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      基于舌側(cè)矯治的腭側(cè)種植體適宜植入部位的臨床研究

      2015-11-18 05:44:22王卓華謝天會蔡留意
      河南醫(yī)學(xué)研究 2015年4期
      關(guān)鍵詞:切牙種植體位點

      王卓華 謝天會 蔡留意

      (1.鄭州大學(xué)口腔醫(yī)學(xué)院 河南 鄭州 450052;2.武警河南總隊醫(yī)院 口腔科 河南 鄭州 450052)

      隨著國內(nèi)舌側(cè)正畸技術(shù)的提高及人群對此技術(shù)的認(rèn)可度增強,舌側(cè)矯治的潛在患者在未來幾十年之內(nèi)會大量增加,因此在矯治技術(shù)上對舌側(cè)種植體支抗的理論指導(dǎo)需求也較為迫切。由于國內(nèi)舌側(cè)矯治開展時間較短,與舌側(cè)矯治的相關(guān)的種植體植入部位的研究尚不多見。河南省內(nèi)也缺少對本省成年人腭部骨組織的形態(tài)測量。本文旨在通過CT 掃描,對河南地區(qū)成年正常牙合人群上頜骨腭部骨質(zhì)厚度進行測量和分析,得出腭部骨組織的厚度分布規(guī)律,為本地區(qū)腭側(cè)種植體的植入提供參考,為臨床舌側(cè)矯治提供便利。

      1 材料與方法

      1.1 病例選擇 選取2012年1月至2013年1月于武警河南總隊醫(yī)院進行健康體檢的52例患者。其中男37例,女15例,共52例。患者年齡26~53 歲,平均年齡為44.9 歲。納入標(biāo)準(zhǔn)如下:①河南籍25 歲以上成年人;②無全身性疾病,身體及骨骼發(fā)育正常;③無口腔疾病,牙周情況正常,無唇腭裂史、外傷史、正畸治療史;④以Angle 個別正常牙合為選擇標(biāo)準(zhǔn),尖牙磨牙均為安氏Ⅰ類關(guān)系,牙列中無牙列缺失(不包括第3 磨牙),牙弓形態(tài)基本正常,擁擠度3 mm 以內(nèi)。

      1.2 256 層螺旋CT 掃描 使用荷蘭皇家飛利浦電子公司(Philips)生產(chǎn)的256 層極速CT (Brilliance iCT)(見圖1),對患者進行顱頜面部體層掃描。掃描參數(shù):管電壓120 kV、管電流200 mA。掃描方法:囑患者仰臥,使用頭架對頭顱位置進行固定,使用CT 模板對上下頜位置進行固定,掃描基線為眶耳平面(Frankfort plane),探測器寬度為128 ×0.625 mm,重建層厚度為0.9 mm,掃描間隔為0.5 mm,床進入速度158.7 mm/s,螺旋轉(zhuǎn)速為0.5 s,探測器螺距為0.992。

      1.3 圖像重建 對患者掃描結(jié)束,將重建數(shù)據(jù)傳入Extended Briliance Workspace (4.0)工作站。數(shù)據(jù)錄入完畢后,使用儀器附帶的三維重建軟件,對患者顱頜面數(shù)據(jù)直接進行三維重建(見圖2)。圖像重建成型后,使用附帶軟件將頸椎部分截除,僅保留上下頜骨,且確保圖像無重疊影,1024 ×1024 像素矩陣得到重建圖像數(shù)據(jù)。圖像重建完畢后,其可沿X 軸、Y 軸、Z 軸三個方向做360°任意旋轉(zhuǎn)、切割與放大,并可使用軟件附帶的測量功能輕松對功能參數(shù)的大小做出測量。

      1.4 測量方法

      1.4.1 坐標(biāo)系的建立 在水平軸面掃描數(shù)據(jù)中,從頭顱頂端向下開始逐層尋找,以剛出現(xiàn)切牙孔為準(zhǔn),確定此時所在平面為確立坐標(biāo)軸所需平面。以切牙孔為坐標(biāo)軸原點,以切牙孔所在冠狀面為X 軸,以腭中縫所在矢狀面為Y 軸設(shè)立坐標(biāo)系,以5 mm 為1 個單位劃分坐標(biāo)軸(見圖3)。與X 軸平行的平面以英文單詞plane 首字母P 作為簡寫,切牙孔所在冠狀平面為P0,其后方每隔5 mm 所劃分的與其平行的冠狀平面分別標(biāo)記為P1,P2,P3 等。與Y 軸平行的平面以英文單詞distance 首字母D 作為簡寫,腭中縫所在矢狀面為D0,其右側(cè)(數(shù)據(jù)測量時圖片右側(cè),即測量者右側(cè))每隔5 mm所劃分的與其平行的矢狀平面分別標(biāo)記為+D1,+D2,+D3,其左側(cè)(同前,測量者左側(cè))此種平面分別標(biāo)記為-D1,-D2,-D3。例如:切牙孔的坐標(biāo)表示為P0D0,P3 +D3 表示距切牙孔向后15 mm,腭中縫向右15 mm 的兩平面相交所成點。

      1.4.2 數(shù)值測量 如上建立坐標(biāo)系后,坐標(biāo)系中出現(xiàn)37 個坐標(biāo)點(切牙孔所在點P0D0 不做測量)。首先在水平軸面選定所要測量的坐標(biāo)點,之后確定該點所在矢狀切面,并在此矢狀切面上,利用儀器附帶數(shù)據(jù)測量軟件,對該點所在處垂直骨厚度做出數(shù)據(jù)測量(見圖4)。

      1.4.3 計算種植體可植入率 垂直骨量大于8 mm的區(qū)域,被認(rèn)為是可以成功植入種植體的區(qū)域。通過數(shù)據(jù)測量,計算37 個位點微種植體的可植入率。計算公式為:8 mm 種植體可植入率=(該部位垂直骨量≥9 mm 的患者例數(shù)/總患者例數(shù))×100%。

      圖1 philips brilliance iCT

      圖2 256 CT 三維重建

      圖3 以切牙孔為原點確定坐標(biāo)軸,并選定需要測量的位點

      圖4 在矢狀面上測量該位點垂直向骨組織厚度

      1.5 統(tǒng)計學(xué)分析 采用SPSS 17.0 統(tǒng)計軟件進行統(tǒng)計學(xué)分析。使用t 檢驗,比較不同測量部位骨垂直厚度的性別差異;使用卡方檢驗,比較37 個部位可植入率的性別差異,檢驗水準(zhǔn):雙側(cè)α=0.05。

      2 結(jié)果

      2.1 骨厚度測量情況 腭部37 個虛擬種植體植入部位的平均骨厚度情況為:①女性平均骨厚度最大的部位為:P0-D2,平均值為(19.3±3.7)mm;平均骨厚度最小部位為:P5 +D2,平均值為(2.1±0.8)mm;兩者厚度相差為:17.2 mm。②男性平均骨厚度最大的部位為:P0 +D2,平均值為(18.6±3.1)mm;平均骨厚度最小部位為:P5 +D2,平均值為(3.1±1.1)mm;兩者厚度相差為:15.5 mm。③合計總平均骨厚度最大的部位為:P0 +D2,平均值為(18.7±3.0)mm;平均骨厚度最小部位為:P5 +D2,平均值為(2.8±1.1)mm;兩者厚度相差為:15.9 mm。其中,過切牙孔的冠狀平面上4 個位點P0-D2,P0-D1,P0 +D1,P0 +D2,其平均骨厚度均大于15 mm。見圖5。

      2.2 種植體可植入率 當(dāng)植入長度為8 mm 微螺釘種植體時,女性可植入率較高的10 個種植部位為:P0-D2,P0-D1,P0 +D1,P0 +D2,P1-D2,P1D0,P1 +D2,P2-D3,P2 +D3,P3-D3,P4-D3,在這些部位中,可植入率最高為:100.0%,最低為:60% (其中可植入率最低的位點為兩個:P1+D2,P4-D3);男性可植入率較高的10 個種植部位為:P0-D2,P0-D1,P0 +D1,P0+D2,P1-D2,P1-D1,P1D0,P1 +D1,P1 +D2,P2-D3,P2+D3,可植入率最高為:100.0%,最低為:67.6% (其中可植入率最低的位點為2 個:P1 +D1,P2-D3);合計可植入率較高的10 個種植部位為:P0-D2,P0-D1,P0+D1,P0+D2,P1-D2,P1-D1,P1D0,P1 +D2,P2-D3,P2+D3,可植入率最高為:100%,最低為:63.5%。其中,過切牙孔的冠狀平面上4 個位點P0-D2,P0-D1,P0+D1,P0 +D2,其種植體可植入率均為100.0%。腭中縫處骨質(zhì)厚度較同一水平面中心部位稍高,但較兩側(cè)腭部邊緣部位稍低。

      圖5 腭部骨厚度變化趨勢

      圖6 腭側(cè)種植體與舌側(cè)矯治的結(jié)合

      3 討論

      3D 重建可以建立顱頜面部骨組織立體形態(tài)圖像,清晰重現(xiàn)牙齒、骨骼及其間的位置關(guān)系,方便距離、角度的測量,具有定位準(zhǔn)、無重疊、無偽影、隨意性強等優(yōu)點,可以充分彌補二維圖像影像失真、組織結(jié)構(gòu)重疊、不能獲取立體重建影像、無法對骨密度作出評估等。

      在口腔正畸學(xué)中,“支抗”被定義為:支持矯治力,抵抗矯治力反作用力的單元[1]。種植體支抗作為一種強支抗,在正畸治療中十分關(guān)鍵。關(guān)于種植體的適宜長度,國內(nèi)學(xué)者蘭澤棟等[2]與臺灣學(xué)者Tseng 等[3]皆認(rèn)為:支抗用微種植體長度越長,其與骨的接觸面積越多,骨界面的應(yīng)力分布也更趨于合理,從而增加了微種植體的抗載荷能力,其成功率與長期穩(wěn)定性越高。樸孝尚[4]認(rèn)為種植體在骨內(nèi)長度小于6 mm,是臨床種植體支抗松脫的原因之一。高子童[5]通過研究的出結(jié)論:Ⅰ、Ⅱ類骨質(zhì)微種植體支抗的最佳長度為5.0~11.0 mm。Ⅲ、Ⅳ類骨質(zhì)微種植體支抗的最佳長度為6.5~9.5 mm。國內(nèi)王震東等[6]通過三維有限元分析認(rèn)為:8 mm 長度的微種植體,在承受非軸向力時,種植體頸部應(yīng)力值最小。Kokich[7]通過研究得出結(jié)論:種植體植入過程中,若預(yù)留1 mm 的緩沖區(qū)域,可提高種微植體支抗的成功率。

      硬腭部適宜種植體植入的原因有:23 歲以上成人腭中縫多已骨化完畢,硬腭區(qū)域有較好的手術(shù)視野,被覆角化上皮可以使種植袖口達(dá)到較快封閉不易引起組織腫脹,影響種植體植入的干擾因素(牙根、神經(jīng)、血管等)較少,便于與舌側(cè)托槽相互配合等[8]。

      隨著國外和國內(nèi)舌側(cè)矯治的蓬勃發(fā)展以及經(jīng)濟水平的提高,越來越多的成年患者為了牙齒及頜面部的美觀,開始尋求舌側(cè)正畸治療。腭部種植體因其植入部位的特殊性,極大程度的地方便了舌側(cè)矯治中的對伸長磨牙的壓低、對磨牙內(nèi)翻以及對前牙舌傾的控制,是達(dá)到舌側(cè)矯治效果不可或缺的技術(shù)手段(見圖6)。

      [1] 陳揚熙.口腔正畸學(xué)-基礎(chǔ)、技術(shù)與臨床[M].第8 版.北京:人民衛(wèi)生出版社,2012:716-719.

      [2] 蘭澤棟,林珠,龍月紅,等.支抗種植體長度對骨界面應(yīng)力分布的影響[J].中國口腔種植學(xué)雜志,2003,8(3):112-115.

      [3] Tesng Y C,Hsieh C H,Chen C H,et al.The application of mini-implants for orthodontic anchorage[J].Int Oral Maxillofac Surg,2006,35(8):704-707.

      [4] 樸孝尚(徐寶華主譯).口腔正畸微種植體支抗(MIA)技術(shù)[M].中國醫(yī)藥科技出版社,2005:12-19.

      [5] 高子童.正畸微種植體支抗在不同骨質(zhì)中直徑和長度的優(yōu)化設(shè)計[D].中國人民解放軍第四軍醫(yī)大學(xué)口腔醫(yī)學(xué)院,2011.

      [6] 王震東,王林.不同長度微種植體支抗應(yīng)力差異的三維有限元研究[J].口腔醫(yī)學(xué),2005,25(2):96-98.

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      [8] 趙弘,顧曉明,劉洪臣,等.正常牙合成年人硬腭部骨質(zhì)厚度初探[J].中華口腔醫(yī)學(xué)雜志,2011,46(3):177-181.

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