侯桂芹 張穎 賈志芳
【摘 要】電子俘獲光存儲(chǔ)技術(shù)作為當(dāng)今發(fā)展?jié)摿ψ畲蟮男畔⒋鎯?chǔ)技術(shù),已越來越引起人們的重視。本文介紹了幾類典型的電子俘獲光存儲(chǔ)材料,分析了各種材料的特點(diǎn)及其存在的問題,并對電子俘獲光存儲(chǔ)材料的研究進(jìn)行了展望。
【關(guān)鍵詞】電子俘獲材料;光存儲(chǔ);信息技術(shù)
隨著信息技術(shù)的飛速發(fā)展和信息設(shè)備的迅速更新,各種信息載體對自身的記憶功能和存儲(chǔ)功能提出了更高的要求。為適應(yīng)時(shí)代的發(fā)展,信息載體不僅要求其記憶材料具有信息儲(chǔ)存量大、高存儲(chǔ)密度的功能,而且還要其具有高數(shù)據(jù)傳輸率、高存儲(chǔ)壽命、高的擦寫次數(shù)及很高的重復(fù)操作性。就拿迅速發(fā)展的計(jì)算機(jī)技術(shù)來說,電子俘獲光存儲(chǔ)技術(shù)當(dāng)屬發(fā)展?jié)摿ψ畲蟮男畔⒋鎯?chǔ)技術(shù)。
1 幾類典型的電子俘獲光存儲(chǔ)材料
以BaFBr為代表,常用于X射線或紫外光影像存儲(chǔ)。讀出光波長在400~700 nm之間,讀出發(fā)光為380~400nm之間的藍(lán)紫色發(fā)光。該種材料為研究最早、具有最強(qiáng)實(shí)用化程度的電子俘獲材料之一,其光激勵(lì)發(fā)光機(jī)理的研究,奠定了電子俘獲光存儲(chǔ)機(jī)理研究的基礎(chǔ)。
目前BaFX:Eu2+(X=C1,Br)的光激勵(lì)發(fā)光機(jī)理的模型主要有以下幾類:其一,以日本Takahashi K為代表的導(dǎo)帶復(fù)合模型;其二,以德國von Seggern H為代表的隧穿模型;其三,近年新提出的導(dǎo)帶隧穿并行模型[1]。
1.2 AES型電子俘獲材料(AE= Ca,Sr )
例如SrS:Eu,Sm等。該類材料的寫入光波長在紫外或藍(lán)光區(qū),讀出光在近紅外區(qū)域,讀出發(fā)光波長范圍從綠光到紅光。除了用于光信息存儲(chǔ)外,該材料還廣泛應(yīng)用于光信息處理中。
對于SrS:Eu2+,Sm3+的電子俘獲機(jī)理,一般認(rèn)為: Eu2+是發(fā)光中心,Sm3+是電子陷阱,在寫入讀出時(shí)分別產(chǎn)生如下離化、復(fù)合或俘獲過程: Eu2+~Eu3+ +e, Sm3++e~Sm2+,但新的研究發(fā)現(xiàn)將Sm3+獨(dú)立地作為電子陷阱仍存在問題[2]。最新的發(fā)光機(jī)理研究表明,雜質(zhì)引起的缺陷而不是雜質(zhì)本身承擔(dān)電子俘獲中心或空穴俘獲中心,離子雜質(zhì)的價(jià)態(tài)在激發(fā)后的光存儲(chǔ)狀態(tài)下沒有發(fā)生改變。光激勵(lì)吸收帶以外的波長范圍的Sm3+吸收峰(6H5/2-6 F1/2,3/2)沒有發(fā)生變化,由此Sm3+離子在激發(fā)前后的價(jià)態(tài)和數(shù)量并沒有發(fā)生變化,即Sm3+在激發(fā)后沒有因?yàn)殡娮臃@或空穴俘獲轉(zhuǎn)變?yōu)镾m2+或Sm4+[3]。
研究表明,共摻雜時(shí),Eu2+離子的束縛空穴能力遠(yuǎn)大于Sm3+離子;Sm3+離子的作用就是與俘獲中心組成為復(fù)合體陷阱并影響陷阱能級的深度,使陷阱在室溫下能穩(wěn)定地存儲(chǔ)電子。一些過渡元素離子或稀土離子也有這個(gè)作用,如Mn、La。
典型的有KC1:Eu、Cs Br:Eu等。其寫入波長為X射線或紫外光,讀出光波長范圍從綠光到紅光,讀出發(fā)光波長范圍從藍(lán)光到綠光。該類型為新興的一類電子俘獲存儲(chǔ)材料,一般具有較深的陷阱,讀出衰減較慢。
在材料改進(jìn)方面,新研究的KCl:Eu,KBr:Eu,NaCl:Cu等的紫外(X射線)存儲(chǔ),具有相對較緩慢的讀出衰減,可更好地彌補(bǔ)BaFB:的較快衰減特性。這類材料雖然容易制備成單晶,但是摻雜后易潮解,部分材料還可能具有放射性,不利于民用。而且部分材料的有效原子系數(shù)小,不利于做高能射線存儲(chǔ),也限制了使用范圍。另外在此類材料中發(fā)現(xiàn)的光激勵(lì)發(fā)光衰減慢的原因尚未得到很好的解釋,深陷阱不易擦除(或存儲(chǔ)信息殘留)對反復(fù)使用也不利。
1.4 玻璃陶瓷電子俘獲材料
玻璃陶瓷材料為近年來最新投入研究的電子俘獲光存儲(chǔ)材料。已有報(bào)道用于電子俘獲的玻璃陶瓷材料有硼酸鹽玻璃陶瓷、氟鋁酸鹽玻璃陶瓷和氟鋯酸鹽玻璃陶瓷等。氟氧化物玻璃陶瓷的研究目前正在進(jìn)行中。玻璃陶瓷的結(jié)構(gòu)是以玻璃作為基質(zhì),鑲嵌有若干摻有稀土發(fā)光中心的微晶[4]。由于玻璃陶瓷材料均勻且各向同性,不存在雙折射及光散射現(xiàn)象,因此能得到更高的空間分辨率。眾所周知,玻璃陶瓷經(jīng)過高溫?zé)Y(jié),性質(zhì)穩(wěn)定,易于存放和加工,以此為基質(zhì),又可克服以往電子俘獲材料穩(wěn)定性不好的缺點(diǎn)。
最近研究的氟氧化物玻璃陶瓷在化學(xué)穩(wěn)定性、機(jī)械度、激光損傷敏值等指標(biāo)上都有明顯的優(yōu)越性,而且易制成各種形狀。它雖然在宏觀上獲得了光激勵(lì)發(fā)光,但是有關(guān)光激勵(lì)發(fā)光的來源,以及相關(guān)的電子、空穴俘獲中心的位置和存在方式,存儲(chǔ)能量的傳遞等仍然是有待研究解決的問題。
2 電子俘獲光存儲(chǔ)機(jī)理
電子俘獲是一種光激勵(lì)發(fā)光現(xiàn)象[5]。光激勵(lì)發(fā)光是指材料受到輻照時(shí),產(chǎn)生的自由電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻照能量存儲(chǔ)起來,當(dāng)受到光激勵(lì)時(shí)(波長比輻照光長),這些電子和空穴脫離陷阱而復(fù)合發(fā)光。因而這種材料被形象地稱為“電子浮獲材料”。電子俘獲光存儲(chǔ)寫入與讀出的簡單原理,如圖1所示。
當(dāng)用寫入光輻照時(shí),材料中產(chǎn)生大量的電子和空穴,這些電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻射能量存儲(chǔ)起來。當(dāng)受到光激勵(lì)時(shí)(即讀出光,能量小于寫入光),陷阱中的載流子(電子和空穴)脫離陷阱而與發(fā)光中心復(fù)合發(fā)光。圖1中,過程1表示晶體受電離輻射產(chǎn)生躍過禁帶的自由電子和空穴,過程2、4表示自由電子被俘獲并暫時(shí)存儲(chǔ)在陷阱中,過程3、5存儲(chǔ)在陷阱中的電子和空穴在受可見光或紅外光激勵(lì)時(shí)躍遷出陷阱,又處于自由狀態(tài),過程6、7、8表示這些自由電子和空穴可以在材料中的某些發(fā)光中心離子的局域能級上發(fā)生復(fù)合,而把它們所帶的能量以一定波長的能量(hv)釋放出來從而完成整個(gè)讀出及寫入過程。電子俘獲光存儲(chǔ)的寫入(激發(fā)),讀出(激勵(lì))的波長范圍,受基質(zhì)的晶格影響,也受雜質(zhì)原子,晶格缺陷,以及一些破壞晶格周期性的界面等的影響。破壞了晶格的周期性,就可能在禁帶中形成一些定域能級,定域能級的不同,直接影響了激發(fā)、激勵(lì)以及激勵(lì)發(fā)光的不同。電子俘獲材料正是選擇了不同基質(zhì)以及摻雜,得到了不同波段的存取,電子俘獲材料的讀寫波長由材料中的發(fā)光中心決定。
3 存在問題
由以上分析可見,現(xiàn)有的電子俘獲光存儲(chǔ)材料還存在了很多的問題,而解決這些問題的一個(gè)最有效的途徑就是開發(fā)新的材料。硅酸鋅即為一種良好的基質(zhì)材料,它具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性、允許高摻量摻雜光活性離子等特點(diǎn),Zn2SiO4:Mn2+還有良好的發(fā)光性能,且由于其制備簡單,成本低廉已經(jīng)在熒光材料中得到了應(yīng)用。但這種材料在電子俘獲光存儲(chǔ)方面的研究和應(yīng)用卻鮮有報(bào)道。硅酸鋅的研究已越來越引起人們的重視,必將推動(dòng)光存儲(chǔ)材料的進(jìn)一步研究與開發(fā)。
【參考文獻(xiàn)】
[1]趙輝,王永生,徐征,等.光激勵(lì)發(fā)光的并行模型[J].物理學(xué)報(bào),1998 (2):334-338.
[2]何志毅,王永生,孫力等.SrS:Eu與SrS:Eu,Sm中電子陷阱與光存儲(chǔ)研究[J].物理學(xué)報(bào),2000(7):1377-1380.
[3]He Z Y,Wang Y S,Sun L,et,al. The role of Sm ions in optical storage of SrS:Eu,Sm[J].Science in china 2001,44(9):1189-1196.
[4]秦冠仕,秦偉平,陳寶玖等.Tm3+和Er3+共摻雜的氟氧化物玻璃陶瓷材料結(jié)構(gòu)和上轉(zhuǎn)換發(fā)光性質(zhì)的研究[J].發(fā)光學(xué)報(bào),2001,22(4):398-400.
[5]孫力,王永生.電子俘獲光存儲(chǔ)材料的研究進(jìn)展[J].激光與紅外,2001,31(5):261-265.
[責(zé)任編輯:曹明明]
【摘 要】電子俘獲光存儲(chǔ)技術(shù)作為當(dāng)今發(fā)展?jié)摿ψ畲蟮男畔⒋鎯?chǔ)技術(shù),已越來越引起人們的重視。本文介紹了幾類典型的電子俘獲光存儲(chǔ)材料,分析了各種材料的特點(diǎn)及其存在的問題,并對電子俘獲光存儲(chǔ)材料的研究進(jìn)行了展望。
【關(guān)鍵詞】電子俘獲材料;光存儲(chǔ);信息技術(shù)
隨著信息技術(shù)的飛速發(fā)展和信息設(shè)備的迅速更新,各種信息載體對自身的記憶功能和存儲(chǔ)功能提出了更高的要求。為適應(yīng)時(shí)代的發(fā)展,信息載體不僅要求其記憶材料具有信息儲(chǔ)存量大、高存儲(chǔ)密度的功能,而且還要其具有高數(shù)據(jù)傳輸率、高存儲(chǔ)壽命、高的擦寫次數(shù)及很高的重復(fù)操作性。就拿迅速發(fā)展的計(jì)算機(jī)技術(shù)來說,電子俘獲光存儲(chǔ)技術(shù)當(dāng)屬發(fā)展?jié)摿ψ畲蟮男畔⒋鎯?chǔ)技術(shù)。
1 幾類典型的電子俘獲光存儲(chǔ)材料
以BaFBr為代表,常用于X射線或紫外光影像存儲(chǔ)。讀出光波長在400~700 nm之間,讀出發(fā)光為380~400nm之間的藍(lán)紫色發(fā)光。該種材料為研究最早、具有最強(qiáng)實(shí)用化程度的電子俘獲材料之一,其光激勵(lì)發(fā)光機(jī)理的研究,奠定了電子俘獲光存儲(chǔ)機(jī)理研究的基礎(chǔ)。
目前BaFX:Eu2+(X=C1,Br)的光激勵(lì)發(fā)光機(jī)理的模型主要有以下幾類:其一,以日本Takahashi K為代表的導(dǎo)帶復(fù)合模型;其二,以德國von Seggern H為代表的隧穿模型;其三,近年新提出的導(dǎo)帶隧穿并行模型[1]。
1.2 AES型電子俘獲材料(AE= Ca,Sr )
例如SrS:Eu,Sm等。該類材料的寫入光波長在紫外或藍(lán)光區(qū),讀出光在近紅外區(qū)域,讀出發(fā)光波長范圍從綠光到紅光。除了用于光信息存儲(chǔ)外,該材料還廣泛應(yīng)用于光信息處理中。
對于SrS:Eu2+,Sm3+的電子俘獲機(jī)理,一般認(rèn)為: Eu2+是發(fā)光中心,Sm3+是電子陷阱,在寫入讀出時(shí)分別產(chǎn)生如下離化、復(fù)合或俘獲過程: Eu2+~Eu3+ +e, Sm3++e~Sm2+,但新的研究發(fā)現(xiàn)將Sm3+獨(dú)立地作為電子陷阱仍存在問題[2]。最新的發(fā)光機(jī)理研究表明,雜質(zhì)引起的缺陷而不是雜質(zhì)本身承擔(dān)電子俘獲中心或空穴俘獲中心,離子雜質(zhì)的價(jià)態(tài)在激發(fā)后的光存儲(chǔ)狀態(tài)下沒有發(fā)生改變。光激勵(lì)吸收帶以外的波長范圍的Sm3+吸收峰(6H5/2-6 F1/2,3/2)沒有發(fā)生變化,由此Sm3+離子在激發(fā)前后的價(jià)態(tài)和數(shù)量并沒有發(fā)生變化,即Sm3+在激發(fā)后沒有因?yàn)殡娮臃@或空穴俘獲轉(zhuǎn)變?yōu)镾m2+或Sm4+[3]。
研究表明,共摻雜時(shí),Eu2+離子的束縛空穴能力遠(yuǎn)大于Sm3+離子;Sm3+離子的作用就是與俘獲中心組成為復(fù)合體陷阱并影響陷阱能級的深度,使陷阱在室溫下能穩(wěn)定地存儲(chǔ)電子。一些過渡元素離子或稀土離子也有這個(gè)作用,如Mn、La。
典型的有KC1:Eu、Cs Br:Eu等。其寫入波長為X射線或紫外光,讀出光波長范圍從綠光到紅光,讀出發(fā)光波長范圍從藍(lán)光到綠光。該類型為新興的一類電子俘獲存儲(chǔ)材料,一般具有較深的陷阱,讀出衰減較慢。
在材料改進(jìn)方面,新研究的KCl:Eu,KBr:Eu,NaCl:Cu等的紫外(X射線)存儲(chǔ),具有相對較緩慢的讀出衰減,可更好地彌補(bǔ)BaFB:的較快衰減特性。這類材料雖然容易制備成單晶,但是摻雜后易潮解,部分材料還可能具有放射性,不利于民用。而且部分材料的有效原子系數(shù)小,不利于做高能射線存儲(chǔ),也限制了使用范圍。另外在此類材料中發(fā)現(xiàn)的光激勵(lì)發(fā)光衰減慢的原因尚未得到很好的解釋,深陷阱不易擦除(或存儲(chǔ)信息殘留)對反復(fù)使用也不利。
1.4 玻璃陶瓷電子俘獲材料
玻璃陶瓷材料為近年來最新投入研究的電子俘獲光存儲(chǔ)材料。已有報(bào)道用于電子俘獲的玻璃陶瓷材料有硼酸鹽玻璃陶瓷、氟鋁酸鹽玻璃陶瓷和氟鋯酸鹽玻璃陶瓷等。氟氧化物玻璃陶瓷的研究目前正在進(jìn)行中。玻璃陶瓷的結(jié)構(gòu)是以玻璃作為基質(zhì),鑲嵌有若干摻有稀土發(fā)光中心的微晶[4]。由于玻璃陶瓷材料均勻且各向同性,不存在雙折射及光散射現(xiàn)象,因此能得到更高的空間分辨率。眾所周知,玻璃陶瓷經(jīng)過高溫?zé)Y(jié),性質(zhì)穩(wěn)定,易于存放和加工,以此為基質(zhì),又可克服以往電子俘獲材料穩(wěn)定性不好的缺點(diǎn)。
最近研究的氟氧化物玻璃陶瓷在化學(xué)穩(wěn)定性、機(jī)械度、激光損傷敏值等指標(biāo)上都有明顯的優(yōu)越性,而且易制成各種形狀。它雖然在宏觀上獲得了光激勵(lì)發(fā)光,但是有關(guān)光激勵(lì)發(fā)光的來源,以及相關(guān)的電子、空穴俘獲中心的位置和存在方式,存儲(chǔ)能量的傳遞等仍然是有待研究解決的問題。
2 電子俘獲光存儲(chǔ)機(jī)理
電子俘獲是一種光激勵(lì)發(fā)光現(xiàn)象[5]。光激勵(lì)發(fā)光是指材料受到輻照時(shí),產(chǎn)生的自由電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻照能量存儲(chǔ)起來,當(dāng)受到光激勵(lì)時(shí)(波長比輻照光長),這些電子和空穴脫離陷阱而復(fù)合發(fā)光。因而這種材料被形象地稱為“電子浮獲材料”。電子俘獲光存儲(chǔ)寫入與讀出的簡單原理,如圖1所示。
當(dāng)用寫入光輻照時(shí),材料中產(chǎn)生大量的電子和空穴,這些電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻射能量存儲(chǔ)起來。當(dāng)受到光激勵(lì)時(shí)(即讀出光,能量小于寫入光),陷阱中的載流子(電子和空穴)脫離陷阱而與發(fā)光中心復(fù)合發(fā)光。圖1中,過程1表示晶體受電離輻射產(chǎn)生躍過禁帶的自由電子和空穴,過程2、4表示自由電子被俘獲并暫時(shí)存儲(chǔ)在陷阱中,過程3、5存儲(chǔ)在陷阱中的電子和空穴在受可見光或紅外光激勵(lì)時(shí)躍遷出陷阱,又處于自由狀態(tài),過程6、7、8表示這些自由電子和空穴可以在材料中的某些發(fā)光中心離子的局域能級上發(fā)生復(fù)合,而把它們所帶的能量以一定波長的能量(hv)釋放出來從而完成整個(gè)讀出及寫入過程。電子俘獲光存儲(chǔ)的寫入(激發(fā)),讀出(激勵(lì))的波長范圍,受基質(zhì)的晶格影響,也受雜質(zhì)原子,晶格缺陷,以及一些破壞晶格周期性的界面等的影響。破壞了晶格的周期性,就可能在禁帶中形成一些定域能級,定域能級的不同,直接影響了激發(fā)、激勵(lì)以及激勵(lì)發(fā)光的不同。電子俘獲材料正是選擇了不同基質(zhì)以及摻雜,得到了不同波段的存取,電子俘獲材料的讀寫波長由材料中的發(fā)光中心決定。
3 存在問題
由以上分析可見,現(xiàn)有的電子俘獲光存儲(chǔ)材料還存在了很多的問題,而解決這些問題的一個(gè)最有效的途徑就是開發(fā)新的材料。硅酸鋅即為一種良好的基質(zhì)材料,它具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性、允許高摻量摻雜光活性離子等特點(diǎn),Zn2SiO4:Mn2+還有良好的發(fā)光性能,且由于其制備簡單,成本低廉已經(jīng)在熒光材料中得到了應(yīng)用。但這種材料在電子俘獲光存儲(chǔ)方面的研究和應(yīng)用卻鮮有報(bào)道。硅酸鋅的研究已越來越引起人們的重視,必將推動(dòng)光存儲(chǔ)材料的進(jìn)一步研究與開發(fā)。
【參考文獻(xiàn)】
[1]趙輝,王永生,徐征,等.光激勵(lì)發(fā)光的并行模型[J].物理學(xué)報(bào),1998 (2):334-338.
[2]何志毅,王永生,孫力等.SrS:Eu與SrS:Eu,Sm中電子陷阱與光存儲(chǔ)研究[J].物理學(xué)報(bào),2000(7):1377-1380.
[3]He Z Y,Wang Y S,Sun L,et,al. The role of Sm ions in optical storage of SrS:Eu,Sm[J].Science in china 2001,44(9):1189-1196.
[4]秦冠仕,秦偉平,陳寶玖等.Tm3+和Er3+共摻雜的氟氧化物玻璃陶瓷材料結(jié)構(gòu)和上轉(zhuǎn)換發(fā)光性質(zhì)的研究[J].發(fā)光學(xué)報(bào),2001,22(4):398-400.
[5]孫力,王永生.電子俘獲光存儲(chǔ)材料的研究進(jìn)展[J].激光與紅外,2001,31(5):261-265.
[責(zé)任編輯:曹明明]
【摘 要】電子俘獲光存儲(chǔ)技術(shù)作為當(dāng)今發(fā)展?jié)摿ψ畲蟮男畔⒋鎯?chǔ)技術(shù),已越來越引起人們的重視。本文介紹了幾類典型的電子俘獲光存儲(chǔ)材料,分析了各種材料的特點(diǎn)及其存在的問題,并對電子俘獲光存儲(chǔ)材料的研究進(jìn)行了展望。
【關(guān)鍵詞】電子俘獲材料;光存儲(chǔ);信息技術(shù)
隨著信息技術(shù)的飛速發(fā)展和信息設(shè)備的迅速更新,各種信息載體對自身的記憶功能和存儲(chǔ)功能提出了更高的要求。為適應(yīng)時(shí)代的發(fā)展,信息載體不僅要求其記憶材料具有信息儲(chǔ)存量大、高存儲(chǔ)密度的功能,而且還要其具有高數(shù)據(jù)傳輸率、高存儲(chǔ)壽命、高的擦寫次數(shù)及很高的重復(fù)操作性。就拿迅速發(fā)展的計(jì)算機(jī)技術(shù)來說,電子俘獲光存儲(chǔ)技術(shù)當(dāng)屬發(fā)展?jié)摿ψ畲蟮男畔⒋鎯?chǔ)技術(shù)。
1 幾類典型的電子俘獲光存儲(chǔ)材料
以BaFBr為代表,常用于X射線或紫外光影像存儲(chǔ)。讀出光波長在400~700 nm之間,讀出發(fā)光為380~400nm之間的藍(lán)紫色發(fā)光。該種材料為研究最早、具有最強(qiáng)實(shí)用化程度的電子俘獲材料之一,其光激勵(lì)發(fā)光機(jī)理的研究,奠定了電子俘獲光存儲(chǔ)機(jī)理研究的基礎(chǔ)。
目前BaFX:Eu2+(X=C1,Br)的光激勵(lì)發(fā)光機(jī)理的模型主要有以下幾類:其一,以日本Takahashi K為代表的導(dǎo)帶復(fù)合模型;其二,以德國von Seggern H為代表的隧穿模型;其三,近年新提出的導(dǎo)帶隧穿并行模型[1]。
1.2 AES型電子俘獲材料(AE= Ca,Sr )
例如SrS:Eu,Sm等。該類材料的寫入光波長在紫外或藍(lán)光區(qū),讀出光在近紅外區(qū)域,讀出發(fā)光波長范圍從綠光到紅光。除了用于光信息存儲(chǔ)外,該材料還廣泛應(yīng)用于光信息處理中。
對于SrS:Eu2+,Sm3+的電子俘獲機(jī)理,一般認(rèn)為: Eu2+是發(fā)光中心,Sm3+是電子陷阱,在寫入讀出時(shí)分別產(chǎn)生如下離化、復(fù)合或俘獲過程: Eu2+~Eu3+ +e, Sm3++e~Sm2+,但新的研究發(fā)現(xiàn)將Sm3+獨(dú)立地作為電子陷阱仍存在問題[2]。最新的發(fā)光機(jī)理研究表明,雜質(zhì)引起的缺陷而不是雜質(zhì)本身承擔(dān)電子俘獲中心或空穴俘獲中心,離子雜質(zhì)的價(jià)態(tài)在激發(fā)后的光存儲(chǔ)狀態(tài)下沒有發(fā)生改變。光激勵(lì)吸收帶以外的波長范圍的Sm3+吸收峰(6H5/2-6 F1/2,3/2)沒有發(fā)生變化,由此Sm3+離子在激發(fā)前后的價(jià)態(tài)和數(shù)量并沒有發(fā)生變化,即Sm3+在激發(fā)后沒有因?yàn)殡娮臃@或空穴俘獲轉(zhuǎn)變?yōu)镾m2+或Sm4+[3]。
研究表明,共摻雜時(shí),Eu2+離子的束縛空穴能力遠(yuǎn)大于Sm3+離子;Sm3+離子的作用就是與俘獲中心組成為復(fù)合體陷阱并影響陷阱能級的深度,使陷阱在室溫下能穩(wěn)定地存儲(chǔ)電子。一些過渡元素離子或稀土離子也有這個(gè)作用,如Mn、La。
典型的有KC1:Eu、Cs Br:Eu等。其寫入波長為X射線或紫外光,讀出光波長范圍從綠光到紅光,讀出發(fā)光波長范圍從藍(lán)光到綠光。該類型為新興的一類電子俘獲存儲(chǔ)材料,一般具有較深的陷阱,讀出衰減較慢。
在材料改進(jìn)方面,新研究的KCl:Eu,KBr:Eu,NaCl:Cu等的紫外(X射線)存儲(chǔ),具有相對較緩慢的讀出衰減,可更好地彌補(bǔ)BaFB:的較快衰減特性。這類材料雖然容易制備成單晶,但是摻雜后易潮解,部分材料還可能具有放射性,不利于民用。而且部分材料的有效原子系數(shù)小,不利于做高能射線存儲(chǔ),也限制了使用范圍。另外在此類材料中發(fā)現(xiàn)的光激勵(lì)發(fā)光衰減慢的原因尚未得到很好的解釋,深陷阱不易擦除(或存儲(chǔ)信息殘留)對反復(fù)使用也不利。
1.4 玻璃陶瓷電子俘獲材料
玻璃陶瓷材料為近年來最新投入研究的電子俘獲光存儲(chǔ)材料。已有報(bào)道用于電子俘獲的玻璃陶瓷材料有硼酸鹽玻璃陶瓷、氟鋁酸鹽玻璃陶瓷和氟鋯酸鹽玻璃陶瓷等。氟氧化物玻璃陶瓷的研究目前正在進(jìn)行中。玻璃陶瓷的結(jié)構(gòu)是以玻璃作為基質(zhì),鑲嵌有若干摻有稀土發(fā)光中心的微晶[4]。由于玻璃陶瓷材料均勻且各向同性,不存在雙折射及光散射現(xiàn)象,因此能得到更高的空間分辨率。眾所周知,玻璃陶瓷經(jīng)過高溫?zé)Y(jié),性質(zhì)穩(wěn)定,易于存放和加工,以此為基質(zhì),又可克服以往電子俘獲材料穩(wěn)定性不好的缺點(diǎn)。
最近研究的氟氧化物玻璃陶瓷在化學(xué)穩(wěn)定性、機(jī)械度、激光損傷敏值等指標(biāo)上都有明顯的優(yōu)越性,而且易制成各種形狀。它雖然在宏觀上獲得了光激勵(lì)發(fā)光,但是有關(guān)光激勵(lì)發(fā)光的來源,以及相關(guān)的電子、空穴俘獲中心的位置和存在方式,存儲(chǔ)能量的傳遞等仍然是有待研究解決的問題。
2 電子俘獲光存儲(chǔ)機(jī)理
電子俘獲是一種光激勵(lì)發(fā)光現(xiàn)象[5]。光激勵(lì)發(fā)光是指材料受到輻照時(shí),產(chǎn)生的自由電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻照能量存儲(chǔ)起來,當(dāng)受到光激勵(lì)時(shí)(波長比輻照光長),這些電子和空穴脫離陷阱而復(fù)合發(fā)光。因而這種材料被形象地稱為“電子浮獲材料”。電子俘獲光存儲(chǔ)寫入與讀出的簡單原理,如圖1所示。
當(dāng)用寫入光輻照時(shí),材料中產(chǎn)生大量的電子和空穴,這些電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻射能量存儲(chǔ)起來。當(dāng)受到光激勵(lì)時(shí)(即讀出光,能量小于寫入光),陷阱中的載流子(電子和空穴)脫離陷阱而與發(fā)光中心復(fù)合發(fā)光。圖1中,過程1表示晶體受電離輻射產(chǎn)生躍過禁帶的自由電子和空穴,過程2、4表示自由電子被俘獲并暫時(shí)存儲(chǔ)在陷阱中,過程3、5存儲(chǔ)在陷阱中的電子和空穴在受可見光或紅外光激勵(lì)時(shí)躍遷出陷阱,又處于自由狀態(tài),過程6、7、8表示這些自由電子和空穴可以在材料中的某些發(fā)光中心離子的局域能級上發(fā)生復(fù)合,而把它們所帶的能量以一定波長的能量(hv)釋放出來從而完成整個(gè)讀出及寫入過程。電子俘獲光存儲(chǔ)的寫入(激發(fā)),讀出(激勵(lì))的波長范圍,受基質(zhì)的晶格影響,也受雜質(zhì)原子,晶格缺陷,以及一些破壞晶格周期性的界面等的影響。破壞了晶格的周期性,就可能在禁帶中形成一些定域能級,定域能級的不同,直接影響了激發(fā)、激勵(lì)以及激勵(lì)發(fā)光的不同。電子俘獲材料正是選擇了不同基質(zhì)以及摻雜,得到了不同波段的存取,電子俘獲材料的讀寫波長由材料中的發(fā)光中心決定。
3 存在問題
由以上分析可見,現(xiàn)有的電子俘獲光存儲(chǔ)材料還存在了很多的問題,而解決這些問題的一個(gè)最有效的途徑就是開發(fā)新的材料。硅酸鋅即為一種良好的基質(zhì)材料,它具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性、允許高摻量摻雜光活性離子等特點(diǎn),Zn2SiO4:Mn2+還有良好的發(fā)光性能,且由于其制備簡單,成本低廉已經(jīng)在熒光材料中得到了應(yīng)用。但這種材料在電子俘獲光存儲(chǔ)方面的研究和應(yīng)用卻鮮有報(bào)道。硅酸鋅的研究已越來越引起人們的重視,必將推動(dòng)光存儲(chǔ)材料的進(jìn)一步研究與開發(fā)。
【參考文獻(xiàn)】
[1]趙輝,王永生,徐征,等.光激勵(lì)發(fā)光的并行模型[J].物理學(xué)報(bào),1998 (2):334-338.
[2]何志毅,王永生,孫力等.SrS:Eu與SrS:Eu,Sm中電子陷阱與光存儲(chǔ)研究[J].物理學(xué)報(bào),2000(7):1377-1380.
[3]He Z Y,Wang Y S,Sun L,et,al. The role of Sm ions in optical storage of SrS:Eu,Sm[J].Science in china 2001,44(9):1189-1196.
[4]秦冠仕,秦偉平,陳寶玖等.Tm3+和Er3+共摻雜的氟氧化物玻璃陶瓷材料結(jié)構(gòu)和上轉(zhuǎn)換發(fā)光性質(zhì)的研究[J].發(fā)光學(xué)報(bào),2001,22(4):398-400.
[5]孫力,王永生.電子俘獲光存儲(chǔ)材料的研究進(jìn)展[J].激光與紅外,2001,31(5):261-265.
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