文繼剛
同濟大學(xué)電子與信息工程學(xué)院,上海 200081
倒裝芯片封裝技術(shù)(FC)是由IBM公司在上個世紀60年代開發(fā)的,即將芯片正面朝下向基板進行封裝。15年前,幾乎所有封裝采用的都是引線鍵合,如今倒裝芯片技術(shù)正在逐步取代引線鍵合的位置,這種封裝方式無需引線鍵合,因此可以形成最短電路,從而降低電阻;并且采用金屬球進行連接可以縮小封裝尺寸,改善電性表現(xiàn),從而解決了BGA為增加引腳數(shù)而需擴大體積的困擾。采用倒裝芯片封裝技術(shù)可以降低生產(chǎn)成本,提高速度及組件的可靠性。
倒裝芯片相當于一個完全封裝的芯片,它是由錫球下的冶金與芯片鈍化層密封的,并提供下一級封裝的內(nèi)連接結(jié)構(gòu)。將一個構(gòu)造合理的倒裝芯片安裝在適當載體上用于內(nèi)連接,即使沒有其他灌封,該載體也可以滿足所有可靠性要求。
在錫球回流時,焊錫受表面張力的作用,可以自動糾正芯片微小的對準偏差,從而提供了裝配制造的合格率。同時倒裝芯片技術(shù)也提供低電感,在高頻應(yīng)用中起到至關(guān)重要的作用。
倒裝芯片技術(shù)可以將電源帶入芯片的每個象限,即在整個芯片面積上,其電流是均勻分布的。
倒裝芯片技術(shù)消除了封裝并減小了芯片的尺寸,因此節(jié)省了硅的使用量,降低了制作成本。
凸點形成技術(shù)可以分為淀積金屬、機械焊接、基于聚合物的膠粘劑等幾個類型。
1)金屬電鍍技術(shù)
一般是在電鍍槽里,把基片當作陰極,利用靜態(tài)電流或者脈沖電流來完成焊料的電鍍。在鍍上所需厚度的焊料后,就可以把光致抗蝕劑清除掉,這時焊料凸點制作完成。電鍍的優(yōu)勢是可以在非常小的間距內(nèi)印刷,而且可以保證足夠的焊料以得到更高的高度。電鍍的不足之處在于它的啟動成本較高,生產(chǎn)設(shè)備的占用面積較大,電解液會造成更多的浪費,選擇合金的靈活性少。
化學(xué)鍍是一種新型的金屬表面處理技術(shù),該技術(shù)以其工藝簡便、節(jié)能、環(huán)保日益受到人們的關(guān)注,其鍍層均勻、裝飾性好,并且能提供產(chǎn)品的耐蝕性和使用壽命,在印刷電路行業(yè)應(yīng)用較為廣泛,近年來其通過化學(xué)形成凸點的技術(shù)也應(yīng)用到倒裝芯片中來。由于化學(xué)性質(zhì)非常準確,在化學(xué)倒裝片凸點技術(shù)工藝中,化學(xué)鍍鎳技術(shù)應(yīng)用較為普遍。如果鋁沒有與鎳同時電鍍,就可使用中間浸液電鍍鋅技術(shù)。在典型狀況下,鎳受到金涂層保護,形成的金毛刺適于焊接及膠粘劑壓焊。化學(xué)鍍鎳凸點技術(shù)工藝簡單、成本低,是主要的倒裝芯片凸點工藝。
2)機械形成凸點技術(shù)
此技術(shù)使用標準線連接過程以形成凸點,釬料絲可以使用金絲或鉛基釬料絲。凸點形成過程與線連接過程相同,不同之處在于絲端成球后,在球端加熱使之斷開,最后形成有短尾部的凸點,隨后重熔過程可獲得具有特定高度的球形凸點。為保證在球附近形成光滑的斷裂口,可以使用含有1%鉑的金絲作為釬料絲。柱式凸點形成技術(shù),長期使用于試制形式,由于通過引線鍵合機獲得了驚人的速度,已移入生產(chǎn)模式,金和金凸點及焊料凸點均被實施。
3)聚合物凸點技術(shù)
它采用導(dǎo)電聚合物制作凸點,設(shè)備和工藝相對簡單,是一種高效、低成本的倒裝芯片技術(shù)。采用這種技術(shù)無需高溫也不允許焊料合金再流,沒有α輻射和鉛,而且工序簡單,首先放置好聚合物,然后便可進行焊接。由于各種膠粘劑不能直接用在鋁上,所以通常把它們應(yīng)用于金焊盤。
共晶焊料構(gòu)成的凸點,包含壓焊和連接材料。首先將凸點用免清洗焊劑涂覆并置于板上,然后像普通的SMD元件一樣進行焊料回流。僅對凸點提供焊劑是較難的,特別是當使用下填充物時,焊劑熔解輪將被用來給凸點和導(dǎo)電膠提供焊膏。
不熔的芯型凸點(如鎳凸點),在其組裝過程中應(yīng)增加連接材料。可通過絲網(wǎng)印刷、模板印刷或針式印刷等形式將焊料分配到電路載體上,然后放置芯片并進行焊料回流。
使用印刷或分配方法可把導(dǎo)電膠提供給電路載體或凸點,即聚合物浸涂芯片法(PDC)。使用裝滿粘附膏的“焊劑熔解輪”,在旋轉(zhuǎn)盤或別的儲層的外面涂覆膠粘劑,厚度略小于凸點高度。把芯片放入膏中并用粘著凸點的膠粘劑抽出,把倒裝芯片置于電路上并進行膠粘劑固化。
目前使用的下填充系統(tǒng)可以分為3類,即毛細管底部填充、助焊(非流動)型底部填充和四角或角-點底部填充系統(tǒng)。每類下填充系統(tǒng)都存在其優(yōu)勢和局限性,目前應(yīng)用比較廣泛的是毛細管底部填充材料。毛細管底部填充的應(yīng)用范圍包括板上倒裝芯片和封裝內(nèi)倒裝芯片。通過采用底部填充可以分散芯片表面承受的應(yīng)力進而提高了整個產(chǎn)品的可靠性。在傳統(tǒng)倒裝芯片和芯片尺寸封裝(CSP)中使用毛細管底部填充的工藝類似。首先,將芯片粘貼到基板上已沉積焊膏的位置,之后進行再流,這樣就形成了合金互連。在芯片完成倒裝之后,采用分散技術(shù)將底部填充材料注入到CSP的一條或兩條邊。材料在封裝下面流動并填充CSP和組裝電路板之間的空隙。毛細管底部填充可以極大地提高可靠性,但是要完成這一工藝,需底部填充材料的注入設(shè)備、足夠的廠房空間安裝設(shè)備以及可以完成精確操作的工人。
在倒裝片和PCB之間加入下填充物可靠性提高了一個數(shù)量級或更多。經(jīng)過硬化的下填充物把板移動定位在硅芯片的移動上。低膨脹、極高模量無機硅至少在表面上成為限制有機PCB膨脹的約束力。
倒裝芯片的最終質(zhì)量受制作中每個工藝過程的影響,因此在倒裝芯片制作的3個工藝階段,均應(yīng)安排檢測工序。在圓片生產(chǎn)階段應(yīng)檢測圓片表面及凸點有無缺陷,凸點尺寸是否合格,基本的材料與平整性等;在組裝階段主要是檢測芯片與基片連接的可靠性,一般應(yīng)進行高溫和熱循環(huán)測試,并應(yīng)在測試后檢查芯片和基片的裂紋。同時在該階段還應(yīng)檢測是否存在組裝缺陷,如焊點開路、短路,焊料缺損等,有些情況下還應(yīng)對芯片底部填充材料的缺陷(如是否存在氣泡等)進行檢測;應(yīng)用階段的檢測內(nèi)容基本與組裝階段相同。倒裝焊芯片檢測的方法可以分成接觸式和非接觸式檢測2類。前者包括電測試、邊界掃描和功能測試等方法。它們可以很好檢測到芯片的短路和開路,但不能有效地區(qū)別焊點缺陷,無法判斷冷焊點連接或機械連接等不合格的連接形式,所以不能提供長期可靠性的判斷。另外由于是接觸式測量,會對芯片的表面造成損壞。而非接觸檢測技術(shù)不但可以檢測到芯片中的微觀特性,對器件不會造成損壞,如自動光學(xué)檢測,自動X射線檢測、聲學(xué)檢測等還能提供良好的工藝控制信息。
隨著電子封裝越來越趨于向更快、更小、更便宜的方向發(fā)展,要求縮小尺寸、增加性能的同時,必須降低成本。倒裝芯片技術(shù)正是為了適應(yīng)這種趨勢而產(chǎn)生的。目前全球很多家公司正在研究并開發(fā)倒裝芯片技術(shù),為推動倒裝芯片技術(shù)的發(fā)展貢獻著自己的力量。
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