李瑞冬,鄒永剛,田 錕,王 睿,范 杰,蘭云萍
(長春理工大學 高功率半導(dǎo)體激光國家重點實驗室,吉林 長春 130022)
分布反饋(DFB)半導(dǎo)體激光器因具有結(jié)構(gòu)簡單、良好的模式特性及穩(wěn)定性等優(yōu)勢已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于激光通信、激光雷達以及泵浦光源等領(lǐng)域[1-4]。傳統(tǒng)的DFB半導(dǎo)體激光器是基于掩埋式光柵制作而成[5],其器件制作過程中所必須的二次外延生長容易在波導(dǎo)材料中引入雜質(zhì),導(dǎo)致非輻射復(fù)合增強、散射損耗增加,造成半導(dǎo)體激光器溫度升高、電阻增大等缺點[6-8]。為了降低器件的工藝難度,研究人員近年來逐漸對穩(wěn)定性較好的折射率耦合型表面光柵DFB半導(dǎo)體激光器展開研究[9-11]。相對于脊波導(dǎo)表面光柵,將光柵刻蝕在脊兩側(cè)的側(cè)向耦合脊波導(dǎo)(Laterally-coupled ridge-waveguide,LC-RWG)分布反饋半導(dǎo)體激光器可以實現(xiàn)電流的均勻穩(wěn)定注入。2012年,英國格拉斯哥大學報道了一種具有彎曲錐形LC-RWG分布反饋半導(dǎo)體激光器,其中,光柵刻蝕深度與脊型高度相等,并在光柵中間部分引入四分之一相移,在實驗中測得了耦合系數(shù)為24 cm-1,激光輸出功率210 mW時線寬64 kHz,邊模抑制比可達45 dB[12]。2017年,紐約州立大學石溪分校研制出耦合系數(shù)為1 cm-1、波長為3.22 μm的穩(wěn)定單模LC-RWG分布反饋半導(dǎo)體激光器,并實現(xiàn)了15 mW的輸出功率[13]。2018年,清華大學報道了一種1.3 μm光柵周期的LC-RWG分布反饋半導(dǎo)體激光器,其功率可達14 mW,邊模抑制比能夠達到40.8 dB[14]。
通常情況下,側(cè)向耦合光柵比脊表面光柵耦合系數(shù)更小,其主要是由于側(cè)向耦合光柵與光場分布之間的重疊(即光柵的光學限制因子)更小,所以需要增加刻蝕深度來補償光柵的耦合系數(shù)。然而,高深寬比光柵不易制備且深刻蝕到有源區(qū)會導(dǎo)致?lián)p耗增加,容易對器件性能造成嚴重的影響[15]。同時,側(cè)向耦合光柵的耦合系數(shù)對占空比等結(jié)構(gòu)參數(shù)也較為敏感,光柵制作工藝的精度將顯著影響半導(dǎo)體激光器的線寬、工作穩(wěn)定性等特性。因此,設(shè)計并優(yōu)化器件結(jié)構(gòu),實現(xiàn)對LC-RWG光柵耦合系數(shù)的合理調(diào)整具有重要意義。
通過設(shè)計側(cè)向耦合光柵結(jié)構(gòu),可以在一定程度上減少工藝精度對光柵耦合系數(shù)的影響。本文基于耦合波理論和有限時域差分法研究了6種特殊側(cè)向微結(jié)構(gòu)光柵的耦合特性,分別是對稱梯形、錯位梯形、對稱結(jié)形、錯位結(jié)形、雙對稱梯形和雙對稱結(jié)形,模擬分析了特殊結(jié)構(gòu)參數(shù)對光柵耦合系數(shù)的影響。
耦合系數(shù)κ是LC-RWG分布反饋激光器設(shè)計與分析的一個重要參數(shù)。耦合系數(shù)描述了光柵對光波的反饋耦合程度,激光器諧振腔中的前向波和后向波的相互耦合越強,其耦合輸出損耗越小,閾值增益越小[16]。根據(jù)耦合波理論,κ的一般表達式為[17]:
(1)
其中,k0是真空波矢量值,β是電磁波傳播系數(shù),E0是電場,Δε(x,y)是光柵引起的介電微擾。
對于掩埋異質(zhì)結(jié)構(gòu)光柵,普遍使用的標準公式為[18]:
(2)
其中,Гg是光柵區(qū)域中的光學限制因子,m是光柵的階數(shù),γ是光柵的占空比。公式(2)中用到了n1+n2≈2neff的近似值。但對于LC-RWG分布反饋激光器,公式(2)高估了耦合系數(shù)。另外,在使用公式(2)分析掩埋式光柵耦合系數(shù)時,忽略了光柵限制因子Гg隨占空比γ的變化[18]。因為對于傳統(tǒng)的掩埋式光柵,光柵限制因子Гg相對較小,橫向光場分布不會隨著占空比γ的變化而實質(zhì)性改變。但對于LC-RWG分布反饋激光器,隨著光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)的改變(包括占空比γ),橫向光場分布會發(fā)生顯著的變化,從而影響光柵限制因子Гg。因此,在分析和計算LC-RWG分布反饋激光器時,可將公式進一步優(yōu)化如下[19]:
(3)
通過以上理論分析可知,光柵占空比γ對LC-RWG分布反饋激光器的耦合系數(shù)有著顯著影響。光柵耦合系數(shù)與反射率具有如下關(guān)系[20]:
R=tanh2(κL),
(4)
其中,L為腔長。因此,本文基于以上理論分析特殊側(cè)向微結(jié)構(gòu)光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)對其反射率的影響,進而探究光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)與耦合系數(shù)的關(guān)系。
本文基于有限時域差分法,針對GaAs基材料體系LC-RWG分布反饋激光器,模擬分析光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)與反射率的關(guān)系。首先建立矩形光柵結(jié)構(gòu)模型,如圖1所示。n型波導(dǎo)厚度1.5 μm,折射率3.32;有源層厚度0.4 μm,折射率3.35;p型波導(dǎo)厚度0.8 μm,折射率3.32。設(shè)定工作波長λ=980 nm,光柵周期1.475 μm,占空比γ=l/Λ=0.8,光柵與脊型區(qū)高度h=0.7 μm,脊寬w=1 μm,光柵側(cè)向?qū)挾萻=2.5 μm。其耦合系數(shù)與反射率譜如圖2所示。
圖1 矩形光柵結(jié)構(gòu)示意圖。(a)三維圖;(b)側(cè)視圖;(c)俯視圖。Fig.1 Schematic diagram of the rectangular grating structure.(a)Three-dimensional drawing.(b)Side view.(c)Top view.
圖2 矩形光柵反射率譜Fig.2 Rectangular grating reflectance spectrum
從圖2可以看出,模型長度40 μm時矩形光柵結(jié)構(gòu)的反射率約為0.046,耦合系數(shù)約為54.2 cm-1。為了適當?shù)靥岣吖鈻诺鸟詈舷禂?shù),可以選擇增大光柵占空比和刻蝕深度來實現(xiàn)。然而,局限于工藝上的微負載效應(yīng)[21],高深寬比光柵不易制備。因此,我們設(shè)計了6種特殊側(cè)向微結(jié)構(gòu)光柵對上述結(jié)構(gòu)模型的耦合系數(shù)進行調(diào)節(jié),分別為一側(cè)梯形對稱的結(jié)構(gòu)a、一側(cè)梯形錯位的結(jié)構(gòu)b、一側(cè)結(jié)形對稱的結(jié)構(gòu)c、一側(cè)結(jié)形錯位的結(jié)構(gòu)d、兩側(cè)梯形對稱的結(jié)構(gòu)e和兩側(cè)結(jié)形對稱的結(jié)構(gòu)f,6種光柵結(jié)構(gòu)的制備可通過ICP干法刻蝕實現(xiàn)。如圖3所示,當6種光柵結(jié)構(gòu)的側(cè)壁縱向傾角θ同步發(fā)生變化時,相當于光柵溝槽寬度改變,等效占空比也隨之改變。
圖3 6種不同結(jié)構(gòu)的光柵俯視圖。(a)對稱梯形;(b)錯位梯形;(c)對稱結(jié)形;(d)錯位結(jié)形;(e)雙對稱梯形;(f)雙對稱結(jié)形。Fig.3 Top view of gratings with six different structures.(a)Symmetric trapezoid.(b)Misaligned trapezoid.(c)Symmetric junction.(d)Misaligned junction.(e)Bisymmetric trapezoid.(f)Bisymmetric junction.
圖4給出了6種結(jié)構(gòu)的側(cè)壁縱向傾角θ與耦合系數(shù)κ之間的關(guān)系。從圖中可以看出,隨著側(cè)壁縱向傾角的增大,6種結(jié)構(gòu)的耦合系數(shù)呈現(xiàn)出先升高后降低的趨勢。側(cè)壁縱向傾角增大,等效占空比隨之增大,對于LC-RWG分布反饋激光器,其光柵區(qū)域的有效折射率也隨之增大;同時,等效占空比增大,降低了光柵區(qū)域的光學對比度,進而使得更多的光能量進入光柵區(qū)域,從而提高了光柵區(qū)域中的光學限制因子及耦合系數(shù)。根據(jù)公式(3),耦合系數(shù)后續(xù)降低是因為等效占空比γ進一步增大,sin(πmγ)函數(shù)會呈現(xiàn)出先升高后降低的趨勢。6種結(jié)構(gòu)當中,結(jié)構(gòu)b、d的耦合系數(shù)分別比結(jié)構(gòu)a、c的耦合系數(shù)略高,是因為b、d兩種結(jié)構(gòu)可以類比于錯位光柵,相同光柵間距下,錯位光柵的占空比和光柵限制因子相對更高。結(jié)構(gòu)c、d的耦合系數(shù)均比結(jié)構(gòu)a、b的耦合系數(shù)更高,是因為c、d兩種結(jié)構(gòu)對等效占空比和光場分布的影響更大。較其余4種結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)e、f的耦合系數(shù)在更小的側(cè)壁縱向傾角1°時達到最大值且數(shù)值更大,是因為e、f兩種結(jié)構(gòu)隨著側(cè)壁縱向傾角增大時,等效占空比增大的速率更快。a、b、c、d 4種結(jié)構(gòu)和e、f兩種結(jié)構(gòu)側(cè)壁縱向傾角分別在1.4°~2°和0.8°~1.2°之間耦合系數(shù)變化平緩,因此可以將結(jié)構(gòu)設(shè)計在該側(cè)壁縱向傾角之間,有助于減少工藝誤差對耦合系數(shù)的影響。
圖4 6種結(jié)構(gòu)的側(cè)壁縱向傾角與耦合系數(shù)的關(guān)系Fig.4 Relationship between the longitudinal inclination of the sidewall of the six structures and the coupling coefficient
為了更好地分析這6種特殊微結(jié)構(gòu)光柵的耦合特性,圖5進一步研究了6種結(jié)構(gòu)的側(cè)壁縱向傾角θ與輸出損耗之間的關(guān)系(損耗=1-反射率-透射率)。從圖中可以看出,隨著側(cè)壁縱向傾角的增大,6種結(jié)構(gòu)的輸出損耗呈現(xiàn)出先降低后升高的趨勢。值得注意的是,6種結(jié)構(gòu)當中,e、f兩種結(jié)構(gòu)的損耗較其余4種結(jié)構(gòu)波動較大,但最低損耗較其余4種結(jié)構(gòu)更低且結(jié)構(gòu)f在側(cè)壁縱向傾角為0.8°時損耗僅為0.004 1。適當增大耦合系數(shù),減小輸出損耗,更有利于激光器獲得更高的輸出斜率效率。因此,在設(shè)計和制備激光器時,可以根據(jù)工藝參數(shù)和容差,選擇適當?shù)膫?cè)壁縱向傾角來避免耦合系數(shù)的波動、減小輸出損耗、并保證耦合強度κL在一個合理的設(shè)計范圍內(nèi),達到激光器性能穩(wěn)定的需求。
圖5 6種結(jié)構(gòu)的側(cè)壁縱向傾角與輸出損耗的關(guān)系Fig.5 Relationship between the longitudinal inclination of the sidewall of the six structures and the output loss
除光柵側(cè)壁縱向傾角之外,脊波導(dǎo)光柵的其他結(jié)構(gòu)參數(shù)(如脊寬、光柵側(cè)向?qū)挾纫约罢伎毡?的變動也會對其耦合性能產(chǎn)生影響。因此,選用輸出損耗相對較低的結(jié)構(gòu)f作進一步的模擬分析。
基于前文仿真獲得的側(cè)向光柵耦合調(diào)整方法和規(guī)律,我們針對器件(腔長為1 mm)的光柵進行了優(yōu)化。將模型長度增大至100 μm,設(shè)置目標光柵耦合系數(shù)在10 cm-1左右。
圖6給出了結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角θ與光柵限制因子Гg之間的關(guān)系。從圖中可以看出,當側(cè)壁縱向傾角從0.2°增大到2°時,光柵限制因子也隨之增大,證明了側(cè)壁縱向傾角的變化是通過改變光柵限制因子來進一步影響耦合系數(shù)。
圖6 結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角與光柵限制因子的關(guān)系Fig.6 Relationship between the longitudinal inclination of the sidewall of the structure f and the optical confinement factor of the grating
圖7給出了結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角θ、脊寬w與耦合系數(shù)κ之間的關(guān)系。不同脊寬時,耦合系數(shù)與側(cè)壁縱向傾角仍然滿足圖4中的關(guān)系。對于不同側(cè)壁縱向傾角的特殊微結(jié)構(gòu)光柵,當脊寬在1~3 μm增大時,耦合系數(shù)整體呈現(xiàn)出一個降低的趨勢。脊形區(qū)寬度增大,光柵限制因子會不斷減小,導(dǎo)致耦合系數(shù)降低。此外,當側(cè)壁縱向傾角在0.2°~0.6°之間時,隨著脊寬增大,耦合系數(shù)很快減小到飽和,這是因為光場被更多地限制在脊波導(dǎo)中,導(dǎo)致光柵限制因子不會進一步明顯減小。當側(cè)壁縱向傾角在1.6°~2°之間時,脊寬的變化對耦合系數(shù)的影響很小;同時,當脊寬在1.2~1.6 μm之間時,耦合系數(shù)會出現(xiàn)略微的波動。因此,在實際器件制備時,我們可以根據(jù)工藝條件來制備側(cè)壁縱向傾角相對較大、脊寬在1.6 μm以上的特殊微結(jié)構(gòu)光柵,不僅可以避免脊形區(qū)的刻蝕誤差對耦合系數(shù)的影響,還可以避免脊寬太小導(dǎo)致的高電阻、輸出功率低、腔內(nèi)損耗增加等不利因素。另外,其余5種結(jié)構(gòu)仿真結(jié)果與結(jié)構(gòu)f有著相似的規(guī)律。
圖7 結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角、脊寬與耦合系數(shù)的關(guān)系(s=2.5 μm,γ=0.77)。Fig.7 Relationship between the longitudinal inclination of the sidewall of the structure f,the ridge width and the coupling coefficient(s=2.5 μm,γ=0.77).
圖8給出了結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角θ、光柵側(cè)向?qū)挾萻與耦合系數(shù)κ之間的關(guān)系。當側(cè)向?qū)挾葟?.5~3.5 μm增大時,耦合系數(shù)整體呈現(xiàn)出一個上升的趨勢。側(cè)壁縱向傾角越大,耦合系數(shù)隨側(cè)向?qū)挾忍岣叩迷矫黠@。側(cè)向?qū)挾鹊脑龃?,使得光柵與光場的交疊區(qū)域增多,光柵限制因子與耦合系數(shù)升高。當側(cè)壁縱向傾角低于1°時,側(cè)向?qū)挾葘︸詈舷禂?shù)的影響較??;而當側(cè)壁縱向傾角高于1°時,光柵寬度對耦合系數(shù)的影響變大,尤其在1.4°~2°之間時,不同側(cè)向?qū)挾鹊鸟詈舷禂?shù)會出現(xiàn)明顯的變化,高低耦合系數(shù)差值達到18 cm-1。因此,設(shè)計側(cè)壁縱向傾角較低的特殊微結(jié)構(gòu)光柵更有利于減小光柵側(cè)向?qū)挾瓤涛g誤差對耦合系數(shù)的影響。
圖8 結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角、光柵側(cè)向?qū)挾扰c耦合系數(shù)的關(guān)系(w=1 μm,γ=0.77)。Fig.8 Relationship between the longitudinal inclination of the sidewall of the structure f,the lateral width of the grating and the coupling coefficient(w=1 μm,γ=0.77).
圖9給出了結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角θ、占空比γ與耦合系數(shù)κ之間的關(guān)系。不同側(cè)壁縱向傾角下,隨著占空比增大,耦合系數(shù)整體呈現(xiàn)出一個上升的趨勢。側(cè)壁縱向傾角越大,耦合系數(shù)隨占空比提高得越明顯。當占空比小于0.5時,側(cè)壁縱向傾角對耦合系數(shù)的影響很小,高低耦合系數(shù)差值小于3 cm-1;而當占空比大于0.5時,不同側(cè)壁縱向傾角的耦合系數(shù)會出現(xiàn)明顯的變化,高低耦合系數(shù)差值達到11 cm-1。這表明,設(shè)計低占空比的特殊微結(jié)構(gòu)光柵可以有效地降低耦合系數(shù)對側(cè)壁縱向傾角的敏感度,有利于增加側(cè)壁縱向傾角的工藝容差,降低工藝精度對特殊微結(jié)構(gòu)光柵耦合系數(shù)的影響。
圖9 結(jié)構(gòu)f的側(cè)壁縱向傾角、占空比與耦合系數(shù)的關(guān)系(w=1 μm,s=2.5 μm)。Fig.9 Relationship between the longitudinal inclination of the sidewall of the structure f,the duty cycle and the coupling coefficient(w=1 μm,s=2.5 μm).
本文在側(cè)向耦合脊波導(dǎo)分布反饋半導(dǎo)體激光器的基礎(chǔ)上,基于有限時域差分法對6種特殊側(cè)向微結(jié)構(gòu)光柵進行了模擬分析。研究結(jié)果表明,改變6種特殊側(cè)向微結(jié)構(gòu)光柵的側(cè)壁縱向傾角能夠有效地調(diào)節(jié)耦合系數(shù)以及輸出損耗。當對稱梯形、錯位梯形、對稱結(jié)形、錯位結(jié)形4種結(jié)構(gòu)和雙對稱梯形、雙對稱結(jié)形兩種結(jié)構(gòu)的側(cè)壁縱向傾角分別在1.4°~2°和0.8°~1.2°之間時,6種結(jié)構(gòu)的耦合系數(shù)變化平緩且輸出損耗較低;根據(jù)仿真結(jié)果,雙對稱結(jié)形的側(cè)壁縱向傾角分別在1.6°~2°和0.2°~1°之間時,能夠有效地緩解脊型區(qū)高度和光柵側(cè)向?qū)挾鹊目涛g誤差對耦合系數(shù)的影響;同時,當光柵占空比低于0.5時,耦合系數(shù)對側(cè)壁縱向傾角的敏感度很低,高低耦合系數(shù)差小于3 cm-1,這增加了光柵制作工藝的容差及側(cè)壁縱向傾角設(shè)計的靈活性,并降低了制作工藝缺陷對光柵性能的影響。通過設(shè)計特殊側(cè)向微結(jié)構(gòu)光柵來調(diào)節(jié)耦合系數(shù)可以避免深刻蝕、高深寬比等復(fù)雜工藝,更易于器件的制作。