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      燒結工藝對瓦特鎳鍍層抗腐蝕性能的影響

      2021-11-21 09:43:58鄭少華周光波袁禮華董旭坤胡年孫張勝南
      世界有色金屬 2021年15期
      關鍵詞:白亮腐蝕電流鍍鎳

      鄭少華,周光波,袁禮華,董旭坤,胡年孫,張勝南

      (中電科技集團重慶聲光電有限公司,重慶 400060)

      光電金屬外殼廣泛應用于激光器、光通訊、汽車電子等有氣密性要求的場合[1],其一般制作工藝流程為:燒結——噴砂——清洗——電鍍——清洗——烘干。在實際生產中為滿足后部工序要求,需對鍍鎳后的光電金屬外殼進行再次燒結,但再次燒結是否會給鍍層的理化性能及外殼使用要求帶來影響,該問題鮮有研究和關注,業(yè)內也未見該方面準確的數據可供參考[2-4],本工作采用美國BTU公司生產的鏈式燒結爐,對4J29合金電鍍瓦特鎳后進行燒結,分析了燒結工藝對鍍層形貌和抗腐蝕性能的影響。

      1 試驗

      1.1 鍍層制備

      采用10mm×10mm×1mm的4J29合金片(YB/T 5231-2005定膨脹封接鐵鈷鎳合金),其化學成分見表1。具體工藝流程為:除油——酸洗——電鍍瓦特鎳——去離子水洗——烘干,鍍液組成及工藝條件為:硫酸鎳150~250g/L;硼酸30~50g/L;氯化鎳30~50g/L;硫酸鎂30~50g/L;鍍液PH:4.0~4.5;溫度40℃;施鍍時間60min;電流密度:0.5A/dm2。

      表1 4J29合金的主要化學成分 Wt.%

      1.2 鍍層燒結

      燒結在TCA64-11-198E78B型鏈式燒結爐(美國BTU公司)中進行,整個熱處理過程通N2保護,N2流量20L/min,分別在840℃和920℃下保溫55min后隨爐冷卻至室溫。

      1.3 鍍層結構表征

      采用OLYMPUS公司STM6型顯微鏡觀察鍍層斷面形貌,測量鍍層厚度;采用FEI公司Inspect F50型場發(fā)射掃描電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope)表征分析鍍層顯微形貌。

      1.4 耐蝕性測試

      采用上海辰華公司CHI 650E型電化學工作站測試樣品的陽極極化曲線,電解池為標準三電極體系,樣品為工作電極,飽和甘汞電極為參比電極,鉑片作對電極,測試液為3.5%NaCl溶液,測試溫度25℃。極化曲線測試前,先進行開路電位Eocp掃描至電壓穩(wěn)定,然后在Eocp±250mV電勢范圍內進行測量,掃描速度5mV/s。

      2 結果與討論

      2.1 鍍層表面形貌

      圖1可知,沉積態(tài)晶界最多,晶粒最小,隨燒結溫度的升高,鍍層晶粒逐漸長大,晶界明顯減少,鍍層的致密性并未發(fā)生明顯改變,這說明高、低溫燒結后,鍍層的形變能力增強,硬度應是下降的[5]。

      圖1 不同燒結溫度下的鍍層表面SEM形貌

      2.2 鍍層金相

      通過STM6型顯微鏡對鍍層橫截面進行觀察,測量不同工藝下樣品表面鍍層厚度,每個試樣測量3個不同位置,取平均值。結果表明,沉積態(tài)表面鍍層較為均勻,平均厚度6.54μm;經840℃燒結后,鍍層有所增厚,平均厚度約6.87μm;燒結溫度達到920℃時,鍍層厚度很不均勻,平均厚度約7.18μm。

      從圖2還可以看出,燒結工藝處理后的鍍層厚度增加,但變得更加疏松了,除沉積態(tài)無擴散層外,經840℃和920℃燒結后,鎳鍍層均由外表面致密的白亮層和次表面疏松的擴散層構成[6]。沉積態(tài)的白亮層最為平整致密,平均厚度為5.36μm,擴散層厚度約為1.18μm;840℃燒結后,鍍層白亮層開始減薄疏松,擴散層變厚,鍍層中開始出現(xiàn)一些孔隙,此時白亮層厚度約為3.52μm,擴散層厚度約3.35μm;920℃高溫燒結后,鍍層中的孔隙增多,白亮層厚度約為4.98μm,擴散層厚度約為1.20μm,這可能是由于擴散層不斷增厚變致密而導致金相腐蝕假象所致,且擴散層與基材之間的界面呈現(xiàn)鋸齒狀。造成白亮層疏松的原因可能是鍍層中的鎳原子經燒結后,通過熱擴散向鍍層及基體內部遷移滲透造成,在遷移滲透的過程中,白亮層原子配位數呈現(xiàn)減小趨勢,晶格點陣間隙增多,反之擴散層原子配位數增大,排列越來越緊密??傮w來看,燒結溫度對鍍鎳層的結構影響比較明顯,但并未明顯改變鍍層厚度。

      圖2 不同燒結溫度下的鍍層截面金相

      2.3 耐蝕性測試

      圖3是樣品在3.5%NaCl溶液中的極化曲線??梢钥闯?,隨著鍍后燒結溫度的升高,極化曲線的自腐蝕電位不斷上移,沉積態(tài)自腐蝕電位為-480mV,840℃燒結后的自腐蝕電位為-450mV,920℃燒結后的自腐蝕電位為-410mV,表明沉積態(tài)的腐蝕傾向最高,耐腐蝕性能最差,這應該是不同燒結溫度導致鍍鎳層和基體金屬間發(fā)生擴散形成金屬間化合物,從而造成耐蝕性能的差異性。表2列出了3種工藝下的自腐蝕電位和自腐蝕電流密度,可以看出,鍍后燒結溫度越高,自腐蝕電流密度越小,鍍層經920℃燒結后的自腐蝕電流密度達到了0.24μA·cm-2,表現(xiàn)出了最佳的抗蝕性能??傮w來看,燒結溫度的改變對鎳鍍層的抗腐蝕性能雖有提升,但并不明顯。

      圖3 不同燒結溫度下的鍍層極化曲線

      表2 不同燒結溫度下的鍍層自腐蝕電位和自腐蝕電流密度

      3 結論

      ①鍍后燒結溫度越高,鍍層越厚,鍍層晶粒越粗大,晶界越少;②840℃燒結后鍍層分層最明顯,白亮層厚度約為3.52μm,擴散層厚度約3.35μm;920℃燒結后鍍層分層減弱,白亮層厚度約為4.98μm,擴散層厚度約為1.20μm;③鍍后燒結溫度越高,鍍鎳層自腐蝕電位越高,由原樣的-480mv增長至840℃和920℃燒結后的-450mv、-410mv。

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