麻省理工微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室宣布采用砷鎵銦化合物制造出了史上最小的晶體管,其厚度僅為22 nm。合作開發(fā)人員和麻省理工學(xué)院的教授 Jesú del Alamo稱,采用砷化銦鎵能夠制造出極小的MOSFET,由于同時擁有極佳的邏輯性能,可保證在硅達(dá)到極限后維持摩爾定律的發(fā)展。
研究人員先采用分子束外延技術(shù)生長一層砷鎵銦單晶,然后沉積一層鉬作為源極和漏極接觸金屬。然后采用電子束光刻在襯底上刻蝕出圖案,并將蒸發(fā)鉬打到表面形成柵極,緊貼在源極和漏極中間。這些技術(shù)雖然被廣泛應(yīng)用于硅基半導(dǎo)體制造,但很少被用在化合物半導(dǎo)體晶體管上。這是因?yàn)榇饲盎衔锇雽?dǎo)體通常被用于光通信領(lǐng)域,對空間要求較低。