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      鉭材在真空蒸鍍?cè)O(shè)備中的應(yīng)用

      2022-09-20 07:58:28程靜靜段彪王
      科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2022年26期
      關(guān)鍵詞:蒸汽壓鍍膜加熱器

      程靜靜,段彪王,李 寧

      (西安優(yōu)耐特容器制造有限公司,西安 710201)

      真空蒸鍍(vacuum evaporation),簡(jiǎn)稱蒸鍍,是指在真空條件下,用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)待蒸發(fā)物質(zhì),并使之氣化,氣化后粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù),具有成膜方法簡(jiǎn)單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)及性能獨(dú)特等優(yōu)點(diǎn)。

      2018年《科技日?qǐng)?bào)》報(bào)道的35項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)中真空蒸鍍機(jī)位列第5位。真空蒸鍍工藝有多種分類,由于電阻加熱蒸鍍裝置簡(jiǎn)單、操作方便、成本低和鍍膜易控制及模擬,被廣泛應(yīng)用。電阻加熱蒸鍍裝置的主要組成有:真空室、襯底、蒸發(fā)源、蒸發(fā)加熱器。電阻加熱蒸鍍裝置如圖1所示。

      圖1 電阻加熱蒸鍍裝置

      1 制約我國(guó)真空蒸鍍?cè)O(shè)備發(fā)展的因素

      制約我國(guó)真空蒸鍍機(jī)發(fā)展的因素眾多,其中用于制造蒸鍍機(jī)蒸發(fā)源的關(guān)鍵原材料鉭材及鉭材制零部件加工的問題尤為突出。鉭及鉭合金由于其熔點(diǎn)高、穩(wěn)定性能好和高溫下蒸汽壓低等性能,適合制作真空設(shè)備中的支撐附件、加熱器和隔熱屏等[1]。目前國(guó)內(nèi)從事真空蒸鍍機(jī)用鉭制零部件生產(chǎn)的企業(yè)寥寥無幾,導(dǎo)致真空蒸鍍機(jī)用鉭制零部件嚴(yán)重依賴進(jìn)口,并且國(guó)內(nèi)真空蒸鍍機(jī)用鉭制零部件生產(chǎn)制造存在諸多難點(diǎn)。

      1.1 鉭原材

      蒸發(fā)溫度1 000~2 000℃的材料常采用電阻加熱作蒸發(fā)源。一般要求蒸發(fā)源材料的熔點(diǎn)比蒸發(fā)工作溫度高1 000℃左右,平衡蒸汽壓低,高溫冷卻后脆性小,并且在真空環(huán)境中均有良好的化學(xué)穩(wěn)定性。故鉭材是真空蒸鍍蒸發(fā)源常見制作材料。

      鉭是略帶藍(lán)色的淺灰色金屬,密度大(16.5×103kg/m3)、熔點(diǎn)高(2 996℃)、線膨脹系數(shù)?。?~100℃之間為6.5×10-6K-1),富有延展性,韌性比銅更好,冷加工可拉成細(xì)絲或制成薄箔。鉭在300K時(shí)的熱導(dǎo)率為52.1W·(m·K)-1,室溫下彈性模量為192×103MPa[2]。國(guó)內(nèi)常見純鉭化學(xué)成分見表1[3]。

      表1 國(guó)內(nèi)常見純鉭化學(xué)成分

      表1中Ta1的鉭含量大于90.35%;Ta2的鉭含量為大于79.50%。然而普通真空蒸鍍用鉭材要求鉭材純度大于99.95%,在高端OLED蒸鍍機(jī)用鉭零件甚至要求鉭材純度大于99.99%。顯然采用現(xiàn)有牌號(hào)和標(biāo)準(zhǔn),無法達(dá)到真空蒸鍍用鉭材的基本要求,高純度鉭材的生產(chǎn)已經(jīng)成為制約真空蒸鍍機(jī)用鉭制零部件國(guó)產(chǎn)化的關(guān)鍵因素。

      鉭材內(nèi)其他金屬元素的熔點(diǎn)低(如Fe、Ni等)或平衡蒸汽壓高(如W)或穩(wěn)定性低(Ti),低純度鉭材在高溫蒸發(fā)時(shí),其他金屬元素則有可能分解蒸發(fā)或與蒸鍍室內(nèi)的其他分子進(jìn)行反應(yīng),造成薄膜成分偏離蒸發(fā)物材料成分。所以采用高純度鉭材零件進(jìn)行真空蒸鍍可以顯著減少蒸發(fā)源材料對(duì)鍍膜的污染。

      一般要求蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度小于蒸發(fā)源材料在蒸汽壓1.33×10-6Pa時(shí)對(duì)應(yīng)的溫度。常見金屬熔點(diǎn)和對(duì)應(yīng)平衡蒸汽壓溫度見表2[4]。

      表2 常見金屬熔點(diǎn)和對(duì)應(yīng)平衡蒸汽壓溫度

      1.2 鉭材零件的加工難點(diǎn)

      蒸發(fā)源的形狀各異,常見簡(jiǎn)單的蒸發(fā)源形狀有螺旋線狀、錐形籃狀、筒狀、舟狀和箱狀等。常見的蒸發(fā)源形狀如圖2所示。

      圖2 常見蒸發(fā)源形狀

      螺旋線狀及錐形籃狀蒸發(fā)源均為柱形蒸發(fā)源,常見的線徑為0.5~2 mm。箱狀、舟狀和筒狀蒸發(fā)源均為平面蒸發(fā)源,通常采用鉭箔制成,鉭箔厚度0.05~0.15 mm。隨著對(duì)蒸發(fā)源形狀的深入研究,目前也研發(fā)出了一些形狀比較復(fù)雜的蒸發(fā)源,如圖3所示。

      圖3 復(fù)雜形狀蒸發(fā)源

      復(fù)雜形狀的鉭蒸發(fā)源成形也是鉭蒸發(fā)源制造過程中的難點(diǎn)之一。鉭蒸發(fā)源在成形過程中經(jīng)常會(huì)由于模具設(shè)計(jì)不合理而出現(xiàn)各種各樣的成形缺陷,如減薄、起皺和撕裂等問題,且各部位的位置精度、形狀精度難于控制。對(duì)于鉭蒸發(fā)源的成形零件如本文中的Tolansky形蒸發(fā)源、Jacques形蒸發(fā)源等,其變形過程極其復(fù)雜,根據(jù)傳統(tǒng)的經(jīng)驗(yàn)和公式很難預(yù)測(cè)成形缺陷,按照傳統(tǒng)方法設(shè)計(jì)出來的模具也很難滿足實(shí)際產(chǎn)品的質(zhì)量要求,特別是對(duì)于成形質(zhì)量要求很高的復(fù)雜件更是如此。3D打印技術(shù)可以解決復(fù)雜鉭蒸發(fā)源成形中的各種問題,然而國(guó)內(nèi)鉭材的3D打印技術(shù),在鉭材純度和力學(xué)性能指標(biāo)等方面遠(yuǎn)不能達(dá)到蒸發(fā)源的各種要求。

      鉭制加熱器表面粗糙度要求極高,通常在0.1 μm以上,過于粗糙的表面不利于加熱器表面的待蒸發(fā)物蒸發(fā)。鉭材常溫下布氏硬度為890 MPa,硬度較軟,鉭制加熱器成品之前要經(jīng)過多個(gè)工藝的周轉(zhuǎn),所以鉭材蒸發(fā)源在加工時(shí)表面容易出現(xiàn)劃傷、凹坑和壓痕等表面缺陷。鉭材蒸發(fā)源制作完成后需要進(jìn)行表面處理,常見的表面處理有機(jī)械拋光、超聲波拋光、化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光等,其中超聲波拋光常用于常規(guī)工具不易到達(dá)的拐角和狹窄的部位,且可達(dá)到無磨削紋理。

      鉭材零部件的車削鉆銑加工十分困難,一方面由于切削加工時(shí)熱量的急劇增加,鉭材很容易與空氣中的氧氣、氫氣和碳等發(fā)生反應(yīng);另一方面,加工時(shí)鉭屑容易與刀具黏結(jié),造成加工精度的降低。所以在鉭材零部件的機(jī)械加工時(shí),易選擇高速鋼刀具,刀具慢速旋轉(zhuǎn),進(jìn)給量小,并應(yīng)選擇冷卻速率高的冷卻液,在精加工時(shí)經(jīng)常使用氟碳化物基的潤(rùn)滑劑[5]。

      1.3 鉭材的焊接難點(diǎn)

      由于鉭材十分昂貴,蒸發(fā)源的支撐夾持部件及一體成形十分困難的蒸發(fā)源多數(shù)情況下都采用分段成形,再組焊成整體的制造方法。鉭材在高溫下極易氧化,形成固溶體、金屬間化合物,導(dǎo)致強(qiáng)度、硬度增大而塑性、韌性下降,易出現(xiàn)晶粒粗大,形成氣孔及裂紋,對(duì)焊接造成了極大的困難;鉭的熱導(dǎo)率高,焊接需要的耗能偏大,但是焊接熱輸入偏大時(shí)易引起晶粒粗大;焊接熱輸入偏小時(shí)熔池熔化不良,因此,鉭的焊接必須選擇合適的焊接熱輸入以保證焊縫質(zhì)量[6]。

      目前國(guó)際上主要的鉭焊接方法包括鎢極惰性氣體保護(hù)焊、激光焊、電子束焊和爆炸焊等,由于熱影響區(qū)組織調(diào)控的需求,高能量密度的激光焊、電子束焊成為目前主流的焊接方法;鎢極惰性氣體保護(hù)焊由于在高溫階段升溫速度慢、易形成粗大的熱影響區(qū)組織,作為第一代熱源已逐步被替代[7]。由于蒸發(fā)源零件厚度薄,焊接過程容易出現(xiàn)熔化量過大導(dǎo)致變形、焊穿等問題,因此激光焊接是比較適合鉭蒸發(fā)源焊接的方法。

      2 結(jié)束語

      隨著真空蒸鍍領(lǐng)域科學(xué)技術(shù)持續(xù)發(fā)展,真空蒸鍍的應(yīng)用行業(yè)也越來越多。蒸鍍按照應(yīng)用領(lǐng)域的不同可以分為:光學(xué)功能鍍膜、電學(xué)功能鍍膜、機(jī)械功能鍍膜和化學(xué)功能鍍膜等裝飾鍍膜等。蒸鍍技術(shù)在光學(xué)功能鍍方面最重要的應(yīng)用就是在生產(chǎn)OLED屏的過程中,要通過真空蒸鍍的工藝將OLED有機(jī)發(fā)光材料精準(zhǔn)、均勻、可控地蒸鍍到玻璃基板上。蒸鍍工藝是OLED屏生產(chǎn)過程中難度最高的環(huán)節(jié)之一。真空蒸鍍機(jī)被譽(yù)為OLED面板制程中的“心臟”,然而目前我國(guó)在高端真空蒸鍍機(jī)制造中沒有什么發(fā)言權(quán)。

      核心技術(shù)及核心部件的缺失,阻礙了國(guó)內(nèi)高端領(lǐng)域行業(yè)的健康發(fā)展。在高端領(lǐng)域行業(yè)我國(guó)與歐美國(guó)家仍存在較大差距,希望從事鉭材生產(chǎn)加工的教授、工程師、企業(yè)及高校,從基礎(chǔ)材料生產(chǎn)做起,努力攻克真空蒸鍍機(jī)用鉭材生產(chǎn)及鉭零部件加工的“卡脖子”隱憂,從而助力我國(guó)從“制造大國(guó)”變成“制造強(qiáng)國(guó)”。

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