高昌杰 李曉華
(西安電子工程研究所 西安 710100)
高場(chǎng)帶線環(huán)行器具有體積小、易于集成等優(yōu)點(diǎn),尤其在低頻段,這一優(yōu)勢(shì)更加明顯。在獲得廣泛應(yīng)用的同時(shí),高場(chǎng)帶線環(huán)行器性能的溫度穩(wěn)定性已成為用戶的關(guān)注熱點(diǎn),特別對(duì)有源陣列天線和有源相控陣?yán)走_(dá),所用環(huán)行器的溫度穩(wěn)定性與系統(tǒng)噪聲密切相關(guān)[1-2]。飽和磁化強(qiáng)度參數(shù)存在較大溫漂是鐵氧體材料的固有特性,也是環(huán)行器性能隨溫度產(chǎn)生漂移的重要原因。對(duì)高場(chǎng)環(huán)行器而言,為了提高溫度穩(wěn)定性,可通過減小鐵氧體內(nèi)場(chǎng)Hif,對(duì)溫度升高導(dǎo)致的飽和磁化強(qiáng)度降低進(jìn)行補(bǔ)償[5]。對(duì)普通磁路,飽和磁化強(qiáng)度降低會(huì)使Hif增加,根本不會(huì)產(chǎn)生補(bǔ)償效果。多年來,國(guó)內(nèi)外研究工作者提出了在磁路中增加NiFe 合金片進(jìn)行溫度補(bǔ)償?shù)挠行Т胧?-5],其主要機(jī)理是:利用NiFe 合金材料磁導(dǎo)率隨溫度升高而降低的特點(diǎn),使磁路中的Hif隨溫度升高而變小。相關(guān)文獻(xiàn)對(duì)含有NiFe 合金片的磁路設(shè)計(jì)僅限于定性分析和試驗(yàn),缺乏較準(zhǔn)確的磁路計(jì)算方法。為此,本文將磁路解析計(jì)算與Ansoft HFSS 電磁場(chǎng)仿真相結(jié)合,形成了一種溫度補(bǔ)償磁路的較準(zhǔn)確計(jì)算分析方法,取得了良好的工程應(yīng)用效果。
相對(duì)于其它性能參數(shù),環(huán)行器的插入相移對(duì)溫度變化最為敏感。下文僅以某S 波段高場(chǎng)帶線環(huán)行器插入相移的溫度穩(wěn)定性為例,對(duì)相應(yīng)方法進(jìn)行介紹。
整個(gè)環(huán)行器等效磁路框圖如圖1所示。假定磁路各處橫截面面積相等,根據(jù)高斯定理和安培定律,可寫出如下等式:
其中,Bf為鐵氧體磁感應(yīng)強(qiáng)度(Gs);μj為殼體(軛鐵)相對(duì)磁導(dǎo)率;lj為軛鐵磁路長(zhǎng)度;4πMsf為鐵氧體飽和磁化強(qiáng)度(Gs);lf為單片鐵氧體厚度;la0為內(nèi)導(dǎo)體厚度(內(nèi)導(dǎo)體材料相對(duì)磁導(dǎo)率取為1);la1為等效空氣縫隙厚度;4πMsn為NiFe 合金片飽和磁化強(qiáng)度(Gs);ln為NiFe 合金片總厚度;lm為單片磁鐵厚度;:單片磁鐵磁場(chǎng)強(qiáng)度(Oe)(由磁鐵退磁曲線確定)。
圖1 環(huán)行器等效磁路框圖
通過進(jìn)一步推導(dǎo),可得到Bf 的計(jì)算式如下:
于是,可按下式計(jì)算出鐵氧體內(nèi)的磁場(chǎng)強(qiáng)度Hif:
下面,對(duì)照試驗(yàn)參數(shù),對(duì)上述公式的計(jì)算結(jié)果進(jìn)行評(píng)估。具體試驗(yàn)(未加NiFe 合金片)參數(shù)如下:μj=3000,lj=4mm,4πMsf=1800Gs,lf=0.8mm,la0=0.15mm,la1=0.17mm,ln=0,lm=0.45mm,Hif=1290Oe(通過性能測(cè)試和仿真比對(duì)得到)。將上述相關(guān)參數(shù)代入(2)、(3)式,可求得:Hif=2273Oe,該結(jié)果與試驗(yàn)值有顯著差別,主要原因可能是磁路計(jì)算中未考慮通量損失和磁鐵表面場(chǎng)的不均勻等因素,考慮實(shí)際磁路,應(yīng)使磁鐵的磁感應(yīng)強(qiáng)度工作點(diǎn)高于Bf,為此,可在(1)、(2)式中“l(fā)m/1.06”項(xiàng)前乘以大于1 的修正因子ηm,得到Bf 的修正計(jì)算公式如下:
通過與實(shí)際試驗(yàn)參數(shù)比對(duì),適用于本文列舉磁路的ηm=2.038。
根據(jù)試驗(yàn)測(cè)試和仿真比對(duì),可知鐵氧體材料的飽和磁化強(qiáng)度參數(shù)在不同環(huán)境溫度下的變化情況如下:常溫為1800Gs,低溫(-40℃)為1980Gs,高溫(70℃)為1680Gs。由(4)、(3)式,可求得不同環(huán)境溫度下Hif 的變化情況(未補(bǔ)償)如下:常溫為1290 Oe,低溫(-40℃)為1189 Oe,高溫(70℃)為1357 Oe。由此可知,在不做補(bǔ)償?shù)那闆r下,隨著溫度升高,Hif會(huì)明顯增加。
由Ansoft HFSS 軟件仿真可知,影響環(huán)行器插入相移穩(wěn)定性的主要參數(shù)是鐵氧體的4πMsf和Hif。為了便于分析設(shè)計(jì),現(xiàn)通過仿真,可得到不同環(huán)境溫度下的4πMsf和不同Hif與插入相移的對(duì)應(yīng)關(guān)系,相應(yīng)數(shù)據(jù)表格見表1。從中可以看出,在不做補(bǔ)償情況下,由4πMsf和Hif變化引起的插入相移變化規(guī)律如下:低溫——相對(duì)常溫,插入相移變化量約為-49o(高頻);高溫(相對(duì)常溫),插入相移變化量約為22o(高頻)。此計(jì)算結(jié)果與試驗(yàn)測(cè)試有著很好的一致性。
從表1 還可以看出,環(huán)行器插入相移隨內(nèi)場(chǎng)Hif的變化規(guī)律與高低溫條件下的飽和磁化強(qiáng)度參數(shù)基本沒有關(guān)系;對(duì)較大Hif,Hif每增加10Oe,三個(gè)頻率點(diǎn)對(duì)應(yīng)的插入相移增加量分別為1°、1.4°、2°;對(duì)較小Hif,Hif 每增加10Oe,三個(gè)頻率點(diǎn)對(duì)應(yīng)的插入相移增加量分別為2.4°、3°、5.7°。即:對(duì)較小Hif,相移增量臺(tái)階較大(尤其是高頻點(diǎn))。由此可知,適當(dāng)提高Hif工作點(diǎn),有助于改善高低溫條件下插入相移變化量隨頻率變化的離散性。
試驗(yàn)測(cè)試結(jié)果表明,lj38 型NiFe 合金片在高、低溫條件下磁導(dǎo)率參數(shù)變化較大,具有較大范圍的補(bǔ)償調(diào)節(jié)能力。在此,主要針對(duì)lj38NiFe 合金材料研究溫度補(bǔ)償磁路的設(shè)計(jì)問題。具體研究工作分兩步進(jìn)行,首先,根據(jù)初步試驗(yàn)數(shù)據(jù),反推lj38NiFe 合金材料在高、低溫條件下的磁參數(shù);其次,根據(jù)得到的磁參數(shù),結(jié)合HFSS 仿真結(jié)果,計(jì)算補(bǔ)償磁路中NiFe 合金片的厚度及相應(yīng)補(bǔ)償效果。
1.3.1 NiFe 合金片磁參數(shù)反推計(jì)算
按如下參數(shù)進(jìn)行溫度補(bǔ)償試驗(yàn):μj=3000,lj=4mm,lf=0.8mm,la0=0.15mm,la1=0.07mm,ln=0.6mm,lm=0.525mm。測(cè)試得到的高、低溫條件下插入相移變化量如下:常溫~高溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)分別為-2°、-4°、-9°;常溫~低溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)分別為-3.7°、-2.2°、0°。
常溫下4πMsf=1800Gs,4πMsn=1500Gs,代入(4)、(2)式,可算得Hif=1260Oe。
由表1 可知,當(dāng)高溫下Hif=1225Oe、低溫下Hif=1280Oe 時(shí),常溫~高溫、常溫~低溫情況下三個(gè)頻率點(diǎn)的插入相移變化量分別為-2°、-4.5°、-9°和-3°、-2°、0°,與試驗(yàn)結(jié)果一致。將上述高、低溫下的Hif值代入(4)、(3)式,可反推得到高、低溫條件下的4πMsn值分別為675Gs 和2500Gs。
1.3.2 各因素對(duì)插入相移溫度穩(wěn)定性的影響關(guān)系分析
利用上述(4)、(2)式及高低溫條件下的相關(guān)材料參數(shù),結(jié)合HFSS 仿真軟件,可得到各相關(guān)因素對(duì)環(huán)行器插入相移溫度穩(wěn)定性的影響關(guān)系:
a.磁鐵厚度lm的影響
Hif隨磁鐵厚度lm增加的遞增規(guī)律與ln無(wú)關(guān),僅與工作溫度有關(guān);lm每增加0.01mm,Hif增加量變化范圍分別為:16.2 ~12.4 Oe(低溫)、18.1 ~13.9 Oe(常溫)、19.5 ~15Oe(高溫)。磁鐵愈厚,遞增臺(tái)階愈小。以常溫態(tài)為參考,高溫下Hif隨lm增加而增加,低溫下Hif隨lm增加而減小。也就是說,減小磁鐵厚度,有利于改善插入相移溫度穩(wěn)定性。
b.等效空氣縫隙la1的影響
分析計(jì)算結(jié)果表明,la1對(duì)環(huán)行器插入相移溫度穩(wěn)定性影響很小,可以忽略。
c.NiFe 合金片厚度ln的影響
以常溫為參考,ln每增加0.05mm,低溫條件下Hif相對(duì)增加量約為10 Oe,高溫條件下Hif相對(duì)減小量約為8 Oe。也就是說,ln增大使得低溫條件下相對(duì)相移增大(向“+”變化),高溫則減小(向“-”變化)。
1.3.3 NiFe 合金片厚度及補(bǔ)償效果計(jì)算
由1.3.1 可以看出,采用0.6mm 厚的NiFe 合金片對(duì)低溫的補(bǔ)償量接近最佳,而對(duì)高溫的補(bǔ)償量偏大。兼顧高、低溫溫漂,通過初步優(yōu)化,在NiFe 合金片厚度ln=0.55mm 時(shí),可得到接近最佳的插入相移理論補(bǔ)償效果:常溫~高溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)變化量分別為0°、-1.4°、-5°;常溫~低溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)變化量分別為-4°、-3.4°、-3.4°。相應(yīng)實(shí)際測(cè)量結(jié)果為:常溫~高溫為-1°、-3°、-6.5°;常溫~低溫為-6°、-5°、-3.5°??梢钥闯?,理論計(jì)算結(jié)果與實(shí)際測(cè)量比較接近,僅在高溫高頻點(diǎn)出現(xiàn)略大偏差。
從1.3.3 的理論計(jì)算和試驗(yàn)測(cè)試結(jié)果來看,通過調(diào)節(jié)ln達(dá)到的最佳補(bǔ)償效果仍然不夠理想(低溫補(bǔ)償不足、高溫補(bǔ)償過量)。為了進(jìn)一步減小插入相移溫漂,需采取如下兩方面措施:
提高Hif工作點(diǎn),對(duì)ln進(jìn)行精細(xì)調(diào)節(jié)。
從上文補(bǔ)償結(jié)果可以看出,通過改善相移偏差的頻率特性,可以減小插入相移溫漂。為此,在1.3.3 的基礎(chǔ)上,通過調(diào)整等效空氣間隙,將常溫下Hif工作點(diǎn)提高約50 Oe,可得到接近最佳的插入相移理論補(bǔ)償效果如下:常溫~高溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)變化量分別為1.2°、-0.3°、-2.5°;常溫~低溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)變化量分別為-2.6°、-2.8°、-2.3°。
調(diào)整NiFe 合金材料參數(shù),使其飽和磁化強(qiáng)度隨溫度變化曲線在工作溫區(qū)內(nèi)出現(xiàn)“上凹”特征。
從上文計(jì)算式(4)可以看出,影響高低溫補(bǔ)償效果的主要參數(shù)是4πMsn,而該參數(shù)在工作溫區(qū)內(nèi)的變化曲線一般會(huì)接近線性(如圖2所示[5])。計(jì)算分析表明,上述“線性變化”規(guī)律一般會(huì)產(chǎn)生“低溫不足、高溫過量”的補(bǔ)償效果。
圖2 NiFe 合金的Ni 含量、飽和磁化強(qiáng)度與溫度的相互影響關(guān)系示意圖
下面,對(duì)接近理想補(bǔ)償效果的NiFe 合金材料參數(shù)進(jìn)行計(jì)算分析。
選取常溫下Hif=1260 Oe,由表1 可以看出,當(dāng)?shù)蜏叵翲if=1285 Oe、高溫下Hif=1250 Oe 時(shí),可得到最佳補(bǔ)償效果:常溫~高溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)變化量分別為2°、1.9°、0.2°;常溫~低溫時(shí)三個(gè)頻率點(diǎn)變化量分別為-2°、-0.6°、1°。利用(4)、(3)式,對(duì)如下兩種情況:低溫下4πMsn由2500Gs 提高至2850Gs、高溫不變;高溫下4πMsn由675Gs 提高至900Gs、低溫不變,通過分別調(diào)整la1 和ln,均可得到滿足上述最佳補(bǔ)償條件的計(jì)算結(jié)果。由此可知,如果能將4πMsn隨溫度變化的“直線”特征調(diào)整成“上凹曲線”,則插入相移補(bǔ)償效果會(huì)得到明顯改善。由圖2 可以看出,實(shí)際NiFe 合金材料的4πMsn隨溫度變化曲線在高溫端會(huì)出現(xiàn)“上凹”特征。為了改善溫漂,可通過調(diào)整Ni 含量,使相應(yīng)“上凹”曲線段進(jìn)入環(huán)行器工作溫區(qū)。
本文針對(duì)高場(chǎng)帶線環(huán)行器,提出的計(jì)算分析方法和相關(guān)措施,已在工程實(shí)踐中驗(yàn)證,在某S 波段小型化帶線環(huán)行器的研制中,對(duì)實(shí)現(xiàn)最佳溫度補(bǔ)償磁路起到了較強(qiáng)的指導(dǎo)作用。該方法可在其它形式的環(huán)行器中進(jìn)行推廣應(yīng)用。為了進(jìn)一步提高設(shè)計(jì)準(zhǔn)確度,還需通過仿真和試驗(yàn),在充分考慮磁通量損失的基礎(chǔ)上,對(duì)磁路模型進(jìn)行修正和完善。
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