專利信息

專利信息

一種可去除霧狀釉噴釉機(jī)

本發(fā)明公開了一種可去除霧狀釉噴釉機(jī)，包括底座,底座的上部安裝底座和步進(jìn)電機(jī)，步進(jìn)電機(jī)的輸出軸安裝固定塊，固定塊的一側(cè)下部安裝下連接板，下連接板的上部安裝下夾持工具，固定塊的一側(cè)上部安裝上連接板，上連接板上開設(shè)螺孔，螺孔內(nèi)安裝螺栓，螺栓為蝴蝶螺栓。本發(fā)明提供了一種圓鋸無(wú)需將單壁波紋管一切到底的可去除霧狀釉噴釉機(jī)。本發(fā)明的步進(jìn)電機(jī)可以在圓鋸切割單壁波紋管的過(guò)程中帶動(dòng)單壁波紋管緩慢轉(zhuǎn)動(dòng)，使圓鋸無(wú)需深入到單壁波紋管內(nèi)部就可以對(duì)單壁波紋管進(jìn)行切割，避免了圓鋸的側(cè)面會(huì)與單壁波紋管摩擦，防止了圓鋸損壞單壁波紋管。

專利號(hào)：CN104478492A

基于拓印技術(shù)的陶瓷釉面裝飾金屬釉的方法

本發(fā)明公開了一種基于拓印技術(shù)的陶瓷釉面裝飾金屬釉的方法，屬于無(wú)機(jī)非金屬材料領(lǐng)域。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案包括以下步驟a、根據(jù)設(shè)計(jì)的陶瓷釉層的表面形狀、顏色，制作用于覆蓋素胚不同色塊的拓印件；b、將拓印件覆蓋在素胚對(duì)應(yīng)的色塊上；c、采用金屬釉噴涂色塊前，卸下對(duì)應(yīng)色塊的拓印件，噴涂完畢后再用拓印件覆蓋已噴涂色塊，繼續(xù)噴涂其他色塊；d、將噴涂完畢后的陶瓷燒制得產(chǎn)品。該方法可節(jié)約步驟，工藝更簡(jiǎn)單，能提高噴涂效率。利用拓印方法可節(jié)約裝飾瓷磚的制備工藝，產(chǎn)品圖案更精確，可應(yīng)用于批量生產(chǎn)。

專利號(hào)：CN104496563A

一種陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)

本發(fā)明公開了一種陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)，包括底座,底座上部一側(cè)安裝固定架、液壓站和支架，支架的上部安裝固定板，固定板的上部安裝容器，容器的一側(cè)安裝抽真空機(jī)，固定架的上部安裝連接板，連接板的下部安裝千斤頂，千斤頂?shù)囊簤焊着c連接板連接，千斤頂?shù)捻敆U連接壓板。本發(fā)明提供了一種高密封性陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)。本發(fā)明的密封塊與密封板的第二固定槽之間會(huì)形成一個(gè)環(huán)形溝槽，溝槽與容器的上部配合，可以大大增加密封密封板與容器上部的密封面積，從而大大提高了陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)的密封性，避免了陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)在工作過(guò)程中出現(xiàn)氣體進(jìn)入的情況，大大提高了真空脫泡攪拌機(jī)的脫泡效率。

專利號(hào)：CN104437202A

釉下堆料厚層燒制方法

釉下堆料厚層燒制方法，按照以下階段進(jìn)行燒制：升溫段，將釉下堆料厚層的素坯送入窯爐，在5.0～6.0 h內(nèi)將溫度從0℃緩慢升溫至300℃后，并將溫度由300℃提升至900℃進(jìn)入氧化段；氧化段，在7.0～8.0 h內(nèi)將溫度從900℃緩慢升溫至1100℃，再將溫度提升至1320～1330℃進(jìn)入恒溫段；恒溫段，維持1320～1330℃燒制4.0～5.0 h，立即進(jìn)入冷卻段；冷卻段，開啟窯爐密封門，由小到大逐漸增加，在6.0～7.0 h內(nèi)將溫度降至常溫。該發(fā)明釉下堆料厚層燒制得到的陶瓷，其立體感強(qiáng)，濃淡遠(yuǎn)近分明，凹凸明顯，藝術(shù)觀賞性強(qiáng)，收藏價(jià)值高，提高了市場(chǎng)占有率。

專利號(hào)：CN104446369A

一種包含保護(hù)釉層的拋釉瓷磚及其制造方法

本發(fā)明一種包含保護(hù)釉層的拋釉瓷磚，其包括瓷磚本體，及覆蓋于所述瓷磚本體表面的保護(hù)釉層，所述保護(hù)釉層自下至上包括塑化膜層、過(guò)渡層及熟料熔塊透明釉層，其中，所述塑化膜層是質(zhì)量百分比濃度為1%～10%的丹寧酸水溶液；所述過(guò)渡層為漿料比重小于1.20 g/cm3的生料透明釉漿。本發(fā)明另提供一種包含保護(hù)釉層的拋釉瓷磚的制造方法，包括如下步驟;A生胚施底釉的步驟；B在瓷磚本體上打印圖案的步驟；C用螺旋噴釉機(jī)在瓷磚本體表面噴淋漿料以形成保護(hù)釉層的步驟；D煅燒后拋光的步驟。該方法操作簡(jiǎn)單、節(jié)省人力、不受產(chǎn)品規(guī)格限制、不影響產(chǎn)品花色并且能夠保證印花圖案清晰。

專利號(hào)：CN104478491A