杜聲玖,王蜀霞,刁凱迪,廖中偉
(重慶大學(xué)物理學(xué)院,重慶 401331)
2004年,英國曼徹斯特大學(xué)科學(xué)家Geim等[1]用一種膠帶剝離的方法獲得了單層石墨烯,推翻了理論上石墨烯不能穩(wěn)定存在的認(rèn)知。之后人們開始普遍關(guān)注石墨烯,研究它的制備方法和電學(xué)、力學(xué)等方面的性質(zhì)。由于石墨烯是二維材料,有很大的比表面積,因而其吸附性能很好。最近幾年,國內(nèi)外出現(xiàn)很多研究原子吸附和摻雜石墨烯的報(bào)道。M.Wu等[2]用 F、O、N 原子吸附石墨烯,計(jì)算發(fā)現(xiàn)它們有不同最佳吸附位,并且研究了電子結(jié)構(gòu)和磁性的變化。Haigen Gao等[3]對(duì)IV族原子(C、Si、Ge、Sn、Pb)的吸附情況做了報(bào)道。戴憲起等[5-6]研究了存在空位缺陷或用原子摻雜石墨烯的吸附性質(zhì)變化。Aktürk 等[7]研究了 Si和Ge在石墨烯上吸附的影響,結(jié)果表明:B原子屬于半金屬元素,與C同一周期并且只相差1個(gè)電子;而Si與C同一周期,非金屬性較弱。B和Si跟C元素在周期表中最近,故在石墨烯中引入B與Si來討論其結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的變化是有意義的。本文就第一性原理來研究空位缺陷和Si摻雜對(duì)石墨烯吸附B性質(zhì)的影響。
本文采用基于密度泛函理論(DFT)平面波贗勢方法的Castep程序包,電子交換關(guān)聯(lián)作用選用廣義梯度近似(GGA)下的PBE泛函形式,采用超軟贗勢(Ultra-soft-pseudoptential,US-PP)來描述離子實(shí)和電子之間的相互作用。在倒格子的K空間中,平面波截?cái)嗄苋?50 eV。計(jì)算中選取3×3超晶胞,垂直于石墨烯平面的C軸取真空層1.7 nm,此時(shí)層間的作用可以忽略不計(jì)??偰芰空`差不大于0.001 eV。Monkhorst-Pack網(wǎng)格布里淵區(qū)K點(diǎn)取5×5×1,計(jì)算均考慮自旋極化效應(yīng)。石墨烯晶格常數(shù)a的實(shí)驗(yàn)值為0.246 nm,為了得到更準(zhǔn)確的值,對(duì)其附近不同晶格常數(shù)的石墨烯進(jìn)行了優(yōu)化,結(jié)果如圖1所示。
從圖1可以看出,隨著晶格常數(shù)a的增加,總能量Eg先減小后增大,最小值點(diǎn)對(duì)應(yīng)的橫坐標(biāo)就是石墨烯的最佳晶格常數(shù),其值為0.246 2 nm,以下計(jì)算均采用此值。在石墨烯蜂窩狀平面上,共有3個(gè)高對(duì)稱吸附位,分別為頂位(T)、橋位(B)、間隙位(H),它們分別位于石墨烯碳原子的正上方、碳碳鍵正上方、六邊形碳環(huán)正上方,如圖2(a)所示。原子在石墨烯上的吸附能Ead定義[8]為
其中:EG是吸附前石墨烯的總能量;EG-atom是石墨烯吸附原子后的總能量;Eatom是單個(gè)孤立原子的能量;n為原子個(gè)數(shù)??梢钥闯觯侥茉酱笪胶篌w系越穩(wěn)定。為了確定石墨烯吸附原子個(gè)數(shù)的影響,引入覆蓋度的定義:吸附原子個(gè)數(shù)與完整石墨烯C原子個(gè)數(shù)之比,單位為ML(monolayer)。為了方便計(jì)算,取式(1)中的n為1,即采用(1×1)、(2×2)和(3×3)三種超晶胞來考察B原子在1/2、1/8和1/18三種不同覆蓋度下的吸附結(jié)果。
圖1 不同晶格常數(shù)下的石墨烯的總能量
圖2 石墨烯結(jié)構(gòu)
如表1所示,討論了在不同的覆蓋度(1/2、1/8、1/18)下,B原子吸附在石墨烯不同吸附位(T、B、H)的吸附能。從表1中可以看出,當(dāng)覆蓋度為1/2時(shí),石墨烯吸附B的3個(gè)吸附位的吸附能非常接近,為2.36 eV左右,并且遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于下方1/8和1/18的吸附能。這并不能說明哪個(gè)吸附位更穩(wěn)定。原因歸于在1/2這個(gè)過高的覆蓋度下,B原子之間的間距(0.246 nm)小于它與石墨烯平面的距離(吸附高度0.36 nm左右),B與B作用較強(qiáng),占主導(dǎo)地位,故在不同位置吸附能一致。隨著覆蓋度的減小(1/8,1/18),B原子吸附石墨烯的吸附能差異變大;在1/18的覆蓋度下,B原子間間距進(jìn)一步增大(0.738 nm),遠(yuǎn)大于吸附高度0.18 nm,導(dǎo)致B原子與石墨烯襯底作用較強(qiáng),B與B之間作用很弱,不同位置的吸附能有所差異。其中當(dāng)B原子吸附在橋位時(shí),吸附能最大,結(jié)構(gòu)最穩(wěn)定,和B最鄰近的2個(gè)C原子與它的距離為0.183 nm,大于C-C鍵長0.142 nm。B原子的加入打破了石墨烯C原子網(wǎng)格的平衡,導(dǎo)致最鄰近的C原子向上凸起約0.014 nm。
表1 不同覆蓋度下B原子吸附石墨烯不同位置的吸附能
石墨烯和在橋位吸附B的能帶圖和態(tài)密度圖如圖3所示。從圖3(a)可以看到,完整石墨烯在費(fèi)米能級(jí)附近有能帶,導(dǎo)帶底和價(jià)帶頂相切,帯隙為零。比較2個(gè)能帶可以明顯看出吸附后費(fèi)米能級(jí)向?qū)Х较蛞苿?dòng),且費(fèi)米能級(jí)穿過一條能帶,體系變?yōu)閷?dǎo)體。石墨烯吸附B原子后,最外層電子數(shù)增加,所以費(fèi)米能級(jí)向上移動(dòng)。圖3(b)顯示了吸附前后的體系和B原子的態(tài)密度變化。從圖3可以看到,石墨烯在費(fèi)米能級(jí)附近態(tài)密度很小,而且自旋向上和向下對(duì)稱,體系不顯示出磁性。單獨(dú)的B原子最外層由2個(gè)2s電子和1個(gè)2p電子構(gòu)成,其中費(fèi)米能級(jí)附近的態(tài)密度貢獻(xiàn)是2p電子,2 s電子能級(jí)則在左方-5 eV處。吸附后B原子2s電子能級(jí)向右移動(dòng)到-2.5 eV左右,而2p電子在費(fèi)米能級(jí)附近(-2.5~4 eV)分裂成若干個(gè)峰,B原子與石墨烯襯底作用強(qiáng)烈,導(dǎo)致體系對(duì)稱性破壞,自旋上下不對(duì)稱,體系顯示出鐵磁性。
圖3 石墨烯和在橋位吸附B的能帶和態(tài)密度
完整石墨烯超胞中失去1個(gè)C原子,變成空位缺陷的石墨烯。優(yōu)化結(jié)構(gòu)后發(fā)現(xiàn),缺陷處3個(gè)最近鄰未飽和的C原子由1個(gè)晶格常數(shù)(0.246 nm)變成0.252 nm,增加了 0.006 nm。C 的空位使得本來對(duì)它周圍原子的作用消失,其他原子對(duì)未飽和C原子的作用增加,拉動(dòng)它們互相遠(yuǎn)離。加入B原子后,缺陷石墨烯體系會(huì)自動(dòng)弛豫,讓B原子吸附到原來缺陷C的位置上。B原子處于石墨烯平面上,沒有造成凸起,B-C鍵長為0.148 nm,比原來的C-C鍵鍵長0.142 nm更長,這說明較之于完整石墨烯,B原子和C原子作用更弱。計(jì)算表明,B原子在空位缺陷處的吸附和該處C原子的替位摻雜等效,吸附能為12.640 eV,遠(yuǎn)大于B吸附于完整石墨烯上的0.598 eV。原因是缺陷造成了周圍存在懸掛鍵,每個(gè)碳原子的平均能量增加了約0.131 eV,體系較之于完整石墨烯相對(duì)活躍。B原子的引入,飽和了缺陷處的懸空鍵,體系能量大大降低。圖4(a)顯示的是空位缺陷的石墨烯吸附B前后的態(tài)密度。孤立B原子的2s能級(jí)向左移動(dòng)并在-16~-6 eV內(nèi)展寬成能帶,態(tài)密度變得平緩,2p電子能級(jí)則在費(fèi)米能級(jí)附近分裂成約4個(gè)峰(自旋向上,-5 eV、-3 eV、0.5 eV、2 eV附近),B原子與缺陷石墨烯作用強(qiáng)烈,態(tài)密度分布變化較大。空位缺陷石墨烯的態(tài)密度自旋上下不對(duì)稱,但計(jì)算表明,其自旋磁矩為零,表現(xiàn)為反鐵磁性。B吸附空位缺陷石墨烯,其態(tài)密度自旋上下幾乎對(duì)稱,但代數(shù)和不為零,體系仍有磁性。費(fèi)米能級(jí)向?qū)Х较蛞苿?dòng),金屬性變強(qiáng)。
為了弄清B原子在空位缺陷石墨烯襯底的相互作用和產(chǎn)生磁性的原因,討論了吸附幾個(gè)不同原子的吸附能大小和磁性,如表2所示。表中數(shù)據(jù)顯示,Si吸附襯底的吸附能最小,而且沒有磁性。Si吸附的體系能量較高,比B和N的體系更不穩(wěn)定,說明Si與襯底作用較弱。這可能是因?yàn)镾i原子最外層電子為3s、3p電子,與C原子(最外層為2s、2p電子)產(chǎn)生雜化作用較弱,所以體系降低的能量更少。而B和N最外層電子為2s、2p電子,與周圍未飽和的3個(gè)C原子雜化形成δ鍵,能量大大降低。磁性的來源可能是B和N分別引入了空穴和多余的電子,產(chǎn)生自旋極化,導(dǎo)致了1.00 μB的磁矩。
表2 空位缺陷石墨烯吸附B、Si、N的吸附能和磁性
圖4 碳空位缺陷和Si摻雜石墨烯吸附前后的態(tài)密度
在完整的石墨烯中用1個(gè)Si原子取代C原子,得到了摻雜缺陷的石墨烯。優(yōu)化結(jié)構(gòu)后發(fā)現(xiàn),Si原子向上凸起約0.081 nm,周圍的鍵長明顯發(fā)生變化。離Si比較近的C-C鍵變短了約0.005 nm,較遠(yuǎn)的變化很小。Si-C鍵鍵長為0.175 nm左右,相較于C-C鍵的0.142 nm明顯拉長了,這表明平衡后Si和C的作用較弱。Si摻雜石墨烯襯底后,總能量升高了約53 eV,說明這種摻雜較之于完整石墨烯體系極不穩(wěn)定。Si原子雖然與C處于同一主族,最外層都是2個(gè)s電子和2個(gè)p電子,但是Si原子最外層是3s和3p電子,而C是2s和2p電子,C和Si的雜化比C與C的雜化作用弱,故體系能量偏高。Si的摻雜沒有引入新的自旋電子或空穴,所以沒有磁性。
在摻雜Si原子的石墨烯平面上吸附B原子,發(fā)現(xiàn)其最佳位置為間隙位靠向Si原子在碳環(huán)上的間位原子,吸附高度為0.176 nm,如圖2(b)所示。Si原子向上凸起明顯,約有0.1 nm,Si-C鍵被拉長,變?yōu)?.180 nm;B-Si距離為 0.200 nm,B 原子和碳環(huán)上間位原子距離最近,約0.171 nm,該C原子向上凸起,與B和作用最強(qiáng)。B吸附Si摻雜體系的吸附能為2.675 eV,遠(yuǎn)大于B吸附完整石墨烯的0.598 eV,這說明Si摻雜可以增強(qiáng)B的吸附作用,但B與襯底作用強(qiáng)烈,使得整個(gè)體系變得凹凸不平。圖4(b)是Si摻雜體系和吸附B的Si摻雜體系的態(tài)密度。B原子2s電子被展寬,2p電子在費(fèi)米能級(jí)處出現(xiàn)1個(gè)最高的峰。Si摻雜石墨烯體系自旋上下對(duì)稱,體系不顯磁性,而且費(fèi)米能級(jí)略微向價(jià)帶方向移動(dòng),費(fèi)米能級(jí)附近態(tài)密度不高。吸附B后的體系,態(tài)密度不對(duì)稱,在費(fèi)米能級(jí)處自旋向下幾乎為零,而向上則明顯大于零,呈現(xiàn)出半金屬性。經(jīng)計(jì)算,整個(gè)體系上下自旋代數(shù)和不為零,有1.00 μB的磁矩。磁矩的主要來源是B原子的吸附,改變了體系的自旋狀態(tài)。
圖5為石墨烯在不同情況下的電荷密度??梢钥闯觯珺和Si與石墨烯襯底的作用都是將電子轉(zhuǎn)移到C附近,作為施主摻雜(吸附)。B與襯底的作用較之于Si更強(qiáng),故在圖5(c)中,Si將電子轉(zhuǎn)移到B附近形成局域電子,而B的電子轉(zhuǎn)移到最近的C附近形成共價(jià)鍵,B原子既是施主也是受主,體現(xiàn)了B的半金屬性。
圖5 石墨烯在不同情況下的電荷密度
采用基于密度泛函理論的第一性原理計(jì)算了石墨烯在不同覆蓋度、空位缺陷和Si摻雜情況下B原子的吸附性質(zhì)。計(jì)算表明,在較高覆蓋度下,B與B之間作用較大,體系在不同位置的吸附能相差不大。而隨著覆蓋度的減少,不同吸附位的吸附能差別變大。覆蓋度為1/18時(shí),B原子間的作用可忽略,體系穩(wěn)定吸附位為橋位。石墨烯吸附前自旋上下對(duì)稱,體系無磁性,但吸附后呈鐵磁性。石墨烯空位C缺陷引入了懸空鍵,體系能量較大,磁矩為零,呈反鐵磁性。B在空位缺陷石墨烯上的吸附可以看成是替代該處C原子摻雜,飽和了未配對(duì)的電子,降低了體系總能量,但磁矩不為零。Si摻雜原子提高了體系能量,較之于完整石墨烯不穩(wěn)定,Si與體系的作用較弱,沒有引入自旋極化,磁矩為零。B的吸附Si摻雜體系的吸附能為2.675 eV,遠(yuǎn)大于B吸附完整石墨烯的0.598 eV,這說明Si摻雜可以增強(qiáng)B的吸附作用,但體系變形較嚴(yán)重;B原子與襯底作用發(fā)生能級(jí)分裂,導(dǎo)致自旋上下態(tài)密度不對(duì)稱,引入了磁性,并且近似呈半金屬性。
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