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      Si3 N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷

      2018-09-10 09:13:52黃新華吳瀾爾陸有軍
      陶瓷學(xué)報(bào) 2018年3期
      關(guān)鍵詞:物相導(dǎo)電性電火花

      江 涌,黃新華,吳瀾爾,陸有軍

      (北方民族大學(xué),寧夏 銀川 750021)

      0 引 言

      氮化硅(Si3N4)陶瓷是一種具有高強(qiáng)度、高硬度、高熔點(diǎn)、抗氧化、耐高溫、耐磨損和抗熱震等優(yōu)良綜合性能的結(jié)構(gòu)陶瓷材料。在國(guó)防、航空航天、能源、石化、機(jī)械、冶金、電子等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。因此,研究者們對(duì)氮化硅陶瓷的研究一直在進(jìn)行[1-5]。而由于Si3N4陶瓷的高強(qiáng)度、高硬度,給其加工成形狀復(fù)雜的產(chǎn)品帶來(lái)了難度,國(guó)內(nèi)外眾多研究者通過(guò)加入導(dǎo)電相來(lái)對(duì)氮化硅基復(fù)合導(dǎo)電陶瓷進(jìn)行研究[6-11],成功改善了Si3N4基復(fù)合陶瓷的導(dǎo)電性能,獲得了Si3N4基復(fù)合導(dǎo)電陶瓷,其具有加工效率高、加工精度高、可加工形狀復(fù)雜的部件、材料損耗少、加工成本低等特點(diǎn)[12-14]。

      Si3N4為絕緣體,其電阻率高達(dá)1013?·cm以上。而ZrN與TiN為良導(dǎo)體,其電阻率分別為 1.4×10-4?·cm和2.07×10-4?·cm。ZrN、TiN均具有高硬度、高熔點(diǎn)的特點(diǎn),而這兩種物質(zhì)的膨脹系數(shù)與Si3N4的相當(dāng),均為10-6K-1數(shù)量級(jí),這就意味著若將ZrN與TiN加入Si3N4中一起燒結(jié),則其燒結(jié)體不會(huì)因各成分的熱膨脹系數(shù)差異大而產(chǎn)生膨脹-收縮所導(dǎo)致的開(kāi)裂現(xiàn)象。所以,相差不大的熱膨脹系數(shù)為將這三者放在一起燒結(jié)成為復(fù)合導(dǎo)電陶瓷提供了保障。

      1 實(shí) 驗(yàn)

      基體材料選用高溫自蔓延燃燒合成的Si3N4粉末,純度>97%,主要為α相,D50< 0.6 μm,其含量>70%;導(dǎo)電相ZrN與TiN分別購(gòu)自合肥凱爾納米能源科技股份有限公司和錦州金鑫股份有限公司,純度均為99%,D50<0.6 μm,TiN為納米級(jí);燒結(jié)助劑主要選用包頭稀土研究院所生產(chǎn)的稀土氧化物Y2O3、La2O3以及AlN(市售),均為市售,化學(xué)純,粒徑為亞微米級(jí)。

      主要成分按照Si3N4: ZrN : TiN = 5.5 : 1 :2.5(wt);按照Y2O3: La2O3: AlN = 1 : 1 : 2.5(vol)的比例進(jìn)行稱料,燒結(jié)助劑總添加量為11wt.%。將稱好的各組份放入瑪瑙研缽中加入無(wú)水乙醇進(jìn)行研磨,混合均勻后放入干燥箱進(jìn)行干燥。將干燥后的混合料取適量放入50 mm×50 mm的模具中以 75 MPa的壓力軸向加壓成型為素坯,再在 250 MPa 壓力下進(jìn)行冷等靜壓進(jìn)一步壓縮致密。而后測(cè)其重量和尺寸、放入以石墨為加熱體的燒結(jié)爐中,在N2氣氛中燒結(jié)。燒結(jié)溫度為1750 ℃,保溫3 h后自燃冷卻至室溫取出。將燒結(jié)試樣表面的附著物去除后測(cè)量其重量及尺寸,并磨去表層后進(jìn)行物相分析和密度測(cè)試,而后加工成3 mm×4 mm×36 mm試條測(cè)試抗彎強(qiáng)度和電阻率。再將試樣拋光后進(jìn)行硬度、斷裂韌性的測(cè)試,并進(jìn)行顯微結(jié)構(gòu)分析表征。

      密度用阿基米德排水法測(cè)定;物相組成用日本島津公司XRD-6000型X射線衍射儀分析鑒定;電阻率用四探針測(cè)試儀測(cè)試;用維氏硬度計(jì)測(cè)量硬度并記錄硬度壓痕四角的裂紋擴(kuò)展長(zhǎng)度,利用此長(zhǎng)度計(jì)算試樣的斷裂韌性;用日本島津SSX-550型掃描電鏡來(lái)觀察試樣的表面形貌、斷口形貌及能譜分析。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 試樣的燒結(jié)特性與物理性能

      試樣的燒結(jié)特性與機(jī)械性及導(dǎo)電性能如表1所示??煽闯觯嚇拥臒щm然超過(guò)了5%以上,但其收縮也大,達(dá)到了20%,所以相對(duì)密度接近98%。試樣的三點(diǎn)抗彎強(qiáng)度為960 MPa、顯微硬度達(dá)到14.9 GPa,斷裂韌性為7.6 MPa·m1/2。這些數(shù)據(jù)表示試樣的機(jī)械性能良好,相對(duì)于抗彎強(qiáng)度在500 MPa、硬度在10 GPa左右的普通的Si3N4陶瓷提高很多。說(shuō)明燒結(jié)助劑助燒結(jié)性能好。導(dǎo)電相的加入,由于其本身的高硬度,有助于復(fù)合陶瓷材料的硬度和抗彎強(qiáng)度的提高,斷裂韌性也并沒(méi)降低。所以導(dǎo)電相加入起到了補(bǔ)強(qiáng)的作用。

      試樣的電阻率在10-2?·cm數(shù)量級(jí),從不加導(dǎo)電相的1013Ω·cm降低到的10-2Ω·cm,屬于導(dǎo)體范疇。說(shuō)明導(dǎo)電相的確起到了導(dǎo)電的作用。導(dǎo)電相的加入有利于復(fù)合材料導(dǎo)電性能的提高。由于電火花切割所需材料的電阻率要求在10-1?·cm以下,所以燒結(jié)試樣數(shù)值為10-2?·cm的電阻率,已達(dá)到了電火花加工的導(dǎo)電性能的要求。

      2.2 表物相分析

      圖1 Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣的X射線衍射圖譜Fig.1 X diffraction pattern of Si3N4-TiZrN2-TiN composite

      表1 Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣的性能Tab.1 Characteristics of Si3N4-TiZrN2-TiN conductor ceramic composite

      圖1 給出的是Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣的X射線衍射圖譜。從圖中可以看出,試樣中除了TiN外,有β-Si3N4以及TiZrN2新相生成。TiN是基體原料中就有的,而β-Si3N4是以α為主的Si3N4原料成分在燒結(jié)過(guò)程中發(fā)生的由α相轉(zhuǎn)變成了β相。而TiZrN2新相的產(chǎn)生,是因?yàn)榛w中的ZrN與TiN形成了連續(xù)固溶體。根據(jù)美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)局與美國(guó)陶瓷協(xié)會(huì)聯(lián)合出版的4.0版相平衡圖數(shù)據(jù)庫(kù)收錄的Andrievskii關(guān)于ZrN和TiN的二元相圖的研究結(jié)果[14],在1330 ℃-2522 ℃溫度范圍內(nèi),ZrN可與TiN形成連續(xù)固溶體。由于試樣的燒結(jié)溫度為1750 ℃,在此固溶溫度范圍內(nèi),所以試樣中生成了TiZrN2新物相。雖然ZrN可與TiN無(wú)限互溶[15],而由于試樣配方中的ZrN含量少,再加上還有部分ZrN與Si3N4顆粒表面的SiO2反應(yīng)形成高粘度的玻璃相[16]而使與TiN固溶的ZrN量更少;另一個(gè)可能的原因是,基體成分Si3N4和燒結(jié)助劑的存在有可能會(huì)影響TiN與ZrN連續(xù)固溶體形成,而使TiN剩余,所以燒結(jié)試樣的物相還有較強(qiáng)的TiN衍射峰。在物相分析的譜圖中未發(fā)現(xiàn)有Y2O3、La2O3和AlN的衍射峰,說(shuō)明這幾種燒結(jié)助劑成份在燒結(jié)過(guò)程中應(yīng)形成了液相,在試樣中以非晶形式存在。另外,物相分析結(jié)果也說(shuō)明,加入的TiN和ZrN導(dǎo)電相不與Si3N4發(fā)生反應(yīng)。而試樣電阻率的降低,說(shuō)明兩者形成的新相TiZrN2也有良好的導(dǎo)電性,從而形成了Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷。

      2.3 顯微結(jié)構(gòu)觀察與能譜分析

      Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣拋光面的SEM與EDS分析如圖2所示。

      從圖2中可看出,試樣致密,少見(jiàn)孔洞。圖中有黑灰色晶粒相間的均勻區(qū)域A、黑灰色區(qū)域B??煽闯觯嚇语@微結(jié)構(gòu)大部分是均勻的,但有局部灰黑色B區(qū)有小范圍的團(tuán)聚(圖2(a))。從局部放大圖上(圖2)b))可看出,均勻區(qū)域晶粒分布均勻,晶粒清晰可見(jiàn)。有黑色長(zhǎng)條狀晶粒,也有等軸晶塊狀的白色晶粒。黑色的長(zhǎng)條尺寸在1 μm左右,最小約0.5 μm,最長(zhǎng)的近2 μm,有較大的長(zhǎng)徑比。白色塊狀晶粒大部分也在1 μm左右,有少量達(dá)到2 μm。由于β-Si3N4顯微形貌特征是黑灰色長(zhǎng)條狀或柱狀,所以黑色長(zhǎng)條應(yīng)是β-Si3N4。相應(yīng)的白色等軸晶狀顆粒應(yīng)是導(dǎo)電相TiN晶?;騔rN2與TiN兩者的固溶體TiZrN2,這在后面的能譜分析中得到了證實(shí)。顯微結(jié)構(gòu)顯示,白色顆粒和黑色長(zhǎng)條晶粒相互鑲嵌交錯(cuò),使得白色的導(dǎo)電相在氮化硅長(zhǎng)條周圍形成了連環(huán)導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)而起到導(dǎo)電作用。

      圖2 的顯微形貌顯示,有少量黑灰色不均勻的團(tuán)聚區(qū)域,說(shuō)明試樣的均勻性還待改進(jìn)。為了探究Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣各不同區(qū)域的成分,專門選取了試樣拋光面有代表性的非均勻區(qū)進(jìn)行X射線能譜分析,結(jié)果如圖3所示。圖3由SEM圖及EDS能譜分析圖組成。SEM圖中有三種不同區(qū)域,有以P1點(diǎn)代表的白色晶粒為主的區(qū)域、P2點(diǎn)代表較小黑灰色晶粒的區(qū)域、以及P3點(diǎn)為代表的較大黑色晶粒的團(tuán)聚區(qū)域(圖3(a))。三個(gè)區(qū)域本身都是均勻的,但三個(gè)區(qū)域之間有很大不同。P1區(qū)的白色塊狀晶粒大小為0.5 μm,相間黑灰色棒狀晶粒,是試樣的正常均勻區(qū);P3點(diǎn)區(qū)的黑色晶粒較粗大,晶粒間的白色區(qū)域較少;而P2區(qū)域的黑色晶粒細(xì)小,粒徑在0.5 μm以下,晶粒間分布著均勻的白色。P2及P3兩個(gè)區(qū)域是試樣的非正常區(qū)。

      圖3 的P1、P2、P3能譜點(diǎn)分析表明,白色晶粒為主的P1點(diǎn)顯示主要元素為Zr和Ti,還有較高的N元素峰,結(jié)合XRD物相分析結(jié)果說(shuō)明,白色晶粒主要是TiN或TiZrN2導(dǎo)電相。P2及P3兩區(qū)域的黑灰色晶粒占多數(shù)。而且這兩個(gè)區(qū)域的能譜顯示有很強(qiáng)的Si峰,表明黑灰色區(qū)域主要是Si3N4。P2的能譜峰顯示,P2區(qū)域還有一定量的Ti和Zr,但比P1區(qū)域的含量少得多。說(shuō)明P2區(qū)域的成分雖然與P1區(qū)域相同,但不同的是P2區(qū)域的TiN或TiZrN2導(dǎo)電相的含量要比P1區(qū)少很多、晶粒也更細(xì)小。所以P2區(qū)域應(yīng)導(dǎo)電不良。另外,P3區(qū)域的能譜峰顯示還有少量的Y和La,這些燒結(jié)助劑元素的明顯存在說(shuō)明P3區(qū)域晶界中的玻璃相比較多。而且黑灰色粒徑明顯比P2區(qū)域的大很多,導(dǎo)電性能可能更差。

      圖2 Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣的拋光面的SEM圖(a)低倍(b)高倍Fig.2 SEM images of the polished surface of Si3N4-TiZrN2-TiN composite: (a) low magnification, (b) high magnification

      圖3 Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣的EDX分析Fig.3 EDS analysis of Si3N4-TiZrN2-TiN composite

      總的來(lái)說(shuō),P1所在區(qū)域是理想的復(fù)合導(dǎo)電陶瓷的顯微形貌,而P2與P3所在區(qū)域?qū)φ麄€(gè)試樣來(lái)說(shuō)都是一種不均勻。這會(huì)影響材料性能的一致。在對(duì)試樣進(jìn)行電火花切割實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn),試樣雖然能用電火花切割,但存在切割過(guò)程中電火花的亮度有時(shí)會(huì)明顯暗下去、甚至沒(méi)有火花的不均勻現(xiàn)象。其原因就是切割線在遇到像P2或P3這樣的區(qū)域時(shí),由于導(dǎo)電性差而不能用電火花切割。由于原料中的TiN是納米級(jí),或許是在混料的過(guò)程中造成了局部團(tuán)聚,沒(méi)能夠分散開(kāi);或者是燒結(jié)過(guò)程中,顆粒遷移的不均勻所致。導(dǎo)致這種不均勻區(qū)域的原因尚不十分清楚,所以該問(wèn)題有待進(jìn)一步解決。

      圖4 Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷試樣的斷口形貌Fig.4 SEM image of the fracture surface of Si3N4-TiZrN2-TiN composite

      Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷的斷口形貌如圖4所示。從圖中可看出,試樣斷口粗糙而致密,晶粒細(xì)小均勻;長(zhǎng)柱狀的β-Si3N4以及等軸晶狀的導(dǎo)電晶粒顯而易見(jiàn),且分布均勻。斷面可見(jiàn)少量孔洞,這與試樣的相對(duì)密度測(cè)試不完全致密的結(jié)果相符。另外,從圖中可見(jiàn)晶粒之間有非晶狀物質(zhì),應(yīng)是燒結(jié)助劑在燒結(jié)過(guò)程中形成的液相在降溫過(guò)程中凝固成的玻璃相,并將晶粒牢粘結(jié)在一起而形成了晶粒縱橫交錯(cuò)的粗糙斷口。這樣的斷口,其抗彎強(qiáng)度高達(dá)960 MPa,韌性達(dá)到7 MPa·m1/2。

      3 結(jié) 論

      以ZrN、TiN作為復(fù)合導(dǎo)電相研制出了Si3N4-TiZrN2-TiN復(fù)合導(dǎo)電陶瓷。其相對(duì)密度接近98%,抗彎強(qiáng)度達(dá)到960 MPa,顯微硬度為14.9 GPa,斷裂韌性為7.6 MPa·m1/2,電阻率在10-2?·cm數(shù)量級(jí)。該陶瓷有良好的燒結(jié)特性和機(jī)械性能,導(dǎo)電性能達(dá)到了電火花切割的要求。試樣的物相主要是Si3N4、TiZrN2及TiN,三種晶粒尺寸大多數(shù)小于1 μm,有少量長(zhǎng)大到了2 μm,具有縱橫交錯(cuò)、相互結(jié)合緊密的顯微結(jié)構(gòu)。但其均勻性有待進(jìn)一步摸清原因并改善。

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