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      低溫鍍鐵層顯微組織的分析

      2015-03-25 15:37:04鄧漢忠
      電鍍與環(huán)保 2015年6期
      關(guān)鍵詞:鍍液鍍層基體

      楊 森, 孫 凱, 鄧漢忠

      (遼寧工程技術(shù)大學(xué)礦業(yè)技術(shù)學(xué)院,遼寧葫蘆島125105)

      ·電 鍍·

      低溫鍍鐵層顯微組織的分析

      楊 森, 孫 凱, 鄧漢忠

      (遼寧工程技術(shù)大學(xué)礦業(yè)技術(shù)學(xué)院,遼寧葫蘆島125105)

      為了優(yōu)化低溫鍍鐵工藝并開展深入的理論研究,利用掃描電鏡對鍍鐵層的表面形貌、斷面形貌和微裂紋形貌進行了觀察。結(jié)果表明:p H值較低時,析氫導(dǎo)致鍍鐵層內(nèi)產(chǎn)生微裂紋或腐蝕坑;p H值較高時,形成Fe(OH)3并夾雜在鍍鐵層中,造成鍍鐵層表面疏松、粗糙。析氫是導(dǎo)致鍍鐵層表面產(chǎn)生微裂紋的根本原因,鍍鐵層表面應(yīng)力加速微裂紋的產(chǎn)生和擴展。當(dāng)p H值為1.0時,微裂紋較少,鍍鐵層組織致密,與基體結(jié)合較好。

      低溫鍍鐵層;表面形貌;斷面形貌;微裂紋形貌

      0 前言

      無刻蝕低溫鍍鐵工藝被廣泛用于機械零部件修復(fù)和表面處理[1]。該工藝省略了傳統(tǒng)的刻蝕工藝[2],不僅降低了生產(chǎn)成本,還符合環(huán)保要求。若采用不對稱交直流電鍍工藝[3],可有效增強鍍鐵層與基體的結(jié)合強度,改善鍍鐵層的質(zhì)量。

      以往的研究大多側(cè)重低溫鍍鐵工藝的應(yīng)用[4-5]和鍍鐵層的性能[6],對顯微組織的研究較少。本文利用掃描電鏡觀察并分析了低溫鍍鐵層的表面形貌、斷面形貌和微裂紋形貌的形態(tài)和產(chǎn)生原因。這為今后的鍍鐵層組織結(jié)構(gòu)與性能的改善提供了一定的理論基礎(chǔ),有利于優(yōu)化低溫鍍鐵工藝,并能擴大該工藝的工業(yè)應(yīng)用范圍。

      1 實驗

      1.1 實驗材料

      實驗采用的試樣和陽極板材質(zhì)均為45#鋼。鍍件為長80 mm、直徑10 mm的圓柱試樣。兩個對稱陽極板長100 mm,寬25 mm,厚1 mm。陰陽極面積比約為1∶2。

      1.2 鍍鐵工藝過程及參數(shù)

      1.2.1 鍍件前處理

      用0#、2#、4#、6#砂紙依次磨光后,再用拋光機拋光至光亮;用1%的HCl溶液清洗5 min;用80%的Na2CO3溶液堿洗5 min;用蒸餾水清洗。

      1.2.2 工藝過程

      鍍液制備 →鍍 前處理 →利用自制不對稱交-直流電源進行不對稱交直流電鍍(對稱交流活化10 →min交流過20渡 min鍍 →初轉(zhuǎn)直流鍍10 m→in全直流鍍4 h→)鍍后處理(20%的Na2 CO3溶5液浸 泡m →蒸i餾水n清洗 →吹風(fēng)機干燥 →) 制樣、檢測

      1.2.3 工藝參數(shù)

      FeCl2·4 H2O 400 g/L,p H值0.5~1.5,溫度50℃,電流密度14 A/dm2。

      1.3 性能檢測

      將試樣截取10 mm小段后,用0#、2#、4#、6#砂紙將斷面打磨平整,并在拋光機上拋光至光亮。用XJL-02型立式金相顯微鏡觀察試樣斷面無劃痕后,用4%的硝酸酒精溶液腐蝕。采用SSX-550型掃描電鏡觀察并分析鍍鐵層的表面形貌、斷面形貌和微裂紋形貌。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 鍍鐵層的表面形貌

      圖1為p H=0.5時所得低溫鍍鐵層的表面形貌。由圖1可知:鍍鐵層表面平整,其上分布著大塊平滑、不規(guī)則的網(wǎng)狀微裂紋,并且存在一些大小不等的腐蝕坑。

      圖2為優(yōu)劣鍍鐵層的表面形貌對比。圖2(a)為光滑鍍件的表面形貌(p H=1.0)。鍍鐵層表面存在網(wǎng)狀微裂紋,平整、光滑、致密,不存在明顯的孔洞、粗糙等現(xiàn)象,無雜質(zhì)吸附。圖2(b)為粗糙鍍件的表面形貌(p H=1.5)。鍍鐵層發(fā)黑且極其粗糙,表面凹凸不平,可認為產(chǎn)生桔皮現(xiàn)象,所以幾乎看不見網(wǎng)狀微裂紋。

      鍍鐵電極反應(yīng)過程為:

      陽極

      陰極

      在電極反應(yīng)過程中,陰極鍍件表面鐵的不斷沉積,會使陰極界面附近鐵離子的濃度瞬時下降;而陽極板上的鐵不斷氧化溶解,會使陽極界面附近鐵離子的濃度瞬時升高,從而造成兩極間的濃度差。因此,溶液中的鐵離子除了具有電遷移作用外,還有因離子濃度差所造成的擴散運動,致使電極反應(yīng)加劇,并不斷地進行下去。在電場力的作用下,陰極除了沉積大量的鐵離子外,還產(chǎn)生大量的氫氣。大部分氫通過鍍液逸出,但有部分氫進入鍍層。這些氫在整個析氫量中占的比例雖然很小,但對于鐵而言卻是相當(dāng)大的。氫以過飽和方式滲入鍍層,除了一部分氫溶于鐵原子晶格位置外,相當(dāng)一部分氫則處于微觀結(jié)構(gòu)缺陷處,從而導(dǎo)致了圖1、2中微裂紋的萌生和擴展。

      圖1中存在的腐蝕坑,是由于鍍鐵過程中伴有氫氣析出,部分氫氣被金屬表面吸附,從而阻礙了鐵離子的沉積。當(dāng)氫氣泡大到一定程度時便會迅速脫離金屬表面,而一些小的氣泡則有可能被封閉在鍍層中,形成小氣孔。此外,鍍液中的雜質(zhì)元素也會匯聚在氣孔內(nèi),產(chǎn)生腐蝕坑。圖2中,p H=1.0時所得鍍鐵層的質(zhì)量較好。分析圖2(b)所示鍍鐵層產(chǎn)生粗糙的原因,可能是由于p H值過高,鍍液酸度低,造成鍍液中存在過量的Fe3+,在施鍍過程中形成Fe(OH)3并夾雜在鍍鐵層中,造成鍍鐵層質(zhì)量下降。

      由上述分析可知,析氫是鍍鐵層產(chǎn)生微裂紋的主要原因之一。適量Fe3+的存在能減少析氫,提高鍍鐵層的質(zhì)量。電鍍中為了減少析氫,除了適當(dāng)控制陰極放電電位外,還要控制鍍液中Fe3+的質(zhì)量濃度及析氫量。

      2.2 鍍鐵層的斷面形貌

      圖3為低溫鍍鐵層的斷面形貌(p H=1.0)。圖3中,鍍件右側(cè)為低碳鋼基體,左側(cè)為鍍鐵層。鍍鐵層厚度均勻、邊緣平整光滑,且與基體結(jié)合良好。圖3(a)為正常腐蝕狀態(tài)下的斷面形貌,基體組織清晰可見。圖3(b)經(jīng)深度腐蝕,基體與鍍層分界線不明顯,可認為基體與鍍層組織連成一片。

      鍍層厚度均勻、邊緣平整光滑、結(jié)合強度高,與不對稱交流活化工藝有關(guān)。低碳鋼在室溫條件下的相組成是大量的鐵素體和少量的滲碳體。在不對稱交流活化作用下,由于鐵的陽極效率高于陰極效率,導(dǎo)致低碳鋼表面Fe2+的離解量略大于沉積量,同時使微觀雜質(zhì)在沉積的瞬間離開表面,即表面處于微融活化狀態(tài)。由于鐵素體的電位較滲碳體的負,因此,鐵素體將優(yōu)先溶解。同時Fe3C也會有少許溶解,因而在此微區(qū)內(nèi)碳的濃度顯著下降。當(dāng)降至α-Fe的平衡濃度時,就會通過晶格的重組形成α-Fe,表現(xiàn)為部分Fe3C片變得不連續(xù)。這就為鍍層原子延續(xù)基體的結(jié)構(gòu)創(chuàng)造了有利的條件。在適宜的起鍍電流作用下,將有大量的電子在瞬間被壓入陰極,F(xiàn)e2+迅速到達基體表面點陣附近,在原子的距離之內(nèi)放電沉積,與基體形成了結(jié)合牢固的金屬鍵,并且在很短的時間內(nèi)鍍層就覆蓋了整個基體[7]。由上述分析可知,通過正確選用鍍鐵工藝規(guī)范,使鍍鐵層與基體金屬有更多機會形成金屬鍵,可提高鍍鐵層與基體之間的結(jié)合強度。

      圖4為不同倍數(shù)下觀察到的鍍鐵層的斷面形貌(p H=1.0)。

      由圖4(a)可知:鍍鐵層分為形貌不同的兩層,靠近基體的那層為較細小的柱狀晶區(qū)(即所謂的軟鍍層),對基體和堅硬鍍鐵層的連接起到過渡作用,避免鍍鐵層和基體直接連接產(chǎn)生過大的應(yīng)力。隨著向外表面延伸,柱狀晶區(qū)消失,過渡到晶粒非常細小的細晶區(qū),兩者的分界線明顯。圖4(b)顯示的鍍鐵層顯微組織的重要特征是晶粒極為細小。由于金屬鍍層的形成過程實際上是外加電場作用下的結(jié)晶過程,鍍層組織形貌主要取決于電結(jié)晶過程中的生長方式。由于不對稱交流鍍時采用的電流密度低,外加電場的影響較弱,離子遷移速率也較小,形核驅(qū)動力不足以獨立成核,鍍層結(jié)晶時主要依附于基體表面晶粒,沿著電場的方向生長,發(fā)生所謂的“垂直長大”[8],從而形成柱狀晶粒組織。而在正常直流鍍時,隨著電流密度的增大,離子遷移速率和鍍鐵層的結(jié)晶驅(qū)動力均增大,這些因素都將使鍍鐵層晶粒變細。當(dāng)電流密度增大到一定程度時,晶粒由于晶核的迅速形成和長大而相互接觸,無法再保持原先的柱狀形態(tài),而是形成晶粒非常細小的細晶區(qū)[9]。

      2.3 鍍鐵層的微裂紋形貌

      圖5為不同倍數(shù)下觀察到的鍍鐵層內(nèi)的微裂紋形貌。在低溫鍍鐵層的斷面中,存在垂直于基體的線條狀微裂紋,這些微裂紋一般長約10μm。析氫和鍍層內(nèi)存在內(nèi)應(yīng)力導(dǎo)致微裂紋的產(chǎn)生。

      金屬內(nèi)部存在缺陷,提供了潛在的微裂紋源。在應(yīng)力作用下,這些微觀缺陷的前沿形成了三向應(yīng)力區(qū),誘使氫向該處擴散并聚集。這種現(xiàn)象可用氫的應(yīng)力擴散理論來解釋,如圖6所示。鍍層在內(nèi)應(yīng)力的作用下,在微裂紋敏感部位形成應(yīng)力集中的三向應(yīng)力區(qū),氫就極力向這個區(qū)域擴散,應(yīng)力也隨之提高。當(dāng)此部位氫的濃度達到臨界值時,就會發(fā)生開裂和相應(yīng)的擴展,氫又不斷向新的三向應(yīng)力區(qū)擴散,達到臨界濃度時又發(fā)生了新的微裂紋擴展。這種過程可周而復(fù)始地進行,直至成為宏觀裂紋。該過程的進展由氫的含量、逸出速率和內(nèi)部的能量狀態(tài)等而定。

      由上述分析可知,析氫是鍍層內(nèi)產(chǎn)生微裂紋的根本原因,而鍍層表面應(yīng)力又加速了微裂紋的產(chǎn)生和擴展,所以采取適當(dāng)措施控制析氫量可明顯改善鍍鐵層的質(zhì)量。

      控制析氫量就是控制p H值。圖7為不同p H值下所得鍍鐵層內(nèi)的微裂紋比較。當(dāng)p H值為0.5時,微裂紋細而密,基體、軟鍍層和鍍鐵層之間銜接緊密,結(jié)合較好。但當(dāng)p H值低于0.5時,鍍液中游離酸的含量過高,析氫量大,微裂紋過多。嚴重析氫還將導(dǎo)致鍍鐵層早期粗糙、鍍厚能力下降,在鍍鐵層與基體交界處能看到分層現(xiàn)象。當(dāng)p H值為1.0時,鍍鐵層本身非常致密,微裂紋明顯變得粗大,且分布稀疏,鍍鐵層與基體的界面處無任何孔洞及明顯的分界線,證明鍍鐵層與基體結(jié)合牢固。當(dāng)p H值為1.5時,微裂紋粗大,且分布更加稀疏,甚至有粗大微裂紋延伸至鍍層表面,但鍍鐵層與基體依然結(jié)合緊密。這是由于在陰極附近區(qū)域H+缺乏,導(dǎo)致生成Fe(OH)3并夾雜在鍍鐵層中,造成鍍鐵層脆性增大,微裂紋粗大且相對稀疏。若p H值繼續(xù)升高,將會造成鍍鐵層結(jié)合強度降低,嚴重時能在鍍鐵層與基體交界處看到分層現(xiàn)象。通過圖7(a)、7(c)、7(e)可以看出,當(dāng)p H值為1.0時,鍍鐵層的組織結(jié)構(gòu)較致密。

      3 結(jié)論

      (1)p H值較低時,析氫導(dǎo)致鍍鐵層內(nèi)產(chǎn)生微裂紋或腐蝕坑;p H值較高時,形成Fe(OH)3并夾雜在鍍鐵層中,造成鍍鐵層表面疏松、粗糙。離子濃度差使反應(yīng)不斷進行下去,氫以過飽和方式滲入鍍鐵層,導(dǎo)致微裂紋的萌生和擴展。

      (2)無刻蝕鍍鐵的不對稱交流活化,使基體表面處于微融活化狀態(tài),鍍鐵層與基體形成金屬鍵,使兩者間的結(jié)合強度增大;離子遷移速率增大和鍍鐵層結(jié)晶驅(qū)動力增大,使晶粒變細。

      (3)析氫是導(dǎo)致鍍鐵層表面產(chǎn)生微裂紋的根本原因,而鍍鐵層表面應(yīng)力又加速了微裂紋的產(chǎn)生和擴展。當(dāng)p H值為1.0時,微裂紋較少,鍍鐵層組織致密,與基體結(jié)合較好。

      [1] 孫凱,楊森,安寧.低溫鍍鐵技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用[J].電鍍與環(huán)保,2011,31(5):1-3.

      [2] 姚能富.鍍鐵的研究[J].西安公路學(xué)院學(xué)報,1994,14(4):125-127.

      [3] 楊森,劉吉,李艷麗,等.稀土鈰對低溫鍍鐵層性能的影響[J].材料保護,2013,46(3):25-26.

      [4] 張亞萍.低溫鍍鐵工藝在大型設(shè)備修復(fù)中的應(yīng)用[J].農(nóng)機使用與維修,2009(1):30-31.

      [5] HU X.Crankshaft restoration by iron plating[J].Metal Finishing,1997(7):98-100.

      [6] 楊森.低溫鍍鐵液中Al2O3含量對鍍層性能的影響[J].材料保護,2010,43(8):63-64.

      [7] 扈心坦,李希賀.無刻蝕鍍鐵層結(jié)合強度的研究[J].理化檢驗:物理分冊,1996,32(4):17-19.

      [8] 石德珂.材料學(xué)基礎(chǔ)[M].北京:機械工業(yè)出版社,2000.

      [9] 劉洪濤,顧卡麗,李健,等.低溫鍍鐵層的微觀結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能[J].材料保護,2004,37(6):7-8.

      Analysis on Micro-structure of Low-temperature Iron Plating Coatings

      YANG Sen, SUN Kai, DENG Han-zhong
      (Mining Industry and Technology Institute,Liaoning Engineering and Technology University,Huludao 125105,China)

      In order to optimize low-temperature iron plating technology and then carry out indepth theoretical study,the surface morphology,fracture surface morphology and micro-crack morphology of iron plating coatings were observed by scanning electron microscope.Results showed that hydrogen evolution lead to the appearance of micro-cracks or corrosion pits at lower p H value,while Fe(OH)3formation and mingled in iron plating coatings at higher p H value resulting in loose and rough surface morphology.Hydrogen evolution is the essential reason for appearance of micro-cracks in iron plating coatings.Moreover,surface stress accelerated the formation and propagation of micro-cracks.When p H value is 1.0,the obtained iron plating coatings featuring less micro-cracks and compact structure,and was combined closely with the substrate.

      low-temperature iron plating coating;surface morphology;fracture surface morphology;micro-crack morphology

      TQ 153 文獻標(biāo)志碼:A 文章編號:1000-4742(2015)06-0001-04

      2014-03-17

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