梁為慶,梁勝華,鄔晶,周升威,黃家輝,林凱旋,邱岳,潘海龍,方方
(廣東金鑒實驗室科技有限公司失效分析部,廣州 511300)
隨著LED 的發(fā)展越來越成熟,人們對LED 提出了更高的要求,色溫可調(diào)、智能化、高度集成、結(jié)構(gòu)緊湊和接近自然光色(全光譜)成為其發(fā)展的重要方向[1]。近年來,板上芯片(COB)封裝光源[2-3]、板上驅(qū)動(DOB)封裝光源也因此得到了長足的發(fā)展[4],在LED照明中占據(jù)了舉足輕重的地位。
DOB 光源俗稱“去”電源化光源,因此也叫Driverless,其主要特點是把驅(qū)動電源與光源芯片集成在一塊基板上,去掉傳統(tǒng)的外接電源,直接用交流電(市電)點亮光源。它是高度集成、結(jié)構(gòu)緊湊的新型光源的典型代表,然而隨著集成度的增加,其可靠性問題變得比較突出。
失效分析是指在產(chǎn)品發(fā)生失效異常后,通過一定的方法和測試手段,對產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)、材料和工藝制程等進行系統(tǒng)的研究與分析,最終探討其失效機理,從而給產(chǎn)品提出改善、提升和預(yù)防方案的整個流程。LED失效分析已經(jīng)成為提升其可靠性、提高生產(chǎn)良率的重要手段。因此,LED 失效分析也成為了學(xué)界備受關(guān)注的研究方向[5-8]。然而,對LED 光源的失效分析往往集中在LED 芯片與封裝方面,對DOB 封裝LED 光源的電源IC 的失效分析以及對外接驅(qū)動電源IC 的失效分析報道較少[9-11]。
本文結(jié)合基礎(chǔ)電性測試、X 射線測試、示波器測試、掃描電子顯微鏡(SEM)測試、物理開封、聚焦離子束顯微鏡(FIB-SEM)測試和能譜儀(EDS)測試等表征手段,分析發(fā)現(xiàn)某型號DOB 封裝LED 光源亮度下降的原因是異常元素Fe 的殘留與污染造成電源IC 芯片蝕刻異常,含F(xiàn)e 元素異物鑲嵌在芯片內(nèi)部,導(dǎo)致芯片內(nèi)部蝕刻線路異常,造成內(nèi)部功能單元失效,最終使得集成電路功能偏離設(shè)計,局部或全部失效。
在對某型號失效的DOB 封裝LED 光源進行點亮測試時,發(fā)現(xiàn)其亮度比同批次的光源低,進一步測試分析其亮度下降的原因。點亮該亮度異常的DOB 封裝LED 光源,測試其輸入電壓、輸入功率和輸入電流,結(jié)果如圖1 所示。由圖1 可知,樣品的輸入功率為0.5 W,輸入電流為2.366 mA,遠低于規(guī)格書標注的典型值(輸入功率為0.8~1.2 W、輸入電流為7 mA),因此初步判斷此DOB 封裝LED 光源亮度下降的原因是輸入電流過低,導(dǎo)致功率過低,從而影響LED 光源亮度。
圖1 失效樣品的電性測試結(jié)果
取1 只不良LED 光源進行X 射線測試,對其結(jié)構(gòu)和引線進行確認,未發(fā)現(xiàn)LED 光源內(nèi)部存在斷線異常,X 射線測試結(jié)果如圖2(a)所示。該光源由30 個串聯(lián)的LED 燈珠(負載)、4 個整流二極管組成的全橋整流(電源)以及1 個恒流IC 構(gòu)成。圖2(b)為該光源的電路結(jié)構(gòu)原理圖。
圖2 不良LED 光源的X 射線測試結(jié)果與電路結(jié)構(gòu)原理圖
2.3.1 負載與整流橋的電性分析
對不良光源與正常光源進行化學(xué)開封,使用高壓直流電直接點亮LED 串(負載),將電流設(shè)置為1~10 mA,間隔為1 mA,測試30 個LED 燈珠串聯(lián)時的總電壓,均未發(fā)現(xiàn)明顯異常。此外,對不良光源和正常光源的LED 串驅(qū)動電壓進行對比,也未發(fā)現(xiàn)異常,因此可以推斷光源亮度下降不是由LED 負載引起的。
該LED 光源通過4 只二極管芯片組合成全橋整流,對比不良光源和正常光源的整流橋輸出電壓波形,整流橋的輸出電壓波形和電壓均無異常,因此可排除整流橋異常使得功率偏低、導(dǎo)致光源亮度下降的可能性。
2.3.2 恒流IC 電性分析
取1 只不良光源,在其LED 串的兩端并聯(lián)LED串(由30 個LED 燈珠串聯(lián)而成),以減少原負載的電壓。示波器檢測到恒流IC 會提高電壓來起到恒流作用,圖3(a)(b)分別為并聯(lián)LED 串前后的不良光源IC波形圖,證明該IC 起到了恒流調(diào)節(jié)作用。撤去并聯(lián)的LED 串,使用示波器對不良光源的輸入電信號進行測試,圖3(c)為其測試結(jié)果。當輸入電壓為230 V、輸入功率為0.5 W 時,不良光源的電流波形峰值為6.4 mA,低于7 mA。將輸入電壓提高為250 V,輸入功率設(shè)置為0.6 W,未達到0.8~1.2 W,此時不良光源的電流波形峰值為6.4 mA,電流波形峰值沒有發(fā)生變化。結(jié)合2.3.1 節(jié)的分析,電路中的負載、整流橋均正常工作,對測試結(jié)果不存在干擾,可推斷該不良光源的恒流IC 存在異常。
圖3 使用示波器對光源恒流IC 進行測試的結(jié)果
隨機選取1 只不良光源,用物理開封的方法挑開失效IC 的封裝膠,在SEM 下可觀察到IC 表面紋理異常。失效IC 的表面形貌如圖4 所示。
圖4 在SEM 下觀察到的IC 表面形貌
另取3 只不良光源進行確認,同樣可觀察到其IC芯片表面形貌異常,且異常的位置多位于芯片的右上角。失效IC 的右上角形貌異常如圖4(c)所示。失效IC的頂面封裝膠形貌如圖4(d)所示,其與失效IC 表面的紋理結(jié)構(gòu)重合,由于IC 與頂面封裝膠直接接觸并貼合,這說明在點封裝膠前失效IC 已經(jīng)存在形貌異常。隨機抽取1 只未使用的正常光源的IC 進行觀察,可觀察到芯片表面形貌正常,如圖4(f)所示。正常光源的IC 右上角位置形貌清晰且規(guī)則,與失效IC 形貌存在較大的差異。
對不良光源的IC 異常位置進行FIB-SEM 截面分析,IC 異常位置的FIB-SEM 測試結(jié)果如圖5 所示。可以看到,芯片內(nèi)部存在蝕刻形貌異常,同時可觀察到有異物殘留和污染的情況。采用EDS 檢測芯片的表面和截面,可檢測到異物中Fe 元素含量較多,異物的EDS 測試結(jié)果如表1 所示。含F(xiàn)e 元素異物鑲嵌在芯片內(nèi)部會導(dǎo)致芯片內(nèi)部蝕刻線路異常,造成內(nèi)部功能單元失效,最終使集成電路功能偏離設(shè)計,局部或全部失效。
表1 異物的EDS 測試結(jié)果
圖5 IC 異常位置的FIB-SEM 測試結(jié)果
含F(xiàn)e 元素異物鑲嵌在芯片的內(nèi)部說明在芯片制程中存在異常??赡芤隖e 元素的工序很多,較常見的是由制造、測試設(shè)備或材料引入,如單晶硅提取設(shè)備、鍍膜設(shè)備、沉積設(shè)備、光刻機、顯影機、光刻液、清洗液等引入的污染,甚至在曝光時的黃光區(qū)環(huán)境污染也有可能引入Fe 元素。而Fe 元素的污染可能會覆蓋或阻擋光刻,導(dǎo)致內(nèi)部線路蝕刻異常,電路邏輯發(fā)生混亂,使得IC 功能偏離了實際的設(shè)計。
本文結(jié)合基礎(chǔ)電性測試、X 射線測試、示波器測試、SEM 測試、物理開封、FIB-SEM 測試和EDS 測試,分析得到了某型號DOB 封裝LED 光源亮度下降的根本原因是電源IC 功能異常。而該電源IC 失效原因為Fe 元素的殘留與污染造成的蝕刻異常,含F(xiàn)e 元素異物鑲嵌在芯片內(nèi)部,導(dǎo)致內(nèi)部蝕刻線路異常,造成內(nèi)部功能單元失效,最終使集成電路功能偏離設(shè)計,局部或全部失效。針對這些情況,建議晶圓廠加強對芯片制程的工藝管控,封裝廠加強芯片的來料檢驗,同時增加焊線后的檢測工序。