劉寶瑞,何紹棟,李立廣,隋 請,張春瑞,肖 越
(北京空間機(jī)電研究所,北京 100094)
為了滿足某光學(xué)遙感器光學(xué)鏡頭面形測試和穩(wěn)定性測試需求,需要研制一套深低溫降溫系統(tǒng),在現(xiàn)有環(huán)境模擬試驗設(shè)備所具備的真空(壓力≤1×10-4Pa)、冷黑(溫度≤100 K)環(huán)境基礎(chǔ)上進(jìn)行拓展,實現(xiàn)30 K 的深低溫冷黑背景[1-3]。
真空環(huán)境下傳熱方式以熱輻射和熱傳導(dǎo)為主。由于遙感器光學(xué)鏡頭組件的特殊性,熱傳導(dǎo)方式不僅易造成其光潔表面污染,且很難保證整個產(chǎn)品的溫度均勻性,故通過深低溫背景環(huán)境熱輻射方式來達(dá)到產(chǎn)品測試所需的工況溫度是最有效的方法[4-5]。目前實現(xiàn)深低溫背景環(huán)境多采用氦流程系統(tǒng),存在系統(tǒng)復(fù)雜、研制周期長及研制經(jīng)費(fèi)高等問題。
本文設(shè)計一種用于遙感器光學(xué)鏡頭降溫的深低溫降溫系統(tǒng),采用成熟的機(jī)械降溫式GM 制冷機(jī)技術(shù)建立30 K 深低溫背景環(huán)境,從而實現(xiàn)光學(xué)鏡頭(60±1) K 的溫控指標(biāo)。機(jī)械降溫的原理主要是連續(xù)進(jìn)行西蒙膨脹絕熱放氣降溫,由壓縮系統(tǒng)提供穩(wěn)定的高壓氣源,膨脹系統(tǒng)產(chǎn)生冷量。
系統(tǒng)應(yīng)能夠在真空低溫環(huán)境下實現(xiàn)產(chǎn)品溫度控制:工作環(huán)境的真空度優(yōu)于1×10-3Pa、溫度≤100 K;
控溫范圍60~300 K,60 K、160 K、200 K 時的溫度均勻性均優(yōu)于±1 K,平均升/降溫速率≥10 K/h,控溫精度優(yōu)于±1 K,溫度穩(wěn)定度優(yōu)于1 K/h。
深低溫降溫系統(tǒng)總體設(shè)計如圖1 所示,GM 制冷機(jī)冷頭安裝在真空容器法蘭上,通過導(dǎo)熱柱(導(dǎo)冷銅柱)和冷鏈(銅導(dǎo)熱索)將制冷機(jī)冷頭與深低溫背景艙(冷屏)連接。為了提高傳導(dǎo)效率,加快升/降溫速率,在各連接處采用銦片進(jìn)行導(dǎo)熱安裝[6]。
圖1 深低溫降溫系統(tǒng)設(shè)計示意Fig.1 Schematic of deep cryogenic cooling system design
深低溫降溫系統(tǒng)由深低溫背景艙、冷鏈、導(dǎo)熱柱、GM 制冷機(jī)、加熱器、溫度傳感器、溫控儀等組成,背景艙主要提供冷黑環(huán)境,冷鏈用于冷熱傳導(dǎo),導(dǎo)熱柱用于制冷機(jī)與冷鏈的連接,加熱器用于快速升溫,溫度傳感器用于實時監(jiān)測溫度變化,溫控儀作為控制儀表實現(xiàn)外部軟件溫度控制。
根據(jù)試驗?zāi)繕?biāo)搭建試驗驗證流程如圖2 所示。
圖2 低溫鏡頭驗證試驗流程Fig.2 Verication test procedure of cryogenic lens
深低溫降溫系統(tǒng)搭建完成后,環(huán)境模擬試驗設(shè)備建立真空環(huán)境,真空度達(dá)到10-2Pa 后熱沉加注液氮建立液氮冷背景環(huán)境,液氮的極限制冷能力在100 K 左右,要到達(dá)更低的溫度就需要啟動制冷機(jī)。通過前期液氮預(yù)冷,在冷背景溫度<150 K 后,啟動GM 制冷機(jī)開始建立深低溫背景環(huán)境,當(dāng)產(chǎn)品溫度達(dá)到目標(biāo)溫度±5 K 時,啟動溫控儀對深低溫背景艙進(jìn)行控溫,通過控制加熱器和制冷機(jī)的冷熱配合,使產(chǎn)品達(dá)到試驗所需工況目標(biāo)溫度[4]。
制冷系統(tǒng)應(yīng)用于真空環(huán)境,主要材料為無氧銅,傳熱方式以熱輻射和熱傳導(dǎo)為主[4,7]。系統(tǒng)熱負(fù)荷主要來自于系統(tǒng)預(yù)冷的熱負(fù)荷和輻射漏熱。深低溫背景艙內(nèi)側(cè)噴涂航天特種黑漆,表面發(fā)射率為0.9,以最低控溫需求60 K 進(jìn)行計算。制冷系統(tǒng)主要構(gòu)件的尺寸如表1 所示。
表1 制冷系統(tǒng)主要構(gòu)件尺寸Table 1 Dimensions of the main components of refrigeration system
1)系統(tǒng)預(yù)冷熱負(fù)荷為
式中:Cp為無氧銅材料比熱容,390 J/(kg·K);ms為系統(tǒng)總質(zhì)量,80 kg;ΔT為深低溫背景艙與熱沉溫度差,193 K;t為升降溫時間,36 000 s。計算得到系統(tǒng)預(yù)冷熱負(fù)荷Q1=167.2 W。
2)系統(tǒng)輻射漏熱為
式中:A1為系統(tǒng)外表面積,3 m2;A2為熱沉內(nèi)表面積,取無窮大;ε1為系統(tǒng)面對熱沉一面的吸收系數(shù),0.9;ε2為熱沉內(nèi)表面的吸收系數(shù),0.9;T1為深低溫背景艙溫度,60 K;T2為熱沉壁溫度,100 K。則計算得到背景艙溫度為60 K 時的系統(tǒng)輻射漏熱Q2=14.4 W。
得到所需制冷量為Q1+Q2=181.6 W,根據(jù)計算分析,選用CH110 系列制冷機(jī)可滿足設(shè)計需求[8]。GM 制冷機(jī)制冷量如圖3 所示。
圖3 GM 制冷機(jī)制冷量Fig.3 Refrigerating capacity of GM refrigerator
光學(xué)鏡頭為透鏡,在其兩側(cè)各設(shè)置1 個壁厚2 mm、外徑287 mm、長700 mm 的銅質(zhì)圓筒狀深低溫背景艙對鏡頭輻射制冷,冷源來自2 臺GM 機(jī)械制冷機(jī)。銅柱與深低溫背景艙之間通過4 根長1 m、直徑50 mm 的銅冷鏈連接,每個深低溫背景艙各連接2 根冷鏈,沿周向均勻布置。支撐鏡頭的鏡框主體材料為鈦合金,支架材料為銦鋼。
在2 個深低溫背景艙上分別布置加熱回路進(jìn)行加熱控溫。加熱器直徑6 mm、長20 mm,額定電阻25 Ω,額定功率25 W;采用30 mm×25 mm×10 mm 的銅塊進(jìn)行封裝,下表面加工成與深低溫背景艙緊密貼合的弧面,控溫?zé)崦舨贾迷诠鈱W(xué)鏡頭側(cè)面??販啬繕?biāo)為60 K、160 K 和200 K 時,加熱回路的控溫閾值分別設(shè)置為[59.5 K, 60.5 K]、[159.8K,160.2 K]和[199.8 K, 200.2 K]。
低溫鏡頭工作于100 K 真空罐內(nèi),控溫目標(biāo)為160 K/200 K 時,通過罐壁100 K 熱沉輻射即可將鏡頭降溫至目標(biāo)溫度,但是降溫速率較小。經(jīng)仿真分析,如圖4 所示,需要超過60 h 才能將鏡頭降溫至目標(biāo)溫度,無法滿足遙感型號的科研任務(wù)需求??販啬繕?biāo)為60 K 時,罐壁100 K 熱沉輻射無法將鏡頭溫度降至目標(biāo)溫度,須在鏡頭周圍設(shè)置深低溫背景艙,采用機(jī)械式制冷機(jī)對背景艙進(jìn)行輔助制冷,并在背景艙上設(shè)置加熱回路進(jìn)行控溫;通過控制背景艙的溫度實現(xiàn)對光學(xué)鏡頭的間接控溫,保證鏡頭控溫指標(biāo)及升降溫要求。由于鏡頭口徑較大,為滿足±1 K 的控溫精度和溫度穩(wěn)定度要求,需要對系統(tǒng)進(jìn)行合理設(shè)計及驗證。
圖4 無深低溫降溫系統(tǒng)時鏡頭降溫曲線Fig.4 Lens cooling curve without deep cryogenic cooling system
使用Thermal Desktop 軟件建立降溫系統(tǒng)熱分析模型時對其內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外形復(fù)雜的部件進(jìn)行了適當(dāng)簡化,如去掉圓角及不影響傳熱路徑的螺釘?shù)龋豢紤]內(nèi)部對輻射遮擋和導(dǎo)熱影響微弱的零部件[9-11]。簡化后的降溫系統(tǒng)熱分析模型如圖5 所示,并按照不同控溫目標(biāo)(工況)進(jìn)行仿真分析。
圖5 降溫系統(tǒng)熱分析模型Fig.5 Thermal analysis model of cooling system
1)鏡頭控溫60 K,鏡片為反射鏡,鏡片表面發(fā)射率設(shè)置為0.05 的工況。圖6(a)顯示,鏡頭溫度在59.9~60.70 K 之間,能夠?qū)崿F(xiàn)(60±1) K 的控溫要求;圖6(b)顯示,鏡頭從290 K 降溫至60 K 大約需要80 000 s,約22.2 h;圖6(c)顯示,鏡頭在1 h 內(nèi)的最大溫度波動凈值約為0.8 K,滿足1 K/h 的溫度穩(wěn)定度要求。
圖6 鏡頭控溫目標(biāo)為60 K 時的分析結(jié)果Fig.6 Analysis results of lens at temperature control target of 60 K
2)鏡頭控溫160 K,鏡片為透鏡,鏡片表面發(fā)射率設(shè)置為0.7 的工況。圖7(a)顯示,鏡頭溫度在59.9~60.70 K 之間,能夠?qū)崿F(xiàn)(60±1) K 的控溫要求;圖7(b)顯示,鏡頭從290 K 降溫至60 K 大約需要80 000 s,約22.2 h;圖7(c)顯示,鏡頭在1 h 內(nèi)的最大溫度波動凈值約為0.8 K,滿足1 K/h 的溫度穩(wěn)定度要求。
圖7 鏡頭控溫目標(biāo)為160 K 時的分析結(jié)果Fig.7 Analysis results of lens at temperature control target of 160 K
3)鏡頭控溫200 K,鏡片為透鏡,鏡片表面發(fā)射率設(shè)為0.7 的工況。圖8(a)顯示,鏡頭溫度在199.7~200 K 之間,能夠?qū)崿F(xiàn)(200±1) K 的控溫要求;圖8(b)顯示,鏡頭從290 K 降溫至200 K 大約需要35 000 s,約9.7 h;圖8(c)顯示,鏡頭在1 h 內(nèi)的最大溫度波動凈值約為0.3 K,滿足1 K/h 的溫度穩(wěn)定度要求。
圖8 鏡頭控溫目標(biāo)為200 K 時的分析結(jié)果Fig.8 Analysis results of lens at temperature control target of 200 K
仿真結(jié)果初步說明制冷系統(tǒng)能滿足對光學(xué)鏡頭的降溫需求。下面根據(jù)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計,進(jìn)行試驗驗證。通過試驗數(shù)據(jù)比對,提取數(shù)據(jù)曲線可以得出實際試驗結(jié)果,如圖9、圖10 所示??梢钥吹?,測點(diǎn)1 和測點(diǎn)2 的溫差在±1 K 以內(nèi),試驗形成的曲線狀態(tài)基本重合。試驗結(jié)果顯示,在真空熱試驗過程中,本文所設(shè)計的深低溫降溫系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)(60±1) K、(160±1) K、(200±1) K 的控溫目標(biāo),為低溫鏡頭的試驗驗證提供了較好的控溫方式。
圖9 深低溫背景艙降溫曲線Fig.9 Cooling curve of deep cryogenic background chamber
圖10 光學(xué)鏡頭控溫曲線Fig.10 Temperature control curve of optical lens
本文成功實現(xiàn)了遙感器光學(xué)鏡頭深低溫環(huán)境的地面試驗驗證,表明所設(shè)計的深低溫降溫系統(tǒng)能夠滿足光學(xué)鏡頭性能測試需求。其中,背景艙與鏡頭的非接觸設(shè)計避免了背景艙高低溫變形對鏡頭的影響;冷鏈設(shè)計避免了剛性連接產(chǎn)生的冷熱應(yīng)力,提高了連接的安全性;銦鋼支架的設(shè)計減少了熱損失,提高了系統(tǒng)控溫精度。
驗證試驗結(jié)果表明,降溫系統(tǒng)結(jié)構(gòu)形式設(shè)計合理,機(jī)械式制冷機(jī)的選取滿足降溫需求,光學(xué)鏡頭的控溫精度、溫度均勻度、溫度穩(wěn)定度均符合指標(biāo)要求,為后續(xù)型號的低溫光學(xué)鏡頭地面驗證提供了有力保障,同時提高了相關(guān)設(shè)備的研發(fā)能力。