陷引起的光吸收. 據(jù)此, 瞬態(tài)吸收可認(rèn)為由導(dǎo)帶和價(jià)帶內(nèi)的電子和空穴間接吸收引起, 瞬態(tài)吸收響應(yīng)的衰減對(duì)應(yīng)著導(dǎo)帶電子和價(jià)帶空穴的復(fù)合. 但是與2PE 下TAS 響應(yīng)不同的是, 1PE 下的TAS響應(yīng)幾乎不隨延遲時(shí)間衰減, 即使在特別低的激發(fā)能流下(0.1 mJ/cm2). 這是由于1PE 下非平衡載流子濃度(約1018cm–3)遠(yuǎn)大于樣品中的缺陷濃度(約1016cm–3), 缺陷對(duì)載流子弛豫的影響很小. 而2PE 下的非平衡載流子濃度與缺陷濃度相近, 因此, 本文重點(diǎn)分析2PE 下的TAS 響應(yīng)來(lái)研究缺陷對(duì)GaN: Ge 超快載流子動(dòng)力學(xué)的影響及機(jī)制. 利用關(guān)系擬合2PE 下的吸收光譜(seh為載流子吸收截面), 可見(jiàn)光光譜下b= 2.5, 這滿(mǎn)足極性光學(xué)聲子輔助的載流子吸收[32]. 但是, 對(duì)于近紅外光譜,b值從剛激發(fā)時(shí)(3 ps)的6.5 逐漸降低到2.5(500 ps). 根據(jù)文獻(xiàn)[31]的報(bào)道: 在1050 nm附近由于GaN 的能帶結(jié)構(gòu), 空穴引起的吸收將占主導(dǎo); 而在較短的波長(zhǎng)至可見(jiàn)光波段, 電子吸收的比重逐漸增大; 此外, 能帶的非拋物性也會(huì)導(dǎo)致b> 2.5. 對(duì)瞬態(tài)吸收光譜機(jī)制的進(jìn)一步探究將在3.3 節(jié)中進(jìn)行.

3.2 超快載流子動(dòng)力學(xué)

圖3(a)顯示了2PE 不同激發(fā)能流下從TAS響應(yīng)中提取的GaN: Ge 在探測(cè)波長(zhǎng)1050 nm 下的瞬態(tài)吸收衰減響應(yīng). 為了看到更快的超快過(guò)程, 圖3(a)中的內(nèi)插圖展示了短時(shí)間尺度下的瞬態(tài)吸收響應(yīng)(0.8 mJ/cm2). 在零延遲附近超快的尖峰響應(yīng)(0—0.4 ps)來(lái)源于泵浦光和探測(cè)光重合時(shí)產(chǎn)生的相干散射, 而在之后觀(guān)察到吸收信號(hào)約1 ps 的上升時(shí)間, 這可認(rèn)為是非平衡載流子產(chǎn)生與弛豫到導(dǎo)帶底部的過(guò)程(帶內(nèi)載流子弛豫過(guò)程). 在2—3 ps 后吸收響應(yīng)逐漸衰減, 利用雙指數(shù)衰減方程可以很好地?cái)M合實(shí)驗(yàn)結(jié)果:

其中,Ai和ti分別代表指數(shù)前常數(shù)(振幅)和相應(yīng)的衰減時(shí)間常數(shù)(壽命). 在不同激發(fā)能流下擬合得到的載流子壽命如圖3(b)所示. 可以發(fā)現(xiàn): 快速壽命幾乎不隨激發(fā)能流發(fā)生變化, 弛豫時(shí)間在30—60 ps 之間; 而慢速壽命當(dāng)激發(fā)能流大于0.4 mJ/cm2時(shí)隨著激發(fā)能流增大而顯著增加.

通常, 半導(dǎo)體中的載流子可以通過(guò)平衡方程模擬[18]:

圖3 (a)不同激發(fā)能流下GaN: Ge 的瞬態(tài)吸收 動(dòng)力學(xué),探測(cè)波長(zhǎng)為1050 nm, 實(shí)線(xiàn)為雙指數(shù)擬合曲線(xiàn), 內(nèi)插圖為較短時(shí)間尺度下(7 ps)的數(shù)據(jù); (b)不同激發(fā)能流下瞬態(tài)吸收衰減曲線(xiàn)擬合得到的快速和慢速弛豫壽命(分別為t1 和t2)Fig. 3. (a) The transient absorption kinetics in GaN: Ge under various excitation fluence probed at 1050 nm, the solid lines denote the theoretical curves using bi-exponential decay, and the inset illustrates the transient absorption kinetics in a 7 ps time window; (b) the fast and slow relaxation time (t1 and t2, respectively) extracted from transient absorption kinetics under various excitation fluence.

3.3 載流子弛豫復(fù)合機(jī)制

為了進(jìn)一步解釋載流子動(dòng)力學(xué)機(jī)制, 根據(jù)3.2 節(jié)的分析, 基于圖4 所示的能級(jí)系統(tǒng), 利用速率方程對(duì)載流子動(dòng)力學(xué)進(jìn)行模擬. 在圖4 中, Ge 雜質(zhì)產(chǎn)生的淺施主能級(jí)在室溫下全部電離提供熱平衡下的自由電子. 把樣品中的缺陷能級(jí)分為兩類(lèi):1)輻射受主(-/0)能級(jí)CN, 其濃度為Ni, 該缺陷導(dǎo)致了缺陷發(fā)光(YL); 2)引起非輻射復(fù)合的線(xiàn)缺陷,估計(jì)TDs 引起的載流子壽命tnRad= 40 ns. 對(duì)于第一類(lèi)情況: CN受主能級(jí)在價(jià)帶上方約0.9 eV處[33,39], 在n 型GaN 中由于施主能級(jí)的存在(濃度為Nd), CN帶一價(jià)負(fù)電(即CN—), 它可以以俘獲系數(shù)Cpi俘獲價(jià)帶中產(chǎn)生的空穴, CN—變?yōu)镃N0;隨后, 被俘獲的空穴可以與導(dǎo)帶中的電子以系數(shù)Cni發(fā)生復(fù)合, 發(fā)出光子(YL), CN0再轉(zhuǎn)變?yōu)镃N—.此外, 我們也考慮了導(dǎo)帶電子與價(jià)帶空穴的直接復(fù)合, 通過(guò)復(fù)合速率BRad帶間輻射復(fù)合產(chǎn)生BE.

圖4 用于模擬2PE 下GaN 載流子動(dòng)力學(xué)的能帶示意圖.直虛線(xiàn)箭頭表示無(wú)輻射躍遷, 向下曲線(xiàn)箭頭表示通過(guò)輻射復(fù)合產(chǎn)生的發(fā)光Fig. 4. Energy band diagram used to model the carrier dynamics of GaN under 2PE. Straight broken arrows denote non-radiative transitions and curvy downwards arrows denote emissions via radiative recombination.

根據(jù)3.1 節(jié)的分析, 隨著探測(cè)波長(zhǎng)的增加, 空穴吸收對(duì)載流子吸收的貢獻(xiàn)逐漸增大. 由于(–/0)能級(jí)距離價(jià)帶較近, 因此, 空穴俘獲的速度將遠(yuǎn)快于導(dǎo)帶電子的復(fù)合速度(Cpi>Cni), 這導(dǎo)致了圖2(a)中瞬態(tài)吸收譜線(xiàn)的b值隨著延遲時(shí)間逐漸降低.當(dāng)DnNi時(shí),濃度產(chǎn)生飽和,濃度降為零, 電子復(fù)合的速率將會(huì)制約空穴的俘獲. 這也解釋了為何當(dāng)激發(fā)能流為0.8 mJ/cm2時(shí)載流子壽命顯著增長(zhǎng), 并隨著激發(fā)能流的提高而進(jìn)一步增長(zhǎng)(見(jiàn)圖3(b)). 根據(jù)激發(fā)的載流子濃度,可以估計(jì)Ni≈ 0.5 × 1016—2 × 1016cm–3, 這與SIMS測(cè)得C 雜質(zhì)濃度十分一致. 當(dāng)然, GaN 中還可能存在引起其他缺陷發(fā)光的受主能級(jí)和無(wú)輻射復(fù)合中心, 但是考慮到它們對(duì)空穴的俘獲系數(shù)與Cpi都在10–7cm3·s–1量級(jí)[7,8,34,39,40], 所以可以認(rèn)為它們?cè)跇悠分械臐舛冗h(yuǎn)小于1016cm–3.

根據(jù)圖4 的示意圖, 可以建立如下的速率方程:

式中,G同(4)式中的定義,和分別為中性受主態(tài)和負(fù)電受主態(tài)濃度. 總的電子濃度n為熱平衡 下 的 電 子 濃 度n0(Nd–Ni)與 光生 電 子 濃 度Dn之和. 電荷中性條件為Dp為光生空穴濃度. 通過(guò)數(shù)值求解這組速率方程,可以確定2PE 下布居在各態(tài)的載流子動(dòng)力學(xué)過(guò)程.同時(shí), 瞬態(tài)響應(yīng)可以通過(guò)以下方程獲得:

其中,se(h)表示電子(空穴)吸收截面, 同時(shí)定義吸收截面比值S=sh/se. 擬合的動(dòng)力學(xué)結(jié)果如圖5所示, (5)式和(6)式使用和確定的所有參數(shù)在表1中列出. 與實(shí)驗(yàn)結(jié)果完全一致, 快速過(guò)程幾乎保持不變而慢速衰減過(guò)程隨著能流增大而逐漸減慢. 同時(shí)也計(jì)算了更高能流激發(fā)和1PE 下(0.5 mJ/cm2)的超快載流子動(dòng)力學(xué). 可以發(fā)現(xiàn), 隨著激發(fā)能流的進(jìn)一步增大, 快速衰減過(guò)程的占比將逐漸減小; 甚至當(dāng)1PE 激發(fā)時(shí), 樣品表面處的Dn> 1018cm–3,此時(shí)電子的慢速?gòu)?fù)合過(guò)程會(huì)完全限制載流子的復(fù)合, 造成了無(wú)快過(guò)程的單指數(shù)衰減, 與圖2(b)的結(jié)果完全一致.的空穴俘獲系數(shù)Cpi數(shù)值與文獻(xiàn)報(bào)道的6 × 10–7cm3·s–1幾乎一致[34], 并且Cpi?Cni和S> 1 也與之前的分析和預(yù)測(cè)完全相符.

圖5 利用載流子復(fù)合模型擬合和模擬不同激發(fā)能流下GaN: Ge 的超快載流子弛豫動(dòng)力學(xué) (a)實(shí)驗(yàn)結(jié)果擬合;(b)更大的激發(fā)能流和1PE 情況Fig. 5. Fitting and simulation of ultrafast carrier relaxation dynamics in GaN: Ge using carrier recombination model:(a) The fitting of experimental results; (b) under higher excitation fluence and 1PE.

表1 用于模擬實(shí)驗(yàn)結(jié)果使用和確定的參數(shù).Ni 和tnRad 的數(shù)值為預(yù)估值, BRad 數(shù)值來(lái)自參考文獻(xiàn)[18], Cni, Cpi 和S 數(shù)值為擬合實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)確定的參數(shù)Table 1. Parameters used/determined to model the experimental results. The values of Ni and tnRad were estimated. The value of BRad was extracted from Ref. [18]. The values of Cni, Cpi and S were determined by fitting the data.

載流子壽命是光子器件的關(guān)鍵, 而根據(jù)(5)式以及載流子動(dòng)力學(xué)實(shí)驗(yàn)和模擬結(jié)果可知: 1)在高載流子注入下(>1018cm–3), n 型GaN 的載流子壽命主要由位錯(cuò)密度和輻射復(fù)合決定; 2)在適中的載流子注入下(1016—1017cm–3), 輻射缺陷、非輻射復(fù)合缺陷以及固有載流子濃度將會(huì)共同決定載流子的壽命. 圖6 顯示了在1PE 和2PE 下GaN:Ge 在通訊波段1310 nm 探測(cè)下的超快瞬態(tài)吸收響應(yīng). 和我們分析的一致, 1PE 下的載流子壽命(約10 ns)遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于2PE 下的載流子壽命. 根據(jù)參考文獻(xiàn)[41], 可估算出1PE 下GaN:Ge 的發(fā)光內(nèi)量子效率約50%. 2PE 下內(nèi)量子效率雖然嚴(yán)重下降,但更快的載流子壽命反而有利于其應(yīng)用于超快全光開(kāi)關(guān)器件.

圖61 PE(0.8 mJ/cm2)和2PE(1.6 mJ/cm2)下GaN:Ge在通訊波段1310 nm 下的超快瞬態(tài)吸收動(dòng)力學(xué)Fig. 6. Ultrafast transient absorption kinetics in GaN:Ge probed at communication band 1310 nm under both 1PE(0.8 mJ/cm2) and 2PE (1.6 mJ/cm2).

4 結(jié) 論

以飛秒瞬態(tài)吸收光譜作為探測(cè)手段, 在近紅外波段對(duì)n 型GaN: Ge 晶體進(jìn)行了超快載流子動(dòng)力學(xué)研究. 實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn), 瞬態(tài)吸收響應(yīng)隨著探測(cè)波長(zhǎng)而單調(diào)增強(qiáng), 主要源于聲子輔助的間接空穴吸收, 其占比隨著探測(cè)波長(zhǎng)增加而增高. 在雙光子激發(fā)下,瞬態(tài)吸收表現(xiàn)為雙指數(shù)動(dòng)力學(xué)過(guò)程. 其快速壽命t1(30—60 ps)來(lái)源于深能級(jí)CN—對(duì)空穴的俘獲.而慢速壽命t2則主要對(duì)應(yīng)導(dǎo)帶電子與俘獲空穴的復(fù)合過(guò)程, 對(duì)應(yīng)于缺陷黃帶發(fā)光. 由于缺陷能級(jí)的飽和,t2隨著激發(fā)能流的增大逐漸增加. 通過(guò)建立包括輻射缺陷、非輻射缺陷態(tài)在內(nèi)的載流子弛豫模型很好地模擬了載流子動(dòng)力學(xué), 并得到了空穴俘獲系數(shù)等一系列光物理參數(shù). 研究結(jié)果為n 型GaN 中的載流子復(fù)合提供了很重要的信息, 為GaN 在發(fā)光器件、光導(dǎo)器件和全光開(kāi)關(guān)器件的應(yīng)用提供了重要的實(shí)驗(yàn)和理論參考.