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    硒精煉車間工程設計實踐

    2020-06-27 00:27:04池文榮
    世界有色金屬 2020年6期
    關鍵詞:干燥機二氧化硫氧氣

    池文榮

    (中國恩菲工程技術有限公司,北京 100038)

    引言

    硒是一種用途非常廣泛稀散元素,主要應用于冶金、電子、飼料等行業(yè)。隨著科技的發(fā)展,硒的下游產(chǎn)品對硒的品位要求也越來越高[1]。所以,如何高效提純粗硒變得越發(fā)重要。

    1 原料

    某廠年產(chǎn)銅陽極泥3600t/a,陽極泥經(jīng)加壓浸出,卡爾多熔煉后,產(chǎn)出粗硒約100t/a,作為粗硒精煉的原料?;瘜W成分表見表1。

    表1 硒精煉原料化學成分(%,g/L)

    2 工藝方案

    目前國內(nèi)提純粗硒的工藝主要有氧氣燃燒法、硝酸氧化-液體二氧化硫還原、氧氣氧化-氨還原、真空蒸餾法以及溶劑萃取和離子交換等[2-4]。真空蒸餾工藝設備少,操作簡單,但是原料適應性較差;硝酸氧化-液體二氧化硫還原工藝產(chǎn)品品位高,但是會生成大量二氧化氮,環(huán)境不友好;綜合考慮,本項目采用氧化燃燒法,該工藝技術可行,操作簡單[5],產(chǎn)品質量較為穩(wěn)定,污染較小。

    硒精煉車間采用的工藝流程見圖1。

    圖1 硒精煉工藝流程框圖

    2.1 粗硒的干燥

    粗硒原料一般都含有較多的水分,高時可達40%。為了保證入爐含水量低于1%,需要對粗硒進行干燥處理。粗硒干燥的要求是:物料干燥均勻,并且干燥后含水量少于1%;干燥后成粉狀,不得結塊;物料受熱均勻,干燥溫度不得高于100℃。

    近十年來,新建廠房主要采用微波干燥機,不再是傳統(tǒng)的蒸汽干燥機,解決了傳統(tǒng)蒸汽干燥帶來的物料板結、脫水不均勻的問題。同時,現(xiàn)場的操作環(huán)境得到了極大地改善。

    2.2 粗硒的氧化吸收

    粗硒氧化主要是用氧氣做氧化劑,粗硒在氧化爐中與氧氣反應生成二氧化硒。二氧化硒與水反應生成亞硒酸,主要反應方程式如1-1,1-2。

    影響粗硒氧化的主要因素是:反應溫度、氧氣流量[6]。

    a.反應溫度:目前,各個廠生產(chǎn)反應溫度大都設定在約550±20℃,溫度太低,硒氧化不完全,粗硒會夾帶進二氧化硒中,影響產(chǎn)品質量;溫度太高,爐體氧化腐蝕也加劇[6]。

    b.氧氣流量:氧氣流量直接關系到氧化爐中熔融態(tài)粗硒的反應速度,所以控制氧氣供應速度顯得極為重要。氧氣供應過少,反應速度過慢;氧氣供應過剩,則氧氣耗量偏大,單位成本偏高。目前生產(chǎn)上,當溫度在570℃時,氧氣的過量系數(shù)一般控制在2.78[6]。

    粗硒氧化吸收主要設計參數(shù)見表2。

    表2 氧化吸收的主要設計參數(shù)

    2.3 凈化除雜

    二氧化硒在與水反應過程中,部分粗硒中的汞也進入溶液中,為了脫除這些汞,需要加入10%-15%的硫化銨溶液,反應方程式如1-3。

    在加入硫化銨之前,需加入部分氨水,將溶液中和至pH 5,以減少硫化銨的用量。目前,各個廠的操作表明,隨著硫化銨的加入,當pH值達到5時,大部分汞被脫除。需要指出的是,凈化操作需要極為精細,因為當溶液pH值過高,部分硒會以二氧化硒的形式沉淀出來,造成硒的損失[7]。當溶液pH值過低時,汞的脫除率又無法達標。

    另外,由于硫化汞等雜質在溫度較低時,是以膠狀物的形式存在的,為了便于過濾操作,溶液在凈化過程中,需要凈化除汞的溫度應不低于70℃[7]。

    凈化除雜的主要設計參數(shù)見表3。

    表3 凈化除雜的主要設計參數(shù)

    2.4 還原

    還原操作一般分兩個階段,第一階段還原80%的亞硒酸,獲得99.99%的精硒.第二階段還原剩下的20%亞硒酸,所得粗硒返回原料干燥工段。在以二氧化硫為還原劑的時,反應方程式為:

    為了減少二氧化硫的損耗,同時加快還原反應速度,可以加入壓縮空氣攪拌溶液。還原的主要設計參數(shù)見表4。

    表4 還原的主要設計參數(shù)

    3 設備選擇與廠房配置

    3.1 主要設備選型

    (1)粗硒氧化爐:氧化工序選擇采用Q≥150Kg/d粗硒氧化爐4臺;

    (2)反應釜:凈化除雜工序選擇規(guī)格為V=3m3的搪瓷反應釜4臺;還原工序選擇規(guī)格為V=3m3的搪瓷反應釜6臺;

    (3)微波干燥機:粗硒干燥和精錫干燥各采用一臺11200x1210x1800,80kw微波干燥機。

    3.2 廠房配置

    硒精煉各工序配置在24×24m的三層廠房內(nèi)。微波干燥機、各工序搪瓷釜配置在三層▽9.900m平面;粗硒氧化爐、各工序吸慮盤主要配置在二層▽5.000m平面;一層主要是配置了各類貯槽、水環(huán)式真空泵、漿化洗滌槽、包裝機組等。

    4 結語

    (1)為了獲得99.99%精硒,凈化除雜、氧化吸收工序操作精度要求較高,需要進一步加強開發(fā)相關的自動化成套設備。

    (2)二氧化硫作為還原劑,在生產(chǎn)中反應效率低于50%,未反應的二氧化硫在暖通系統(tǒng)與堿中和,增加了成本,所以需要探索其它還原劑。

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