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      內(nèi)掩式透射地基日冕儀中雜光鬼像的消除

      2013-03-11 09:26:54卜和陽盧振武張紅鑫孫明哲
      中國光學(xué) 2013年2期
      關(guān)鍵詞:日冕物鏡鋁板

      卜和陽,盧振武 ,張紅鑫,孫明哲

      (1.中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所光電技術(shù)研發(fā)中心,吉林長春130033;2.中國科學(xué)院大學(xué),北京100049)

      1 引言

      日冕是太陽的外層大氣,不僅有高速外流的太陽風(fēng),還有強(qiáng)烈的日冕物質(zhì)拋射(CME),會(huì)發(fā)射出很強(qiáng)的紫外和X射線輻射。日冕的活動(dòng)與日地空間環(huán)境及空間通訊有著密切的關(guān)系,而且影響太空環(huán)境及地球磁場(chǎng)等,所以對(duì)日冕的觀測(cè),尤其是CME現(xiàn)象的觀測(cè),可以對(duì)影響地球及日地空間的災(zāi)害性天氣進(jìn)行預(yù)警。根據(jù)對(duì)日冕的監(jiān)測(cè)資料可以深入研究和理解CME的成因以及CME與周圍日冕結(jié)構(gòu)、日冕活動(dòng)(例如耀斑,日珥的爆發(fā)以及日冕震蕩等)的相互作用。對(duì)人類全面理解太陽活動(dòng)等有著重要的科學(xué)價(jià)值。

      日冕的亮度相對(duì)來自太陽光球?qū)拥目梢姽鈽O其微弱,幾乎是太陽中心亮度的10-6量級(jí),外冕的亮度則更加微弱[1-4],人眼觀測(cè)不到,只有在日全食時(shí)才能看到日冕,但此時(shí)對(duì)日冕的監(jiān)測(cè)時(shí)間有限,獲得的科學(xué)數(shù)據(jù)也極其有限。

      日冕儀則是人為通過儀器的結(jié)構(gòu)遮攔造成類似日全食影像的成像儀器,是日地空間環(huán)境的監(jiān)測(cè)儀器。因?yàn)槿彰嵊^測(cè)是在極強(qiáng)背景下觀測(cè)暗目標(biāo),所以日冕儀不僅需要建立在高海拔地區(qū)來減弱地球大氣的影響,且光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的關(guān)鍵就是消除外界及自身雜散光的影響。

      從最早的Lyot日冕儀至今,國外已發(fā)射多顆空間探測(cè)衛(wèi)星,如歐洲航天局與美國合作的太陽與日光層觀測(cè)臺(tái)(SOHO),美國的日地關(guān)系觀測(cè)臺(tái)(SREREO),日本陽光衛(wèi)星(Yohkoh)等,日冕儀都是其中重要的載荷。一些國家制定了相應(yīng)的對(duì)日觀測(cè)計(jì)劃[5-6],利用自行研制的地基日冕儀在不同時(shí)刻不同角度對(duì)日冕進(jìn)行觀測(cè),我國地基日冕儀建立后,將成為這一觀測(cè)網(wǎng)絡(luò)的重要組成部分。

      透射式日冕儀的主要雜光光源除了太陽直射光,入射孔徑的邊緣衍射光,還有物鏡表面二次反射形成的鬼像,而鬼像作為透射式日冕儀不可避免的一類雜光,必須進(jìn)行有效消除。本文對(duì)一臺(tái)已有的內(nèi)掩式地基日冕儀開展了消除雜散光的研究。該日冕儀的視場(chǎng)為±1.1~3R⊙,工作波段為 530 ~555 nm,分辨率為 13.5 μm,口徑為120 mm,系統(tǒng) F數(shù)為 8.2。另外,系統(tǒng)總長為1 800 nm,其中光學(xué)系統(tǒng)長1 700 mm,焦距為987 mm。通過分析透射式日冕儀的基本原理和鬼像的形成機(jī)制,完成了軟件模擬,并提出了結(jié)構(gòu)性遮攔方法。實(shí)驗(yàn)顯示,提出的方法有效遮攔了鬼像,提高了透射式日冕儀的雜散光抑制能力。

      2 透射式日冕儀工作原理

      圖1所示的為內(nèi)掩式透射日冕儀的工作原理圖。內(nèi)掩式經(jīng)物鏡對(duì)太陽成像,在第一像面處放置內(nèi)遮掩體,將太陽光球的光遮蔽掉。如圖1所示,日冕儀由入射口徑,日冕儀物鏡,場(chǎng)鏡,中繼鏡組,內(nèi)掩體,鬼像吸收膜,Lyot光闌構(gòu)成。太陽光直接照射在物鏡組上,被物鏡組成像在其后焦面處,設(shè)置在焦面處的掩體遮蔽了太陽光球?qū)拥年柟?,使其不能進(jìn)入后繼系統(tǒng)[7-10]。未被遮擋的陽光通過由場(chǎng)鏡和中繼鏡組組成的日冕儀二次成像系統(tǒng)成像于像面CCD,形成類似日全食的影像。

      圖1 透射式日冕儀成像原理Fig.1 Imaging principle of refractive coronagraph

      3 鬼像形成機(jī)制及軟件模擬

      由圖1原理圖可知,物鏡組會(huì)直接暴露在太陽光的強(qiáng)烈直射之下。雖然物鏡表面經(jīng)過了超光滑拋光,但是無法避免透鏡內(nèi)表面的多次反射,這樣在透鏡內(nèi)部被表面多次反射的太陽光會(huì)進(jìn)入后繼鏡組形成鬼像[11]。如不鬼像遮攔,則相當(dāng)于一個(gè)面光源,一定程度上照明像面,就會(huì)降低像面的對(duì)比度。太陽光在物鏡內(nèi)部的反射如圖2所示。

      圖2 光在物鏡內(nèi)的多次反射示意圖Fig.2 Multi-reflection light in the objective lens

      設(shè)物鏡表面透射系數(shù)T達(dá)到0.99,反射系數(shù)R為0.01,且透射及反射無能量吸收,設(shè)入射光線a的光強(qiáng)度為1,按照物鏡兩面性質(zhì)相同計(jì)算可得:

      Ib=T ×R ×R ×T=9.8×10-5

      Ic=T×R×R×R×R×T=9.8×10-9

      其中Ib和Ic分別是光線b和c的光強(qiáng),可見Ib比Ic的強(qiáng)度大104倍,故c光相比b光的影響幾乎可以忽略,故著重考慮的是二次反射成像。

      圖3 物鏡表面二次反射光的第一像面(零度平行光入射光)Fig.3 The first image plane of secondary reflected light in the objective lens(0°parallel light)

      圖4 鬼像位置示意圖(零度平行光入射光)Fig.4 Ghost image position(0°parallel light)

      圖5 物鏡表面二次反射光第一像面(±0.7°平行光入射光)Fig.5 The first image plane of secondary reflected light in the objective lens(±0.7°parallel light)

      圖6 鬼像位置示意圖(±0.7°平行光入射光)Fig.6 Ghost image position(±0.7°parallel light)

      用Tracepro軟件進(jìn)行光線追跡,零度角水平入射的平行光經(jīng)物鏡后如圖3,可見物鏡內(nèi)表面二次反射光會(huì)先在物鏡后一定位置聚焦面1處聚焦;再如圖4,經(jīng)場(chǎng)鏡被聚焦在中繼鏡組前,這個(gè)聚焦點(diǎn)就是鬼像。模擬分別以±0.7°入射的平行光,如圖5和圖6所示,可見同角度入射的平行光先聚焦在聚焦面2,再經(jīng)過場(chǎng)鏡同樣被聚焦在中繼鏡組前??梢姽硐癫⒉皇且粋€(gè)理想的點(diǎn),而是有一定尺寸的彌散斑,且并不是物鏡內(nèi)的全部二次反射都聚焦為鬼像,只是物鏡中心小范圍內(nèi)的二次反射才對(duì)鬼像有貢獻(xiàn)。根據(jù)它的位置考慮有兩種途徑可對(duì)其進(jìn)行遮擋:(1)在Lyot光闌中心添加一個(gè)擋片進(jìn)行遮攔;(2)在后面的透鏡表面中心的一個(gè)小區(qū)域內(nèi)鍍吸收膜進(jìn)行遮攔。但考慮Lyot光闌中心的擋片需要支撐結(jié)構(gòu),從而會(huì)引入雜光,故實(shí)際應(yīng)用中采用后一種方法,即在后面透鏡表面中心鍍制吸收膜。由模擬結(jié)果直接取值,這一小圓區(qū)域的直徑約為0.9 mm。為確保遮攔效果,實(shí)際吸收膜區(qū)域應(yīng)采用4%的過遮攔。

      另一方面,采用MATLAB進(jìn)行光線追跡,計(jì)算獲得物鏡對(duì)鬼像有貢獻(xiàn)的區(qū)域最大半徑僅有3.790 1 mm,且是物鏡中心區(qū)域。

      4 實(shí)驗(yàn)分析

      4.1 實(shí)驗(yàn)原理圖

      圖7所示為物鏡二次反射光成像示意圖。

      圖7 物鏡二次反射光成像示意圖Fig.7 Imaging principle of secondary reflected light in the objective lens

      太陽模擬光源發(fā)出的光經(jīng)平行光管轉(zhuǎn)化為平行光入射日冕儀物鏡,物鏡內(nèi)表面多次反射引起的雜光先聚焦于物鏡后一定位置,而后入射日冕儀后繼系統(tǒng),經(jīng)場(chǎng)鏡后成像,成像面就是圖中所示的鬼像面。制冷相機(jī)對(duì)鬼像面成像并通過計(jì)算機(jī)進(jìn)行觀察,場(chǎng)鏡限制了日冕儀的視場(chǎng)角度,也限制了對(duì)鬼像有貢獻(xiàn)的成像光束數(shù)量。

      4.2 實(shí)驗(yàn)條件

      實(shí)驗(yàn)在千級(jí)超凈間完成,采用1∶1日冕儀實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)氙燈作為太陽模擬光源,日冕系統(tǒng)置于封閉黑箱內(nèi),同時(shí)配置制冷相機(jī)一臺(tái)。氙燈通過毛玻璃光強(qiáng)被均勻化,勻化的光通過開口直徑為D的染黑鋁板,鋁板置于平行光管焦面處,由平行光管焦距f=1 600 mm,太陽光球?qū)右晥?chǎng)角約為ω=±16',得鋁板開口直徑[12]:

      D=f× tan(ω)× 2=14.89 mm

      氙燈燈要對(duì)準(zhǔn)鋁板開口的中心,由此鋁板的開口被氙燈均勻照明,可模擬太陽。平行光管出射的光可視為來自太陽的平行光束,光被日冕儀接收到,最后通過制冷相機(jī)成像。因?yàn)樘杻?nèi)冕的輻射亮度幾乎是太陽中心亮度的10-6量級(jí),為了讓模擬的太陽實(shí)驗(yàn)裝置也達(dá)到這一量級(jí)比,在鋁板開口處放置106倍的衰減片,再用制冷相機(jī)觀察平行光管焦面處的鋁板,當(dāng)開口孔徑中心亮度和孔徑外的灰度值一致時(shí),說明滿足10-6量級(jí)比例關(guān)系。之后去掉衰減片,此時(shí)被照亮的鋁板開口可以比較理想地模擬太陽,為之后的實(shí)驗(yàn)奠定了基礎(chǔ)。

      4.3 鬼像遮攔實(shí)驗(yàn)

      從鬼像的成像原理已知,鬼像的成像光直接來自物鏡的表面,鬼像面同場(chǎng)鏡對(duì)物鏡的成像面非常接近,故可用相機(jī)對(duì)物鏡的像面成像,稍加前后調(diào)整,便可以找到鬼像的像面。

      圖8 鬼像像面成像圖Fig.8 Image plane before elimination of ghost image

      圖8所示用制冷相機(jī)拍攝的鬼像像面,像面的中心處有一個(gè)明顯的亮斑。通過微小轉(zhuǎn)動(dòng)物鏡,這個(gè)亮斑會(huì)發(fā)生較大的水平偏移,在未到達(dá)視場(chǎng)邊緣時(shí)便消失。物鏡調(diào)整回原位后,亮斑又重新出現(xiàn),而其他雜光點(diǎn)并未有明顯變化,這個(gè)中心亮斑就是鬼像點(diǎn)。測(cè)量顯示鬼像點(diǎn)的直徑和模擬的值基本吻合,均約為0.9 mm。采用一片光潔度極好的薄玻璃片,在其上點(diǎn)一黑點(diǎn),將玻璃片置于鬼像像面,黑點(diǎn)遮住鬼像點(diǎn),再通過制冷相機(jī)對(duì)該面成像,鬼像被遮蔽。鬼像消除后的影像如圖9所示。

      圖9 鬼像消除后成像圖Fig.9 Image plane after elimination of ghost image

      圖8中出現(xiàn)的明亮環(huán)為物鏡邊緣的衍射光成像,通過MATLAB讀取圖片灰度值,發(fā)現(xiàn)鬼像及衍射光亮環(huán)灰度值都達(dá)到了16 383的CCD飽和值,如圖10和圖11,由此更加確定鬼像如不進(jìn)行遮攔,一定程度上照明CCD像面使得日冕像的背景色變亮,日冕成像的對(duì)比度就會(huì)變差,從而影響觀測(cè)。

      圖10 鬼像點(diǎn)灰度值Fig.10 Gray value of ghost image

      圖11 物鏡邊緣衍射光灰度Fig.11 Gray value of diffracted light of objective lens edge

      綜上,理論和實(shí)驗(yàn)證實(shí)了地基日冕儀中主要的雜散光鬼像得到了抑制,實(shí)驗(yàn)同時(shí)提示只有物鏡中心一定區(qū)域的二次反射光才會(huì)形成鬼像,而對(duì)鬼像無貢獻(xiàn)的物鏡二次反射光會(huì)有不規(guī)則的分布,所以鏡筒內(nèi)壁應(yīng)進(jìn)行消雜光螺紋設(shè)計(jì),所有光闌邊緣應(yīng)進(jìn)行刀口設(shè)計(jì)以減小雜散光。另外,圖8和圖9中的不規(guī)則亮點(diǎn)是由物鏡上的灰塵散射光成像形成的,故提高成像系統(tǒng)的潔凈度也是消除雜光必不可少的手段。

      5 結(jié)論

      日冕儀的工作特點(diǎn)決定了其對(duì)雜散光抑制要求極其嚴(yán)格,在儀器完善及鏡片制造工藝極其成熟的前提下,也有很多雜散光是無法避免的,從而要求日冕儀系統(tǒng)在保證成像質(zhì)量的前提下提高雜散光的抑制水平。本文著重講述了內(nèi)掩式透射日冕儀鬼像的形成原理,進(jìn)行了軟件模擬,并在超凈間進(jìn)行了1∶1日冕儀實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)的演示,驗(yàn)證了提出的鬼像消除方法的可行性,也通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了鬼像的尺寸和Tracepro模擬的尺寸基本一致,直徑約為0.9 mm。

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