安娜
(西安航空職業(yè)技術(shù)學(xué)院,陜西西安 710089)
坯體密度對C/C-SiC復(fù)合材料燒蝕性能的影響
安娜
(西安航空職業(yè)技術(shù)學(xué)院,陜西西安 710089)
以納米SiC粉為惰性填料,采用先驅(qū)體浸漬裂解法制備C/C-SiC復(fù)合材料,研究了不同密度C/C坯體對復(fù)合材料燒蝕性能的影響。結(jié)果表明,不同密度C/C坯體對制得的復(fù)合材料性能有很大的影響,其中C/C預(yù)制體密度為1.24 g/cm3試樣制得的復(fù)合材料性能最優(yōu),其最終密度為1.80 g/cm3,開孔率為7.32%,線燒蝕率和質(zhì)量燒蝕率分別為0.004 0 mm/s和0.001 2 g/s。
先驅(qū)體浸漬裂解;惰性填料;燒蝕性能;C/C-SiC
C/C-SiC復(fù)合材料是一種以碳纖維增強碳、碳化硅雙基體復(fù)合材料,不僅兼有低密度、高強、高模、高熱導(dǎo)率以及優(yōu)異的高溫機械性能等C/C復(fù)合材料所具備的許多優(yōu)良性能外,還克服了其易氧化的缺點[1,2];而且制備工藝和設(shè)備均可以借鑒使用成熟的C/C復(fù)合材料工藝,是一種結(jié)構(gòu)功能一體化復(fù)合材料[3]。其主要應(yīng)用在戰(zhàn)略導(dǎo)彈的鼻錐、高超聲速飛行器機翼前緣和固體火箭發(fā)動機的噴管、喉襯及燃燒室等航空航天領(lǐng)域[4,5]。
先驅(qū)體浸漬裂解(precursor infi ltration pyrolysis, PIP)法是制備C/C-SiC復(fù)合材料的常用方法之一,其在設(shè)備要求、復(fù)雜構(gòu)件近凈成形等方面優(yōu)勢明顯[3]。但在先驅(qū)體裂解過程中會逸出大量氣體,導(dǎo)致產(chǎn)品內(nèi)部形成大量孔洞,影響材料性能,并且裂解時伴有失重和密度增大的現(xiàn)象,導(dǎo)致產(chǎn)品體積收縮和開裂[6,7]。大量報道指出[8-10],添加惰性填料,如SiC、SiO2等,其在裂解過程中質(zhì)量和體積都不發(fā)生變化,能夠有效抑制基體收縮,縮短致密化周期、降低成本。
本文在前人研究的基礎(chǔ)上選取納米SiC作為惰性填料,以PCS/nano-SiC powder/Xylene為浸漬體系,采用PIP法制備了C/C-SiC復(fù)合材料,研究不同密度C/C坯體對制備的C/C-SiC復(fù)合材料燒蝕性能的影響。
1.1 樣品制備
采用針刺無緯布網(wǎng)胎預(yù)制體,碳纖維為日本東麗(Toray)公司生產(chǎn)的PAN基碳纖維。采用均熱法CVI(丙烯-N2氣體體系)致密纖維預(yù)制體,得到密度分別為1.06,1.24和1.43 g/cm3的C/C坯體。將平均粒度60 nm的β-SiC粉(合肥開爾納米技術(shù)有限公司,中國)、PCS(國防科學(xué)技術(shù)大學(xué),中國)與二甲苯混合均勻,高速攪拌(3 000 r/min)15 min制成漿料。不同密度的C/C坯體經(jīng)過PIP工藝,真空壓力浸漬-裂解,循環(huán)數(shù)周期后得到C/C-SiC復(fù)合材料。
1.2 性能表征
用美國麥克儀器公司的Auto Pore Ⅳ9500全自動壓汞儀對多孔C/C坯體孔隙進行分析測量。用Archimedes排水法測定樣品的密度和開氣孔率。使用JEOL公司的JSM-6460LV型掃描電子顯微鏡觀察試樣燒蝕形貌,并用掃描電鏡配帶的電子能譜分析儀(EDS)對材料進行元素分析。采用氧-乙炔燒蝕法對C/C-SiC復(fù)合材料進行燒蝕性能測試,試驗過程中采用紅外溫度計測量試樣表面溫度,試樣大小為φ30 mm×10 mm,每組5個樣品,取平均值。試驗參數(shù)見表1。
表1 氧-乙炔燒蝕試驗參數(shù)
2.1 C/C坯體
在PIP工藝過程中,一般情況下先沉積出中低密度C/C坯體(0.8~1.4 g/cm3)[11],然后再引入SiC。表2所示為多孔C/C的密度及開孔率,C/C坯體的密度由1.06 g/cm3增加至1.43 g/cm3,隨著密度的增大,開孔率由40.11%降至23.06%。通過壓汞法試驗,可以分析C/C預(yù)制體內(nèi)部的孔隙結(jié)構(gòu)[12],包括孔徑分布、孔 體積等數(shù)據(jù)。
實驗測得了不同孔徑大小對應(yīng)滲入的汞的體積,為了便于分析孔徑的變化規(guī)律,將實驗數(shù)據(jù)按照<10 μm的孔和>10 μm的孔分別進行了統(tǒng)計。表2同時給出了按上述標(biāo)準(zhǔn)劃分的不同密度C/C坯體孔體積分布。
表2 不同密度C/C坯體開孔率及孔體積分布
可以看出,注汞總體積隨沉積密度的增加而減小,這預(yù)示著進一步致密化的效率將降低。從孔體積比可以看出密度為1.24 g/cm3的C/C坯體<10 μm的孔相對較少,>10 μm的孔相對較多。有研究認為[13],密度為0.9 g/cm3的C/C坯體有兩種形貌的孔隙:尺寸較大的纖維束間孔和尺寸較小的纖維束內(nèi)孔,而密度為1.2 g/cm3的C/C坯體大部分都是尺寸較大的纖維束間孔,當(dāng)坯體的密度增加至1.4 g/cm3時,材料內(nèi)部熱解碳過多,導(dǎo)致孔隙量大幅下降,且分布非常不均勻。這可能是因為,隨著CVI致密化的進行,一部分<10 μm的孔逐漸被熱解碳填滿,>10 μm的孔也被逐漸填充,但大部分孔的尺寸還未降低到10 μm以下,因此密度為1.24 g/cm3的C/C坯體<10 μm的孔體積比下降,>10 μm的孔體積比上升;當(dāng)密度繼續(xù)上升至1.43 g/cm3時,有一部分>10 μm的孔被熱解碳填充至10 μm以下,因此<10 μm的孔體積比上升,>10 μm的孔體積比下降。
圖1為不同密度C/C坯體的孔徑分布情況。
圖1 不同密度C/C復(fù)合材料的孔徑分布曲線圖
觀察曲線,密度為1.06 g/cm3的C/C坯體(圖1.a)孔隙的最高孔徑尺寸峰值出現(xiàn)在33 μm附近,在最高峰的左邊還零散分布著幾個小峰,這說明此密度下的C/C坯體還存在有較多的小孔;隨著材料密度的上升,預(yù)制體孔隙中的最高孔徑尺寸逐漸減?。幻芏葹?.24 g/cm3的C/C坯體(圖1.b)最高孔徑尺寸峰值為31 μm,幾乎觀察不到1.06 g/cm3的C/ C坯體孔徑分布曲線中出現(xiàn)的小峰,說明隨著沉積的進行,這些小孔逐漸被熱解碳填充或是被封堵形成閉孔了;密度為1.43 g/cm3的C/C坯體(圖1.c)最高孔徑尺寸峰值為24 μm,并且峰高明顯變矮,這說明此密度下的孔隙變得小且少。
2.2 C/C-SiC復(fù)合材料密度及組成
表3為不同初始密度C/C制備的C/C-SiC復(fù)合材料密度??梢钥闯?,隨著C/C坯體密度的增大,制備的C/C-SiC復(fù)合材料密度由1.81 g/cm3降至1.77 g/cm3,開孔率由10.55%降至5.12%。VSiC和VP分別為PCS裂解生成SiC和引入基體中的納米SiC粉的體積分數(shù)[15]。
2.3 C/C-SiC復(fù)合材料的燒蝕性能
(1)不同密度C/C坯體對燒蝕率的影響
表3 C/C-SiC復(fù)合材料密度及組成
表4為不同密度C/C坯體制備的C/C-SiC復(fù)合材料??梢钥闯觯嚇覵-1.24的燒蝕率最小,試樣S-1.43的燒蝕率最大。
表4 C/C-SiC復(fù)合材料的燒蝕性能
(2)不同密度C/C坯體制備C/C-SiC復(fù)合材料的燒蝕形貌
材料燒蝕中心區(qū)域正對氧乙炔火焰的中心,此處材料表面的溫度最高,燒蝕最為嚴重。圖給出了試樣S-1.06、S-1.24和S-1.43燒蝕后燒蝕中心區(qū)的SEM形貌。從三個試樣燒蝕中心區(qū)域低倍SEM照片(圖2.a、c和e)可以看出,中心區(qū)域都被SiO2膜所覆蓋,但S-1.24的SiO2膜覆蓋較為完整,S-1.43燒蝕中心區(qū)域有明顯的纖維裸露。
進一步觀察燒蝕中心區(qū)域的裸露纖維(圖2.b、d和f),三種試樣的纖維均被燒蝕成針狀,但S-1.24的纖維表面仍被SiO2膜和球狀顆粒附著,S-1.43纖維表面卻幾乎沒有附著物。
圖3為三種試樣燒蝕中心區(qū)域元素分布圖,可見燒蝕產(chǎn)物包含C、Si和O三種元素,這說明在燒蝕過程中有氧化反應(yīng)發(fā)生,SiC基體發(fā)生氧化反應(yīng)生成SiO2,在燒蝕一段時間后大量的SiO2膜形成鈍化隔離層[14],愈合了孔隙和裂紋,能夠在一定程度上阻止高溫氧化氣體向材料內(nèi)部擴散。此外,SiC發(fā)生氧化反應(yīng)的吉布斯自由能變遠小于碳發(fā)生氧化反應(yīng)的[13],說明在高溫下SiC基體比熱解碳更易發(fā)生氧化,可以緩解熱解碳的氧化,從而在一定程度上保護了碳基體。
比較三種試樣各元素的質(zhì)量分數(shù):試樣S-1.06燒蝕表面Si、O元素質(zhì)量分數(shù)最高,試樣S-1.24次之,試樣S-1.43最低。
結(jié)合表3中復(fù)合材料基體SiC(無論是裂解生成SiC,還是納米SiC粉)占據(jù)的體積分數(shù)可知,C/ C坯體密度越小,基體中SiC含量越多,燒蝕產(chǎn)物中Si、O元素含量越高,產(chǎn)物SiO2越多,燒蝕性能越好。
圖2 C/C-SiC復(fù)合材料燒蝕中心形貌
但是,從燒蝕結(jié)果上看,SiC含量最高的S-1.06試樣燒蝕率高于SiC含量相對較低的S-1.24試樣燒蝕率,這是因為試樣S-1.06中SiC相含量高,相應(yīng)的PCS裂解生成SiC含量也高,PCS高溫裂解后體積收縮,產(chǎn)生氣孔和裂紋,并且開孔率較高,這些孔隙會對燒蝕產(chǎn)生不利影響,但S-1.06基體仍有大量SiC基體,氧化產(chǎn)生的SiO2膜能在一定程度上愈合這些孔隙,因此,仍保持了較好的燒蝕性能。對于試樣S-1.43,由圖1.c可知,對于密度為1.43 g/cm3的C/C坯體孔隙變得小且少,一方面填充的SiC基體少,另一方面孔隙小將不利于漿料的滲入,內(nèi)部細小孔洞將得不到填充,氧化性氣流很容易滲入基體內(nèi)部,影響燒蝕性能。
(3)坯體密度影響材料燒蝕性能的機制
不同密度C/C坯體所制備的C/C-SiC復(fù)合材料在燒蝕過程中所發(fā)生的反應(yīng)可以認為是相同的,包括材料中各組分的氧化、熔化、蒸發(fā)等反應(yīng),此外還有熱機械剝蝕的作用。而坯體密度對C/C-SiC復(fù)合材料的抗燒蝕性能存在重要的影響:
圖3 三種試樣燒蝕中心元素分布圖
首先,坯體的密度直接影響材料中SiC相的含量。C/C-SiC復(fù)合材料抗燒蝕性能提高的根本原因是其表面SiO2保護層的形成,預(yù)制體的密度越大,可供先驅(qū)體浸入填充的空間越小,最終生成的SiC相越少,在燒蝕過程中其氧化產(chǎn)物無法形成連續(xù)致密的保護層,不能為材料提供有效的保護。
其次,坯體密度影響C/C-SiC復(fù)合材料的均勻性。熱解碳沉積時間過長,導(dǎo)致預(yù)制體內(nèi)部孔隙分布不均,使得浸漬不充分,材料內(nèi)部孔隙較多,這對材料的抗燒蝕性能也有不利的影響。
綜上所述,C/C坯體密度對C/C-SiC復(fù)合材料中各物相含量、孔隙和均勻性均產(chǎn)生影響,在燒蝕過程中,各因素共同作用決定材料的抗燒蝕性能。
(1)密度為1.24 g/cm3的C/C坯體最可幾孔徑尺寸峰值為31 μm,>10 μm的孔體積比最高,達83.83%;密度為1.43 g/cm3的C/C坯體最可幾孔徑尺寸峰值為24 μm,并且峰高明顯變矮,這說明此密度下的孔隙變得小且少,這對最終制備的C/ C-SiC復(fù)合材料中各物相含量、孔隙和均勻性均產(chǎn)生影響,在燒蝕過程中,各因素共同作用決定材料的抗燒蝕性能。
(2)相對于另外兩種C/C坯體密度,添加納米SiC粉的漿料浸漬劑對于1.24 g/cm3的C/C坯體體有更好的填充性。密度為1.24 g/cm3的C/C預(yù)制體經(jīng)過數(shù)個PIP周期即可制備出密度為1.80 g/cm3的C/C-SiC復(fù)合材料,并且由于致密性良好、SiC基體含量合理,在給定條件下燒蝕600 s后,線燒蝕率和質(zhì)量燒蝕率分別為0.004 0 mm/s和0.001 2 g/s。
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Effects of Porous C/C Density on the Ablation Property of C/C-SiC composites
AN Na
(Xi'an Aeronautical Polytechnic Institute, Xi'an 710089,Shaanxi,China)
The C/C-SiC composites were fabricated via pre-cursor infi ltration pyrolysis (PIP) process with nano-SiC powder as fi ller. Porous carbon/carbon (C/C) composites with density of 1.06, 1.24 and 1.43 g/cm3were used as preforms, and the effects of porous C/C density on the ablation properties of C/C-SiC composites were investigated. The results show that the densities of C/C preforms were important to C/C-SiC composites property. The density, porosity and linear and mass ablation rates of the composites derived from the preform with the density of 1.24 g/cm3, were 1.80 g/cm3, 7.32% ,0.004 0 mm/s and 0.001 2 g/s, respectively.
PIP;inert fi ller; ablation property;C/C-SiC
TB332;
A;
1006-9658(2017)04-0028-04
10.3969/j.issn.1006-9658.2017.04.008
2017-03-10
稿件編號:1703-1694
安娜(1990—),女,碩士,現(xiàn)從事高溫材料及制造工作.