泥巖層數(shù)對(duì)泥巖涂抹形成及演化影響的物理模擬

劉新宇，李會(huì)元

（東北石油大學(xué)CNPC斷裂控藏研究室，黑龍江 大慶 163318）

0 引言

早在 1935 年，Rettger[1]在軟沉積物斷裂變形實(shí)驗(yàn)中觀察到泥巖流入斷裂帶的現(xiàn)象，Perkins[2]于1961年首次應(yīng)用泥巖流入斷裂帶機(jī)理去解釋路易斯安那灣岸地區(qū)砂砂對(duì)接斷層封閉的現(xiàn)象。1980年，Smith[3]將泥巖涂抹定義為泥巖地層被拖入到斷裂帶中，以區(qū)別于斷裂帶中的斷層泥（fault gouge）。 1913 年，Reid 等[4]將斷層泥定義為在圍巖之間的斷裂帶中發(fā)育的細(xì)粒巖，潮濕時(shí)有點(diǎn)像泥；1977年，Sibson[5]將其定義為碎屑成分小于30%、具有隨機(jī)組構(gòu)的無(wú)黏結(jié)力斷層巖。2000年，Sperrevik[6]將泥巖涂抹定義為斷層上下盤(pán)泥巖層中的泥進(jìn)入發(fā)育的斷裂帶中、沿著斷層面分布的泥巖薄膜。Peacock等[7]綜合前人的研究成果認(rèn)為，圍巖富泥物質(zhì)沿著斷層面分布，即為涂抹（smear）[2，8-10]。由于泥巖涂抹具有較小的孔喉半徑、較低的滲透率和較高的排替壓力，所以泥巖涂抹具有較強(qiáng)的封閉能力[11]，對(duì)準(zhǔn)確評(píng)價(jià)斷層封閉性具有重要的意義。從而進(jìn)一步準(zhǔn)確厘定油水界面，降低鉆探風(fēng)險(xiǎn)。

物理模擬實(shí)驗(yàn)是研究地質(zhì)構(gòu)造變形演化機(jī)制的一種重要方法，在國(guó)內(nèi)外都得到了廣泛的運(yùn)用[12]。前人認(rèn)為，在構(gòu)造物理模擬砂箱實(shí)驗(yàn)中，干燥的石英砂和潤(rùn)濕的黏土是模擬上地殼中的構(gòu)造變形的理想材料[13-16]。1997 年，Hornbaker等[17]指出，對(duì)于顆粒材料，當(dāng)顆粒之間有少量水存在的時(shí)候，其力學(xué)性質(zhì)會(huì)發(fā)生改變。干燥的石英砂和潤(rùn)濕后的黏土接觸后，由于毛細(xì)管的虹吸作用會(huì)導(dǎo)致石英砂吸水，從而使得石英砂和黏土的物理性質(zhì)都會(huì)發(fā)生改變，增大了實(shí)驗(yàn)誤差。為了克服這一困難，2005年，Adam[18]進(jìn)行了飽和水砂箱實(shí)驗(yàn)。2010年，Schmatz沿用了Adam的實(shí)驗(yàn)條件，在砂箱內(nèi)鋪設(shè)了不同層數(shù)的濕黏土和石英砂，對(duì)斷層內(nèi)部結(jié)構(gòu)的發(fā)育進(jìn)行了研究，并結(jié)合PIV技術(shù)對(duì)整個(gè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程作了詳細(xì)的解析[19-20]。然而，Schmatz并沒(méi)有詳細(xì)對(duì)比不同層數(shù)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果，并且在飽和水砂箱實(shí)驗(yàn)條件下，黏土層的物理性質(zhì)在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中會(huì)改變，導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)誤差增大。本實(shí)驗(yàn)采用了另外一種思路，嘗試采用了干燥的石英砂和干黏土進(jìn)行斷層變形模擬，并結(jié)合PIV技術(shù)對(duì)實(shí)驗(yàn)過(guò)程進(jìn)行分析研究。

1 實(shí)驗(yàn)方法

物理砂箱模擬通常是用來(lái)模擬規(guī)模較大的構(gòu)造變形和構(gòu)造樣式，對(duì)于小規(guī)模的構(gòu)造現(xiàn)象模擬較少[21-22]。本實(shí)驗(yàn)?zāi)M的重點(diǎn)是泥巖涂抹形成及演化過(guò)程，實(shí)驗(yàn)設(shè)備參考 Schmatz 2010年所用實(shí)驗(yàn)裝置（見(jiàn)圖 1）[19-20]。實(shí)驗(yàn)砂箱長(zhǎng)40 cm，寬20 cm，高40 cm；底部用硬度大形變量小的材料制作成傾角為70°的基底正斷層；基底正斷層上盤(pán)在2塊平行的玻璃板之間運(yùn)動(dòng)，斷層模具與玻璃的接觸部分都采用了密封措施，同時(shí)添加了潤(rùn)滑劑（如白凡士林）以減小砂泥層和玻璃面的摩擦阻力。實(shí)驗(yàn)最大斷距20 cm，變形速率0.01～10 mm/min。

圖1 實(shí)驗(yàn)設(shè)備示意

建立實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ捅仨毧紤]邊界條件，而真實(shí)的地質(zhì)現(xiàn)象是沒(méi)有邊界條件的。模擬斷層形成的理想條件是在一種均質(zhì)的材料中形成單一的面狀剪切帶[20]。為了消除邊界條件對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響，需要在實(shí)驗(yàn)進(jìn)行前選擇合適的邊界條件。實(shí)驗(yàn)砂箱主要包括2個(gè)邊界條件，即砂箱底部采用堅(jiān)硬的底板和上頂面采用自由頂面。砂箱內(nèi)填充物總高為38 cm，基底斷層滑動(dòng)速率為0.5 mm/min，實(shí)驗(yàn)過(guò)程中每30 s拍照1次，這些參數(shù)在所有實(shí)驗(yàn)中保持不變。

2 相似分析及實(shí)驗(yàn)材料選擇

實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ团c自然界原型之間相似性的確定，是通過(guò)模擬實(shí)驗(yàn)來(lái)討論地質(zhì)問(wèn)題的前提[12]。相似性主要分為幾何學(xué)、運(yùn)動(dòng)學(xué)和動(dòng)力學(xué)3個(gè)方面[23-25]。

實(shí)驗(yàn)中一般采用的相似比為 10-4～10-5[25-26]。 本實(shí)驗(yàn)的幾何學(xué)相似比L*=5.0×10-5，運(yùn)動(dòng)學(xué)相似比e*=2.0×10-4（參照晚第四系斷裂活動(dòng)速率 1 mm/a[27]）。

根據(jù)Hubbert 1937年和Van Mechelen 2004年提出的相似理論[23，25]，實(shí)驗(yàn)材料的選取應(yīng)該滿足：內(nèi)聚力的相似比要盡可能地滿足動(dòng)力學(xué)的相似比，內(nèi)摩擦角應(yīng)該盡可能接近。上地殼中塑性巖層的內(nèi)聚力一般為1～5 MPa，脆性巖石的內(nèi)聚力一般為 10～50 MPa[25，28]。內(nèi)摩擦角φ，泥（頁(yè)）巖的一般為25°，砂巖的一般為40°[29]。

本實(shí)驗(yàn)的動(dòng)力學(xué)相似比σ*=ρ*g*L*。其中，重力加速度相似比 g*=1，密度相似比 ρ*≈0.5，則 σ*=2.5×10-5。 那么，這就要求模擬砂巖層的實(shí)驗(yàn)材料內(nèi)聚力為250～1 250 Pa，模擬泥巖層實(shí)驗(yàn)材料的內(nèi)聚力為25～125 Pa。1991年，Krantz通過(guò)對(duì)石英砂和黏土進(jìn)行剪切測(cè)試，石英砂的內(nèi)聚力為 200～500 Pa，黏土約為 300 Pa[30]，本實(shí)驗(yàn)選取的實(shí)驗(yàn)材料符合相似理論（見(jiàn)表1）。

表1 實(shí)驗(yàn)材料的物理特性

3 PIV（粒子成像測(cè)速）技術(shù)

PIV技術(shù)是一種非接觸式的光學(xué)測(cè)量技術(shù)，被廣泛應(yīng)用于流體位移的測(cè)量[20]。該技術(shù)最早應(yīng)用于流體力學(xué)、巖土力學(xué)和空氣動(dòng)力學(xué)研究[31-32]，近幾年才被應(yīng)用于構(gòu)造物理模擬實(shí)驗(yàn)中[33]。本文運(yùn)用PIV技術(shù)對(duì)實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ推拭嫔霞羟袘?yīng)變的分布和變化進(jìn)行計(jì)算，進(jìn)而對(duì)泥巖涂抹的形成演化過(guò)程進(jìn)行討論。

應(yīng)用PIV圖像后處理軟件對(duì)實(shí)驗(yàn)過(guò)程照片進(jìn)行處理，可以獲得不同時(shí)刻顆粒運(yùn)動(dòng)的二維矢量場(chǎng)。由于實(shí)驗(yàn)照片拍攝的面積一般比PIV處理的面積大，為了節(jié)約計(jì)算的時(shí)間，先確定PIV處理的區(qū)域。進(jìn)行相關(guān)計(jì)算之前需要把圖像分割為若干塊，每一個(gè)塊即為一個(gè)“判讀區(qū) （interrogation windows）”， 判讀區(qū)的大小決定了PIV處理的精度，每一個(gè)判讀區(qū)的大小通常為幾粒石英砂，其在實(shí)驗(yàn)照片中的位置都是確定的。圖2a中，黑色矩形代表一個(gè)判讀區(qū)在t1時(shí)刻圖像中的位置；圖2b中，黑色矩形表示的是t2時(shí)刻判讀區(qū)所在的位置，從而可以計(jì)算出此判讀區(qū)在t1時(shí)刻到t2時(shí)刻對(duì)應(yīng)的速度v（見(jiàn)圖2c）。通過(guò)對(duì)每一個(gè)判讀區(qū)進(jìn)行計(jì)算，獲得某時(shí)刻的速度場(chǎng)。

圖2 PIV圖像分割及計(jì)算過(guò)程

4 實(shí)驗(yàn)結(jié)果

本文共設(shè)計(jì)完成了4個(gè)實(shí)驗(yàn)（見(jiàn)表2），黏土間夾層厚度為10 mm，黏土層厚度為5 mm，黏土類型為干，變形速率0.5 mm·min-1，黏土層數(shù)是實(shí)驗(yàn)唯一的變量?？梢愿鶕?jù)標(biāo)志層、泥巖層的變形和PIV分析圖像，確定斷層的形成位置和傳播途徑。

表2 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)

通過(guò)對(duì)所有實(shí)驗(yàn)分析發(fā)現(xiàn)，在斷距較小時(shí) （0～2 mm），沿基底斷層的方向形成一條斷層，2000年，Mandl把這條斷層命名為“先存斷層（precursor fault）”[15]。 隨著基底斷層的活動(dòng)，在近垂直的方向上又形成一條斷層，筆者為了描述方便將其命名為“直裂斷層”。一般情況下先存斷層先出現(xiàn)，也有兩者同時(shí)出現(xiàn)的情況（見(jiàn)圖4a）。2010年，Schmatz把以先存斷層和直裂斷層為邊界的“倒三角狀”區(qū)域定義為“三角運(yùn)動(dòng)有利區(qū)”，斷層發(fā)育的過(guò)程中此區(qū)域內(nèi)應(yīng)變較為集中[19]。實(shí)驗(yàn)中斷層的發(fā)育分為2個(gè)方向。橫向上，直裂斷層向先存斷層方向旋轉(zhuǎn)，并最后逐漸形成一條斷層；垂向上，斷層在向上傳播的過(guò)程發(fā)生了垂向分段生長(zhǎng)，并逐漸連接形成一條斷層。

4.1 純石英砂變形實(shí)驗(yàn)

為了了解實(shí)驗(yàn)中用來(lái)模擬上地殼脆性巖層的石英砂在本實(shí)驗(yàn)條件下的變形特點(diǎn)，進(jìn)行了純石英砂變形實(shí)驗(yàn)（見(jiàn)圖3）。在砂箱中隨機(jī)鋪設(shè)了3層不同厚度的用甲基藍(lán)試劑染色的石英砂作為標(biāo)志層，染色不會(huì)改變石英砂的物理性質(zhì)[19]。在鋪設(shè)過(guò)程中，為了消除人為壓實(shí)的影響，石英砂從統(tǒng)一的高度均勻撒入砂箱。

從實(shí)驗(yàn)開(kāi)始到斷距達(dá)到0.2 cm時(shí)，標(biāo)志層幾乎沒(méi)有發(fā)生變化，而根據(jù)PIV分析圖像顯示，在石英砂中形成了一條與基底斷層方向大致相同的剪切應(yīng)變集中帶，說(shuō)明此時(shí)已經(jīng)形成了先存斷層（見(jiàn)圖3a）。隨著基底斷層的活動(dòng)，先存斷層并沒(méi)有進(jìn)一步發(fā)育，而是在近垂直方向上出現(xiàn)了直裂斷層（見(jiàn)圖3b）。在此變形階段，砂巖標(biāo)志層發(fā)生了彎曲，并沒(méi)有明顯的減薄。由PIV分析圖像顯示，在斷距為1.3 cm時(shí)斷層出現(xiàn)了分段生長(zhǎng)（見(jiàn)圖3c，3d），并隨著斷距的進(jìn)一步增大，斷層段逐漸連接成為一條斷層（見(jiàn)圖3d）。在斷層分段生長(zhǎng)階段，標(biāo)志層的厚度基本保持不變，說(shuō)明此過(guò)程標(biāo)志層沒(méi)有遭受強(qiáng)烈的研磨作用。當(dāng)斷層分段生長(zhǎng)結(jié)束后，在砂箱內(nèi)形成了一個(gè)穩(wěn)定的斷面，根據(jù)斷層的位置和連接情況來(lái)看，斷層段之間形成的是擠壓型疊覆區(qū)。在斷距從1.0 cm增大到5.0 cm這個(gè)過(guò)程中，直裂斷層逐漸向先存斷層方向旋轉(zhuǎn)，最終趨于一致。

4.2 砂-泥巖互層變形實(shí)驗(yàn)

通過(guò)純石英砂斷層變形實(shí)驗(yàn)，對(duì)斷層的發(fā)育特征已經(jīng)有基本的了解，在石英砂中鋪設(shè)一層厚度為5 mm的黏土層進(jìn)行實(shí)驗(yàn)（見(jiàn)圖4a—4c）。在斷距達(dá)到1.0 cm時(shí)形成的“倒三角”狀運(yùn)動(dòng)有利區(qū)的形態(tài)和純石英砂實(shí)驗(yàn)相似，只是在泥巖層位置處剪切帶發(fā)生了彎曲（見(jiàn)圖4a）。根據(jù)PIV分析圖像顯示（見(jiàn)圖4b），在斷距達(dá)到2.0 cm時(shí)，斷層在泥巖層位置處發(fā)生了明顯的分段生長(zhǎng)現(xiàn)象，斷層段之間形成的是拉張型疊覆區(qū)。此時(shí)發(fā)生變形的泥巖層保存完整，厚度基本和原巖層相同，形成了連續(xù)的泥巖涂抹。隨著斷距的增大，斷層段逐漸連接形成一條斷層（見(jiàn)圖4c）。在PIV分析圖像中顯示，剪切帶在泥巖層位置處沒(méi)有異?，F(xiàn)象，說(shuō)明泥巖層遭受強(qiáng)烈的研磨作用，沒(méi)有連續(xù)的泥巖涂抹形成。

圖3 石英砂變形實(shí)驗(yàn)

在實(shí)驗(yàn)條件不變的情況下，進(jìn)行2層黏土變形實(shí)驗(yàn)（見(jiàn)圖4d—4f），黏土層厚度均為5 mm，中間的石英砂夾層厚度均為為10 mm，構(gòu)成一個(gè)簡(jiǎn)單的砂-泥互層。根據(jù)PIV分析顯示，先存斷層在砂-泥互層位置處分為2段，上半部分的方向和基底斷層相似，下半部分近垂直。隨著斷距增大，直裂斷層向先存斷層方向旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，斷層發(fā)生了分段生長(zhǎng)，此過(guò)程對(duì)運(yùn)動(dòng)有利區(qū)內(nèi)的泥巖層基本沒(méi)有破壞。三角運(yùn)動(dòng)有利區(qū)內(nèi)的泥巖層發(fā)生了彎曲變形，而夾層砂巖多發(fā)育斷層透鏡體。當(dāng)斷層段連接形成穩(wěn)定斷面時(shí)，泥巖層和砂巖夾層經(jīng)過(guò)強(qiáng)烈的研磨混合，幾乎看不到保存完整的泥巖層。

當(dāng)砂箱內(nèi)的黏土增加為3層時(shí)（見(jiàn)圖4g—4i），先存斷層的形態(tài)和2層時(shí)的形態(tài)大致相同。當(dāng)斷距為4 cm時(shí)（見(jiàn)圖4h），斷層處于分段生長(zhǎng)階段，此時(shí)的泥巖層破碎較為嚴(yán)重，多發(fā)育裂縫和泥巖透鏡體，以脆性破裂為主[34]。隨著斷距的進(jìn)一步增大，斷層段逐漸合并形成一個(gè)斷面，此時(shí)泥巖層以脆性變形為主，多發(fā)育裂縫和透鏡體。三角運(yùn)動(dòng)有利區(qū)內(nèi)泥巖發(fā)生彎曲變形成階梯狀，在實(shí)驗(yàn)s-s-0和s-n-5中這種現(xiàn)象不是很明顯，隨著泥巖層層數(shù)的增加，這種現(xiàn)象越來(lái)越明顯。

圖4 砂-泥巖互層斷層變形實(shí)驗(yàn)

5 討論

即使是物性相同的泥巖層，在不同的層序中變形特點(diǎn)也不同。如圖5a所示，在單層黏土變形實(shí)驗(yàn)中，泥巖層以塑性變形為主，沒(méi)有裂縫和透鏡體出現(xiàn)，形成保存較好的泥巖涂抹。在2層黏土變形實(shí)驗(yàn)中，由于黏土層數(shù)的增加，形成的泥巖涂抹呈階梯狀，并且石英砂夾層發(fā)育“香腸”構(gòu)造（見(jiàn)圖5b）。當(dāng)黏土的層數(shù)增加到3層時(shí)（見(jiàn)圖5c），在相同的斷距條件下和單層及2層黏土變形實(shí)驗(yàn)相比，黏土層表現(xiàn)出明顯的脆性特征，有泥巖透鏡體及明顯的斷裂形成，泥巖涂抹的連續(xù)性較差。

圖5 斷距4.0 cm實(shí)驗(yàn)結(jié)果對(duì)比

實(shí)驗(yàn)中采用了干燥的石英砂和干黏土對(duì)斷裂變形過(guò)程中泥巖涂抹的形成及演化進(jìn)行了模擬。通過(guò)和前人的實(shí)驗(yàn)結(jié)果對(duì)比發(fā)現(xiàn)[18-20，26]，受基底斷層活動(dòng)影響形成的正斷層的發(fā)育過(guò)程大致相同。本文應(yīng)用PIV技術(shù)對(duì)實(shí)驗(yàn)過(guò)程做了詳細(xì)的分析，更進(jìn)一步詳細(xì)描述了斷層發(fā)育的各個(gè)過(guò)程。

在直裂斷層向先存斷層方向旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中，斷層出現(xiàn)了垂向分段生長(zhǎng)的現(xiàn)象。在純石英砂變形實(shí)驗(yàn)中，斷層段在垂向上形成的是左階右旋的組合方式（見(jiàn)圖3d），而在砂-泥巖互層斷層變形實(shí)驗(yàn)中，斷層段形成的是右階右旋的組合方式（見(jiàn)圖4c，4e，4h）。左階右旋斷層段疊覆區(qū)之間形成的擠壓型疊覆區(qū)，而右階右旋形成的拉張型疊覆區(qū)，有利于泥巖涂抹的發(fā)育。在s-n-5和s-2n-5實(shí)驗(yàn)中，拉張型疊覆區(qū)內(nèi)沒(méi)有泥巖層發(fā)生脆性破裂；而在s-3n-5實(shí)驗(yàn)中，泥巖層在拉張型疊覆區(qū)內(nèi)形成了裂縫和泥巖透鏡體，破碎較為嚴(yán)重。所以，受到泥巖層數(shù)的影響，拉張型疊覆區(qū)內(nèi)部的泥巖層不一定都能保存完整。通過(guò)對(duì)比可以看出，在斷層分段生長(zhǎng)階段有利于泥巖涂抹的形成，并且泥巖層數(shù)越少，形成的泥巖涂抹連續(xù)性越好。

在基底斷層活動(dòng)的初期，砂箱中會(huì)形成一個(gè)倒三角狀的運(yùn)動(dòng)有利區(qū)，根據(jù)PIV分析顯示，應(yīng)變主要集中在這一區(qū)域內(nèi)，說(shuō)明運(yùn)動(dòng)有利區(qū)內(nèi)巖石破碎較為嚴(yán)重。隨著斷層的進(jìn)一步發(fā)育，無(wú)論在均質(zhì)的石英砂變形實(shí)驗(yàn)中還是砂-泥互層變形實(shí)驗(yàn)中均會(huì)出現(xiàn)分段生長(zhǎng)現(xiàn)象，并且在斷層段之間形成不同類型的疊覆區(qū)。隨著基底斷層活動(dòng)，砂箱中形成的斷層和基底斷層連接貫通形成一條斷層。

基于上述認(rèn)識(shí)，筆者將斷層的發(fā)育分為破碎、轉(zhuǎn)換和滑動(dòng)3個(gè)階段（見(jiàn)圖6）。破碎階段（見(jiàn)圖6a）：受基底斷層活動(dòng)影響，在地層中形成一個(gè)近似倒三角狀的運(yùn)動(dòng)有利區(qū)，此區(qū)域內(nèi)應(yīng)變相對(duì)集中。轉(zhuǎn)換階段 （見(jiàn)圖6b）：在運(yùn)動(dòng)有利區(qū)內(nèi)發(fā)育了一些斷層段，斷層段之間形成不同類型的疊覆區(qū)，其中拉張型疊覆區(qū)有利于泥巖涂抹的形成和保存?；瑒?dòng)階段（見(jiàn)圖6c）：隨著基底斷層的活動(dòng)，斷層段逐漸連接形成一條斷層，斷層活動(dòng)較為穩(wěn)定，此階段泥巖層的破壞較為嚴(yán)重，常發(fā)育裂縫和泥巖透鏡體，并遭受強(qiáng)烈的研磨作用，不利于泥巖涂抹的形成和保存。

圖6 斷層發(fā)育模式

對(duì)實(shí)驗(yàn)過(guò)程的分析，揭示了斷層發(fā)育的不同階段形成泥巖涂抹的差異，一般情況下，在直裂斷層向基底斷層方向旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中形成的泥巖涂抹保存較好。

6 結(jié)論

1）泥巖層的層數(shù)會(huì)影響泥巖的變形特點(diǎn)，在泥巖層與砂巖夾層厚度不變的情況下，泥巖層越多越不利于泥巖涂抹發(fā)育。

2）PIV技術(shù)在構(gòu)造物理模擬實(shí)驗(yàn)中的應(yīng)用取得了良好的效果，能夠更清晰地分辨出肉眼所不能看到的現(xiàn)象，使得實(shí)驗(yàn)結(jié)果更加精確。

3）干燥的石英砂和黏土是模擬上地殼構(gòu)造變形的理想材料，不僅能夠消除石英砂的虹吸現(xiàn)象，而且能夠避免實(shí)驗(yàn)過(guò)程中黏土層由于壓實(shí)造成的脫水現(xiàn)象。

4）斷層的分段生長(zhǎng)在斷層發(fā)育過(guò)程中是普遍存在的，純石英砂變形實(shí)驗(yàn)中斷層段間形成的是擠壓型疊覆區(qū)，而砂-泥互層實(shí)驗(yàn)中形成的是拉張型疊覆區(qū)。

5）斷層發(fā)育的位置存在區(qū)間性，即在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中形成的三角運(yùn)動(dòng)有利區(qū)，斷層主要發(fā)育于此區(qū)域內(nèi)，并且最終斷層的形態(tài)和基底斷層趨于一致。

6）受基底斷層活動(dòng)影響形成的正斷層發(fā)育呈現(xiàn)出階段性，在轉(zhuǎn)換階段和滑動(dòng)階段都有泥巖涂抹形成，其中轉(zhuǎn)換階段形成的泥巖涂抹保存最好。

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