時克林 王曉蕾
(山東省淄博第六中學(xué)化學(xué)組,淄博 255300) (山東師范大學(xué)化學(xué)化工與材料科學(xué)學(xué)院,濟南 250014)
化學(xué)修飾電極是當(dāng)前電化學(xué)和電分析化學(xué)領(lǐng)域的一個熱門研究課題[1],它通過共價、鍵合、吸附、聚合等手段,將具有功能性的物質(zhì)引入電極表面,制得具有新的、特定功能的電極[2]?;瘜W(xué)修飾電極由于其制備簡單、靈敏度高、選擇性良好和響應(yīng)迅速等優(yōu)點在伏安法中應(yīng)用廣泛[3]。膜化學(xué)修飾電極是通過滴涂、旋涂、電沉積、化學(xué)沉積、等離子聚合、電聚合等方法在電極表面制備修飾薄膜而制得的電極,借助Faraday(電荷消耗)反應(yīng)可呈現(xiàn)修飾薄膜化學(xué)、電化學(xué)以及光學(xué)的性質(zhì)。這種人為設(shè)計和制作的電極展示出獨特的光電催化、電色、表面配合、富集和分離、開關(guān)和整流、分子識別、摻雜和釋放等功效和功能。研究和制備這種修飾電極表面膜的微結(jié)構(gòu)和其界面反應(yīng),大大地推動了電極過程動力學(xué)理論的發(fā)展,并作為化學(xué)和相關(guān)邊緣學(xué)科開拓了廣闊研究領(lǐng)域[4,5]。
Nafion是一種性質(zhì)穩(wěn)定、具有離子交換作用的含氟化合物,其結(jié)構(gòu)式如下:
Nafion聚合物具有導(dǎo)電性好,對熱和化學(xué)物質(zhì)穩(wěn)定、阻抗小、水中溶解度小等特性,是一種良好的電極修飾材料[6]。Nafion是一種優(yōu)良的陽離子交換劑,用作電極修飾材料具有良好的離子選擇性,它只與陽離子發(fā)生選擇性交換,排斥中性分子和陰離子[2]。Nafion膜本身含有磺酸基團,Grieke在1981年提出了膜的離子簇多孔網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)及關(guān)于離子傳遞的滲透理論,其孔大約為5 nm。它是由于水合作用,磺酸基團的靜電力與氟碳骨架彈力平衡作用的結(jié)果。這些離子簇形成的多孔狀結(jié)構(gòu),由1 nm的通道相連,提供陽離子傳輸?shù)耐ǖ?,并且Nafion膜具有化學(xué)惰性、耐腐蝕性,這些優(yōu)點使Nafion膜有可能成為壽命長的離子選擇性電極。Nafion膜廣泛應(yīng)用于化學(xué)修飾電極以增加修飾電極對陽離子的選擇性[7]。全氟磺酸質(zhì)子交換膜由于其具有優(yōu)良的機械、物理、化學(xué)及電化學(xué)穩(wěn)定性,廣泛用于燃料電池、電解水以及其它電化學(xué)領(lǐng)域[8]。Nafion膜修飾電極對表面活性物質(zhì)具有良好的抗干擾能力,因此伏安法中應(yīng)用Nafion修飾電極可以提高分析靈敏度和抗干擾能力[6]。已有文獻報道以Nafion膜修飾電極測定微量元素能提高分析的靈敏度和抗干擾能力[9]。Nafion膜修飾電極已被應(yīng)用于越來越多的化學(xué)修飾電極和生物傳感器的研制中[10,11],以提高測定的選擇性,但對帶不同電荷的物質(zhì)其作用的差異研究很少。
筆者在前人研究的基礎(chǔ)上,制備了Nafion膜修飾玻碳電極,通過測定Nafion膜對電活性物質(zhì)鐵氰化鉀、抗壞血酸、多巴胺等在電極表面反應(yīng)的阻礙程度,進一步研究了Nafion膜對幾種電活性物質(zhì)的阻礙作用,以及成膜方式和膜的厚度對阻礙作用的影響,對進一步推廣Nafion膜修飾電極在電化學(xué)中的應(yīng)用具有指導(dǎo)意義。
微機電化學(xué)分析系統(tǒng):LK98A型,天津蘭力科化學(xué)電子有限公司;
三電極系統(tǒng):Nafion膜修飾(或裸)玻碳電極作工作電極,飽和甘汞電極作參比電極,鉑絲作對電極,測量均在室溫下進行;
數(shù)控超聲清洗器:KQ-1000E型,昆山市超聲儀器有限公司;
磁力攪拌器:CLJ-2000型,天津蘭力科化學(xué)電子有限公司;
分析天平:FA1104型,上海精密科科學(xué)儀器有限公司 ;
抗壞血酸(AA):分析純,天津化學(xué)試劑一廠;
多巴胺(DA):分析純,中國藥品生物制品檢驗所;
無水乙酸鈉、無水乙醇、Na2HPO4·12H2O、氯化鉀:分析純,國藥集團化學(xué)試劑有限公司;
NaH2PO4·2H2O:分析純,中國醫(yī)藥集團上?;瘜W(xué)試劑公司;
冰乙酸:分析純,無錫市龍吉利化工試劑有限公司;
鐵氰化鉀:分析純,西安化學(xué)試劑廠;
Al2O3拋光粉:JP-3型,云南光電輔料有限公司;
Nafion溶液:將質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%的Nafion溶液(Fluka)溶于異丙醇-水(體積比1∶1),配成質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為0.5%、2%、3%、5%的Nafion溶液。
Nafion膜修飾電極采用溶劑揮發(fā)法制備。依次用1 μm和0.05 μm Al2O3拋光粉將玻碳電極拋成鏡面,用二次水清洗,然后分別用無水乙醇和二次水超聲清洗5 min,最后用二次蒸餾水將電極表面沖洗干凈,于室溫下自然晾干。滴涂時,用微量加樣器慢慢滴加2 μL Nafion溶液(質(zhì)量分別為0.5%、2%、3%、5%)于玻碳電極表面,室溫下?lián)]發(fā)掉溶劑,即得所需修飾電極。若為蘸涂,將電極表面端豎直插入Nafion異丙醇溶液,然后取出直立,晾干。為了清除電極的記憶效應(yīng),每次測完一個數(shù)據(jù)后,重新處理電極。
將30 mL含電活性物質(zhì)的溶液加入到電解池中,插入三電極體系,以100 mV/s的掃描速度,在合適的電位范圍內(nèi)進行循環(huán)伏安掃描,記錄其循環(huán)伏安曲線。
試驗了濃度為5×10-3mol/L鐵氰化鉀(含1 mol/L氯化鉀作支持電解質(zhì))分別在裸電極、滴涂2 μL 0.5%Nafion溶液和蘸涂1次0.5 %Nafion溶液膜修飾電極表面的電化學(xué)行為,如圖1所示。Nafion溶液濃度:0.5%;滴涂量:2 μL;蘸涂次數(shù):1次;底液:1 mol/L氯化鉀;掃描速度:100 mV/s;
a—裸電極; b—蘸涂Nafion溶液; c—滴涂Nafion溶液
從圖1看出,與裸電極明顯的氧化還原峰電流(曲線a)相比,蘸涂形成的膜修飾電極在鐵氰化鉀中的峰電流被削弱了,但仍有一對小的氧化還原峰(曲線b);滴涂形成的膜修飾電極在鐵氰化鉀中已完全沒有峰電流(曲線c)。峰電流小說明透過膜參與反應(yīng)的鐵氰化鉀少,也就是受到了膜較大的阻礙。由此可見:無論是滴涂還是蘸涂成膜,都能阻礙鐵氰化鉀向電極表面的傳質(zhì);而滴涂的阻礙效果好于蘸涂。原因是滴涂形成的膜比較致密,能有效阻礙透過,而蘸涂形成的膜較薄,只能部分阻礙。因此在制備Nafion膜修飾電極時,采用滴涂的方法。
試驗了1×10-3mol/L AA在裸電極,滴涂2 μL 2% Nafion溶液和滴涂2 μL 3% Nafion溶液形成的Nafion膜修飾電極表面的電化學(xué)行為,如圖2所示。底液:pH 4.0的乙酸鹽緩沖溶液;掃描速度:100 mV/s。
a—裸電極; b—滴涂2%Nafion溶液; c—滴涂3%Nafion溶液
圖2 AA在裸電及Nafion膜修飾電極表面的循環(huán)伏安圖
從圖2可以看出:從裸電極到滴涂成膜的修飾電極,在1×10-3mol/L AA中均出現(xiàn)了峰電流,不同的是,隨著滴加的Nafion溶液濃度加大,形成的Nafion膜越厚,峰電流越小,峰電位正移。因此,Nafion膜阻礙AA在電極表面的傳質(zhì)和反應(yīng),膜越厚,阻礙效果越明顯。
試驗了5×10-3mol/L鐵氰化鉀(含1 mol/L氯化鉀作支持電解質(zhì))在裸電極和滴涂2 μL 0.5% Nafion溶液形成的膜修飾電極表面的電化學(xué)行為,如圖3所示。底液:1 mol/L氯化鉀;掃描速度:100 mV/s。
a—裸電極; b—滴涂Nafion溶液
試驗了1×10-3mol/L AA在裸電極、滴涂2 μL 2% Nafion溶液、滴涂2 μL 3% Nafion溶液、滴涂2 μL 5%Nafion溶液膜修飾電極表面的電化學(xué)行為,如圖4所示。底液:pH 4.0的乙酸鹽緩沖溶液;掃描速度:100 mV/s。
a—裸電極; b—滴涂2%Nafion溶液; c—滴涂3%Nafion溶液; d—5%Nafion溶液
從圖4看出:AA在裸電極表面響應(yīng)有明顯的氧化峰(曲線a),而且峰型很好;滴涂2%Nafion溶液和滴涂3%Nafion溶液形成修飾電極后,明顯削弱了峰電流,且峰電位明顯正移(曲線b,曲線c),但氧化峰依然存在;而滴涂5%Nafion溶液電極已完全沒有AA的氧化峰了(曲線d)。由此可知:滴涂低濃度Nafion溶液形成的膜只能部分阻礙AA在電極表面的反應(yīng),滴涂5%Nafion溶液形成的膜能較好地阻礙AA在電極表面的傳質(zhì)和反應(yīng)。與鐵氰化鉀相比,AA所帶負(fù)電荷較少,因此Nafion對AA的阻礙較小。
試驗了1×10-4mol/L DA在裸電極、滴涂2 μL 2%Nafion溶液、滴涂2 μL 3%Nafion溶液、滴涂2 μL 5%Nafion溶液形成的膜修飾電極表面的電化學(xué)行為,如圖5所示。底液:pH 7.6的磷酸鹽緩沖溶液;掃描速度:100 mV/s。
a—裸電極; b—滴涂2%Nafion溶液;c—滴涂5%Nafion; d—滴涂3%Nafion溶液
圖5 DA在裸電極及不同濃度Nafion溶液膜修飾電極表面的循環(huán)伏安圖
從圖5看出:DA在裸電極表面有較大氧化還原峰,而且峰形好(曲線a),滴涂2 μL 2%Nafion溶液形成膜修飾電極后,峰電流有所增大(曲線b),氧化峰電位稍負(fù)移,還原峰電位稍正移,而在滴涂2 μL 3%Nafion溶液后,電流明顯減小(曲線c),滴涂2 μL 5%Nafion溶液后降至更小(曲線d)。其原因可能是DA在中性緩沖溶液中帶正電荷,因此Nafion膜對DA有吸附和阻礙的雙重作用。滴涂低濃度Nafion溶液,阻礙作用弱,而吸附作用占主導(dǎo),會使峰電流增大;而滴涂較高濃度Nafion溶液,由于膜厚度大,阻礙作用占主導(dǎo),只有少量DA能透過Nafion膜在電極表面反應(yīng),因此峰電流減小。
Nafion膜對帶有負(fù)電荷的物質(zhì)有明顯的排斥作用,而且隨著負(fù)電荷數(shù)的增加,排斥作用增加;對帶有正電荷的物質(zhì)有一定的吸附富集作用,但隨著Nafion膜厚度的增加,阻礙作用占主導(dǎo)。該研究對實驗中Nafion膜的選擇和使用有一定指導(dǎo)意義。
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