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      TFT-LCD摩擦工藝ESD研究與改善

      2020-03-13 11:27:10高榮榮周保全陳維誠左愛翠郭紅光韓基挏
      液晶與顯示 2020年1期
      關(guān)鍵詞:防靜電大塊基板

      高榮榮, 周保全, 江 橋, 滕 玲, 陳維誠, 左愛翠, 郭紅光, 韓基挏

      (合肥京東方光電科技有限公司 Cell分廠,安徽 合肥 230012)

      1 引 言

      TFT-LCD制程過程中摩擦工藝很容易發(fā)生ESD,這種ESD對TFT器件影響較大,可以燒毀TFT器件溝道使面板點(diǎn)亮?xí)r產(chǎn)生異常[1],嚴(yán)重影響產(chǎn)品品質(zhì)同時(shí)變相增加了面板成本,所以ESD需要從根本上改善。

      本文以6G工廠中生產(chǎn)的317.5 mm(12.5 in)產(chǎn)品為例,研究在摩擦過程中ESD問題。ESD容易導(dǎo)致面板區(qū)域多個(gè)連續(xù)TFT器件溝道燒毀,面板點(diǎn)燈狀態(tài)表現(xiàn)為半截亮線。通過不良分析和實(shí)驗(yàn)測試找出工藝和設(shè)計(jì)改善方法,從根本上解決摩擦過程中ESD問題。

      2 ESD現(xiàn)象與特點(diǎn)

      2.1 ESD器件燒毀現(xiàn)象

      面板在點(diǎn)亮?xí)r可以看到ESD燒毀TFT器件溝道產(chǎn)生的一條短亮線,短亮線所有畫面下均可見,目鏡(×20)觀察短亮線為像素發(fā)亮,一般為連讀幾個(gè)像素都會發(fā)亮,宏觀表現(xiàn)為一條短的亮線,如圖1所示。

      圖1 亮線現(xiàn)象Fig.1 Phenomenon of data open

      顯微鏡確認(rèn)短亮線區(qū)域TFT器件溝道有異常痕跡(圖2),且FIB確認(rèn)可見TFT溝道區(qū)域內(nèi)部膜層有燒毀現(xiàn)象(圖3)。

      圖2 亮線顯微鏡照片F(xiàn)ig.2 Microscope phenomenon of data open

      圖3 靜電燒毀FIB圖片F(xiàn)ig.3 FIB picture of ESD

      3 ESD原理

      摩擦工藝中,摩擦布摩擦TFT玻璃基板,由于TTF基板上有金屬層。摩擦布和TFT基板摩擦過程中產(chǎn)生靜電,當(dāng)靜電積累到一定程度發(fā)生放電,放電瞬間產(chǎn)生的大電流燒毀TFT器件[2],導(dǎo)致TFT器件無法正常工作,在面板點(diǎn)亮?xí)r,異常器件的像素區(qū)域表現(xiàn)為發(fā)亮,表現(xiàn)在面板上為短亮線。

      摩擦工藝是TFT-LCD行業(yè)中使液晶分子配向工藝[3],即摩擦布在TFT基板上高速運(yùn)轉(zhuǎn)相互摩擦,最終摩擦布使TFT玻璃基板上的配向膜具有配向能力[4],液晶分子可以按照一定順序排列在配向膜上,如圖4所示。

      圖4 摩擦工藝示意圖Fig.4 Rubbing process

      在摩擦工藝中,摩擦輥的轉(zhuǎn)速1 200 r/min,基板前進(jìn)的速度為50 mm/s, 摩擦布的壓入量為0.4 μm[5],實(shí)際摩擦工藝中摩擦布和玻璃基板高速摩擦?xí)r容易產(chǎn)生大量摩擦靜電,靜電在基板上釋放過程中容易燒毀玻璃基板上的TFT器件溝道[6]。對玻璃基板上TFT器件燒毀的線路進(jìn)行確認(rèn),發(fā)現(xiàn)異常放電的原因?yàn)門FT基板IC交界位置處有大塊金屬,大塊金屬電容較大,摩擦過程中聚集大量電荷容易放電產(chǎn)生大電流,燒毀線路上比較薄弱的器件溝道位置即發(fā)生ESD。

      4 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)

      本文實(shí)驗(yàn)測試在TFT-LCD 6G工廠中進(jìn)行,選取317.5 mm(12.5 in)產(chǎn)品為例進(jìn)行測試,每次實(shí)驗(yàn)測試都是單變量測試,實(shí)驗(yàn)中除了測試變量外其他生產(chǎn)工藝均相同,最后樣品做成產(chǎn)品形式,再點(diǎn)燈對樣品進(jìn)行ESD發(fā)生與否判定,同時(shí)對不良樣品顯微鏡確認(rèn)器件溝道是否有燒毀痕跡,最后綜合統(tǒng)計(jì)ESD的發(fā)生率。

      4.1 工藝影響

      4.1.1 摩擦設(shè)備濕度對ESD 的影響

      在摩擦工藝中,設(shè)備濕度影響摩擦過程中產(chǎn)生的靜電。我們對摩擦設(shè)備的濕度進(jìn)行測試驗(yàn)證,設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)如表1所示。

      表1 不同濕度設(shè)計(jì)Tab.1 Design of different humidity

      4.1.2 設(shè)備機(jī)臺涂布防靜電液對ESD的影響

      設(shè)備機(jī)臺涂布防靜電液形成極薄的透明膜,提供持久高效的靜電耗散功能,對摩擦設(shè)備機(jī)臺涂布防靜電液和不涂布防靜電液進(jìn)行測試驗(yàn)證,設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)如表2所示。

      表2 機(jī)臺涂布防靜電液設(shè)計(jì)Tab.2 Design of electrostatic prevention

      4.1.3 摩擦布壽命對ESD影響

      選取摩擦布不同壽命對玻璃基板進(jìn)行摩擦,設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)如表3所示。

      表3 不同摩擦布壽命設(shè)計(jì)Tab.3 Design of different rubbing clothing lift time

      4.2 設(shè)計(jì)影響

      ESD放電源頭是TFT基板上IC中間位置大塊金屬在摩擦工藝中產(chǎn)生大量電荷,電荷對周邊金屬信號線放電,燒毀與輸入信號線連接的TFT器件溝道,導(dǎo)致面板點(diǎn)亮?xí)r產(chǎn)生短亮線,對面板畫質(zhì)產(chǎn)生影響。

      產(chǎn)品設(shè)計(jì)時(shí)把懸空大塊金屬變?yōu)樾K金屬,且小塊金屬的排列為交錯(cuò)排列,如圖5所示,防止在摩擦過程中積累大量電荷發(fā)生ESD。

      圖5 大塊金屬設(shè)計(jì)變更示意圖Fig.5 Design change of floating large metal

      5 結(jié)果與討論

      5.1 工藝方面

      5.1.1 摩擦設(shè)備濕度對ESD影響結(jié)果

      從圖6可以看出,摩擦設(shè)備濕度增加,ESD發(fā)生率降低。當(dāng)濕度達(dá)到64RH%時(shí),ESD發(fā)生率0.51%。

      圖6 不同濕度對應(yīng)ESD發(fā)生率Fig.6 Result of different humidity

      當(dāng)濕度等于64RH%,空氣的相對濕度增加,玻璃基板表面增加水膜,使表面電阻率大大降低,靜電荷就不易積聚,積累電荷量變少。摩擦過程中產(chǎn)生的ESD減小[7],最終對TFT器件的損傷減小,產(chǎn)品不良率降低。

      當(dāng)濕度等于58RH%,摩擦工藝中產(chǎn)生的靜電不易消散,有可能形成高電位。容易在摩擦過程中產(chǎn)生ESD[8]。所以當(dāng)摩擦設(shè)備濕度較低時(shí)容易發(fā)生ESD,損害玻璃基板上的TFT器件。

      5.1.2 設(shè)備機(jī)臺涂布防靜電液對ESD的影響

      從圖7可以看出,摩擦設(shè)備機(jī)臺涂布防靜電液, ESD發(fā)生率明顯降低為1.2%。

      圖7 有無防靜電液ESD發(fā)生率Fig.7 Result of electrostatic prevention

      玻璃基板放置在設(shè)備機(jī)臺上,如圖8所示。機(jī)臺上涂布防靜電液時(shí),防靜電液涂在玻璃基板背面,可以形成極薄的透明膜,提供持久高效的靜電耗散功能,能有效消除摩擦產(chǎn)生的靜電積聚[9],所以涂布防靜電液后ESD比例明顯降低。

      圖8 摩擦設(shè)備涂布防靜電液Fig.8 Anti-static fluid on EQP stage

      5.1.3 不同摩擦布壽命對ESD影響

      從圖9可以看出,隨著摩擦布壽命增加,ESD發(fā)生率升高。

      圖9 摩擦布壽命對應(yīng)ESD發(fā)生率Fig.9 Result of rubbing clothing lift time

      隨著摩擦布壽命的增加,摩擦布的布毛經(jīng)過多次摩擦后可能積累了電荷或者是材質(zhì)有一定變化, ESD發(fā)生率明顯升高。

      5.2 設(shè)計(jì)方面

      5.2.1 玻璃基板懸空的大塊金屬對ESD影響

      從圖10可以看出,設(shè)計(jì)方面上IC中間位置的大塊金屬變更為小塊金屬,不良率降低為0%。

      圖10 大塊金屬變更ESD發(fā)生率Fig.10 Result of floating large metal

      大塊金屬變?yōu)樾K金屬時(shí),平行版電容器電容變小,儲存電荷的能力變小,電容公式如下:

      (1)

      變更前電容:

      (2)

      (3)變更后電容:

      (3)

      其中:S為金屬交錯(cuò)面積,大塊金屬變更為小塊金屬后,S變小導(dǎo)致C變小。電容器容量變小[10]。摩擦過程中金屬上聚集電荷變少則不容易發(fā)生ESD。

      6 結(jié) 論

      G6工廠生產(chǎn)12.5 FHD產(chǎn)品通過設(shè)計(jì)變更將TFT基板上IC中間位置大塊金屬變更為小塊金屬,從而降低在摩擦過程中的靜電積累, ESD發(fā)生率由20%下降到0%。

      通過對摩擦工藝ESD研究,找出設(shè)計(jì)方面和工藝方面改善摩擦靜電的方案。設(shè)計(jì)方面可以盡量避免大塊金屬的設(shè)計(jì), 大塊金屬在摩擦過程中容易積累電荷發(fā)生ESD,燒毀線路,造成產(chǎn)品不可恢復(fù)的損害。工藝方面可以通過提升設(shè)備濕度,以及機(jī)臺涂布防靜電液或者管控摩擦布的壽命等方法降低摩擦過程中ESD。ESD的理論分析與研究結(jié)果為后續(xù)摩擦靜電提供了改善方向,提高產(chǎn)品品質(zhì),增加公司效益。

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