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      電磁波層析成像巖溶探測在防滲帷幕輔助勘察中的應(yīng)用

      2016-04-29 00:00:00楊新明
      水能經(jīng)濟(jì) 2016年10期

      【摘要】巖溶問題是水利水電工程建設(shè)中經(jīng)常遇到的問題,由于巖溶發(fā)育規(guī)律性差,在工程施工過程中一旦遇到溶洞,有可能造成可預(yù)見性的影響,巖溶處理措施及方案的制定需要有力的勘察基礎(chǔ)資料做支撐。本文結(jié)合工程實(shí)踐,通過電磁波層析成像(CT)方法,對巖溶隱患部位進(jìn)行精細(xì)探測,基本查清了巖溶發(fā)育情況,為巖溶處理提供了可靠的決策依據(jù),為工程建設(shè)成本節(jié)約及進(jìn)度控制起到了重要的作用。

      【關(guān)鍵詞】電磁波;層析成像;防滲帷幕;巖溶探測

      1、引言

      巖溶是水對可溶性巖石(碳酸鹽巖、石膏、巖鹽等)進(jìn)行以化學(xué)溶蝕作用為主,流水的沖蝕、潛蝕和崩塌等機(jī)械作用為輔的地質(zhì)作用,以及由這些作用所產(chǎn)生的現(xiàn)象的總稱。在可溶巖地區(qū)的水利工程勘察建設(shè)中,巖溶問題是重大的地質(zhì)缺陷,其中巖溶管道對水庫蓄水成庫存在重大安全隱患。

      為了保證水利工程建設(shè)的安全及巖溶封堵有效性,指導(dǎo)帷幕灌漿工作,通常需要引入一些巖溶探測方法進(jìn)行灌漿前排查和局部巖溶治理工作。電磁波層析成像巖溶探測技術(shù)既可對帷幕線進(jìn)行了灌漿前快速巖溶排查,又可以針對局部問題進(jìn)行精確探測,是工程巖溶處理的有效輔助手段。

      2、電磁波層析成像(CT)技術(shù)

      層析成像技術(shù)源于醫(yī)學(xué)CT,利用射線掃描,對所得到的信息進(jìn)行反演計算,重建被測范圍內(nèi)物體參數(shù)分布性質(zhì)規(guī)律的圖像,從而達(dá)到圈定異常體的一種物理論方法。地質(zhì)上根據(jù)所使用的物理場的不同,又分為彈性波層析成像和電磁波層析成像。

      電磁波層析成像(CT)是一種主要利用電磁波射線能量被介質(zhì)吸收后的場能進(jìn)行探測的方法。原理為電磁波穿過完整地質(zhì)體時傳播速度快而場能衰減慢,而在破碎(如溶洞、洞穴、斷層、軟弱夾層和風(fēng)化巖層)的地層介質(zhì)中的傳播速度慢,場能衰減快。

      電磁波層析成像針對不同地層有不同穿透能力,使用時需要進(jìn)行實(shí)地的電磁波穿透實(shí),以選擇合理參數(shù)及采集控制系統(tǒng)。常見采集方式有同步模式,扇形模式,及兩者組合模式,數(shù)據(jù)采集方式如圖2.1-1所示。測試成果的展示有二維剖面和三維組合兩種形式,二維剖面是現(xiàn)在工程測試普遍采用的測試方式,主要是反映巖溶在二維面中的位置和影響截面大小,其對巖溶的延展方向和空間大小變化提供更多的信息較少,另一種是三維組合剖面,可以對特定區(qū)域的巖溶管道大小及走向獲得更多的信息。但有一定的限制條件。

      3、層析成像成果應(yīng)用實(shí)例

      3.1 二維剖面應(yīng)用

      圖3.1-1,為貴州省某已經(jīng)建成水電站上層右 岸帷幕K上右0+388.5m~K上右0+403m段鉆孔ZK1~鉆孔ZK2之間的二維剖面電磁波層析成像探測成果圖及解釋圖,根據(jù)成果圖揭示溶洞的發(fā)育在樁號K上右0+388.5m~K上右0+403m之間,高530m~539m之間,探測到巖溶異常,且洞室為上大下小兩層結(jié)構(gòu)、斷面面積約71m2。另外在樁號K上右0+391m~K上右0+401m之間,高程516m~521m之間也存在兩個巖溶異常,推測可能為上層溶洞在側(cè)向向下發(fā)育穿過CT平面所致,為了驗(yàn)證探測成果,施工方在樁號K上右0+396m位置實(shí)施鉆孔驗(yàn)證,鉆具在高程536m~529m發(fā)生掉鉆。掉鉆發(fā)生的位置與探測成果揭示巖溶發(fā)育位置基本一致。

      3.2 組合三維剖面應(yīng)用

      圖3.2-1是江蘇某水庫工程帷幕樁號W1+104m~W1+152m段剖面XDK047~XDK049電磁波層析探測成果圖及解釋圖,其中XDK048施工過程中遇到巖溶無法鉆進(jìn)情況。根據(jù)探測成果圖揭示在樁號W1+104m~W1+152m,高程-23m~5m之間上有多處電磁波高吸收異常區(qū),異常區(qū)分布由大樁號向小樁號傾斜。結(jié)合地質(zhì)資料傾斜角度和地層傾向基本一致,推斷異常為本區(qū)域?yàn)橹攸c(diǎn)巖溶滲漏區(qū)。

      由于巖溶影響區(qū)范圍比較大,現(xiàn)場灌漿情況灌漿效果不明顯,設(shè)計部門為了更清楚的了解巖溶發(fā)育特點(diǎn),以目的的調(diào)整設(shè)計方案,增加勘探鉆孔XDK048甲、XDK048乙,并結(jié)合前期鉆孔對ZK048甲~XDK048乙、XDK048甲~XDK048上、XDK048甲~XDK048下,XDK048甲~XDK049、XDK048甲~XDK047、XDK048乙~XDK048上、XDK048乙~XDK048下,XDK048乙~XDK049、XDK048乙~XDK047共9對剖面進(jìn)行電磁波層析成像探測,探測二維成果及解釋圖如圖3.2-2。根據(jù)成果分析XDK048鉆孔周圍的巖體巖溶裂隙異常發(fā)育,巖溶發(fā)育的在高程4m~-23m之間,其中XDK048乙~XDK048下、XDK048乙~XDK047剖面巖溶分布較廣泛;其余七對剖面巖溶零星分布,高程-23m以下巖溶弱發(fā)育。

      為探測巖溶在帷幕線上的走向,通過將9個剖面進(jìn)行三維組合,組合圖如圖3.2-3所示。從三維組合圖上可分析出XDK048鉆孔附近區(qū)域的巖溶發(fā)育情況是:由XDK047向XDK049升高,巖溶管道較多穿過XDK048甲~XDK047、XDK048甲~XDK048下、XDK048乙~XDK047、XDK048乙~XDK048下上四個CT剖面、而XDK048甲~XDK049、XDK048甲~XDK048上、XDK048乙~XDK049、XDK048乙~XDK048上四個CT剖面較少分布,且分布高程較高,依此推斷ZK048鉆孔附近區(qū)域巖溶通道的發(fā)育方向如圖3.2-4所示。依據(jù)探測情況,設(shè)計更改灌漿施工方案進(jìn)行了三排帷幕灌漿施工,僅兩個月就處理完成遺留半年的工程巖溶問題。極大的節(jié)省了施工時間。為工程按期完成提供了時間保證。

      圖3.2-5~圖3.2-7為本區(qū)域經(jīng)過由一排灌漿孔改為三排灌漿孔設(shè)計變更后的灌漿量統(tǒng)計圖,圖中紅線圈閉區(qū)域?yàn)殡姶挪–T探測推斷的巖溶區(qū)的灌漿量分布圖表,經(jīng)過對灌漿資料的對比分析可知,本區(qū)域灌漿量明顯大于其他區(qū)域灌漿量,本區(qū)域少則800—900L/M,多則14443L/M。灌漿量情況與電磁波層析成像探測結(jié)果高度吻合。

      4、結(jié)語

      1. 電磁波層析成像技術(shù)(CT)在可溶巖地區(qū)防滲帷幕進(jìn)行巖溶探測是一種有效的手段。

      2. 二維剖面可反映測試剖面段面上的巖溶發(fā)育情況;借助三維組合剖面可以探測巖溶的空間發(fā)育情況。

      3. 電磁波穿透效果在不同地層有差異,測試前需進(jìn)行試驗(yàn),小孔間距離有助于提高測試成果精度。

      4. 本文探測成果是在巖溶區(qū)有水或泥土等填充物的情況下取得的,對無充填巖溶探測需要進(jìn)一步研究分析。

      參考文獻(xiàn):

      [1]《鉆孔電磁波法》編寫組.鉆孔電磁波法[M].北京地質(zhì)出版社 1982年.

      [2]尹學(xué)林等.電磁波CT技術(shù)在光照水電站防滲帷幕探測中的應(yīng)用[C].《貴州省巖石力學(xué)與工程學(xué)會2010年學(xué)術(shù)年會論文集》.2010.

      [3]黃衍農(nóng).三圍造型技術(shù)在工程質(zhì)量檢測中的應(yīng)用[J].工程物探.2010(2):8-12.

      [4]中國水利電力物探科技信息網(wǎng).工程物探手冊(S):中國水利電力出版社,2011:372

      作者簡介:楊新明,(1981~ ),漢族,男,河北衡水武邑縣人,工程師,主要從事水利水電工程勘察及檢測工作。

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