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      Fenton氧化對有機硅廢水中硅氧烷的處理分析

      2021-08-13 08:56:52張志全
      商品與質量 2021年30期
      關鍵詞:硅氧烷有機硅水溶液

      張志全

      唐山三友硅業(yè)有限責任公司 河北唐山 063305

      1 測試

      1.1 關鍵原材料和設備

      有機硅原料污水:pH值6-8,硅氧烷質量分數≥1000×10-6,有機化學耗氧量≥8000Mg/L,自產自銷。過氧化氫(H2O2):質量分數30%,濟南英初化工廠高科技有限公司;七水合硫酸鋁:98質量%,河南省佛山市美源水處理材料有限公司;硫酸(按質量計31%),NaOH水溶液(按質量計32%):自產自銷。重鉻酸鉀:AR,武漢興中誠科技術有限公司;鹽酸:質量分數40%-55%,山東興化工廠銷售有限公司。絮凝劑(PAM):摩爾質量1200×104g/mol,陽離子度80%,山東諾爾生物技術有限公司。

      1.2 功能測試

      ICP-OES:將鹽酸和過濾后的污水以10:1的體積比混合,然后將它們放入微波消解儀中進行消除反應。然后,在ICP-OES檢查之后,獲得樣品(C)中硅的質量分數;硅;根據式1計算氧烷的去除率(η)。

      2 結果與討論

      2.1 Fenton空氣氧化法解決有機硅物料污水的基本原理

      Fenton測試試劑具有非常強的空氣氧化能力。在Fe2催化反應下,H2O2分解并轉化為·OH,這會導致大量其他氧自由基。·OH攻擊有機物以捕獲其中的氫,并將有機物轉化為小分子。用水或將其轉化為無機化合物,例如二氧化碳和水[1]。

      2.2 H2O2用量對硅氧烷去除率的危害

      調整反射管理系統(tǒng)的pH值為3,操作n(H2O2):n(Fe2)=5:1,在45℃下反射60分鐘,并檢查測試前后左右滲濾液中的硅氧烷含量。研究過氧化氫的量硅氧烷去除率的危害。

      2.3 n(H2O2):n(Fe2)對硅氧烷去除率的危害

      將管理系統(tǒng)的pH值調節(jié)至3,加入60mL的30%H2O2水溶液,固定反應溫度為45℃,反應速度為60min,改變FeSO4的用量,并根據左右濾液中的硅氧烷進行反應進行測試。研究n(H2O2):n(Fe2)對硅氧烷去除率的危害。

      從圖可以看出,隨著n(H2O2):n(Fe2)的增加,硅氧烷的去除率先增加然后降低。固定過氧化氫的量。當n(H2O2)∶n(Fe2)小于5∶1時,水溶液管理系統(tǒng)中Fe2的含量相對過多。當H2O2的量恒定時,n(H2O2):n(Fe2)的比率越小,F(xiàn)e2的含量越多,·OH的消耗就越多。因此,隨著n(H2O2)∶n(Fe2)的比率增加,相對Fe2含量降低,并且·OH的相對消耗降低。提高了系統(tǒng)軟件空氣氧化的實際效果;當n(H2O2):n(Fe2)超過5∶1時,水溶液中的Fe2濃度不足,無法合理地催化H2O2與·OH的反應,導致H2O2分解失敗。O2轉化率降低了硅氧烷的去除率。另外,鋼水化合物的轉化量也較少,這增加了斜板沉降池泥基的沉降時間,降低了斜板沉降池的實際效果。因此,n(H2O2):n(Fe2)選擇5:1。

      2.4 管理系統(tǒng)pH值對硅氧烷去除率的危害

      固定過氧化氫的添加量為60mL,n(H2O2):n(Fe2)=5:1,反射溫度為45℃,反應速度為60min。該調查反映了管理系統(tǒng)的pH值對硅氧烷去除率的危害。結果如圖1所示。

      圖1

      從圖可以看出,管理系統(tǒng)的pH值對硅氧烷去除率的危害發(fā)展趨勢與n(H2O2):n(Fe2)一致。管理系統(tǒng)的pH值在一個小時內過高,水溶液中的H濃度高,反映出Fe3HO2·→Fe2O2H被抑制,當遇到阻力時,F(xiàn)e3還原為Fe2,從而削弱了Fe3HO2·→Fe2O2H。Fenton測試試劑的空氣氧化能力,降低了去除硅氧烷的實際效果;當水溶液的pH值太高時,根據公式5,當水溶液中電離平衡中的OH-含量增加時,不僅會損害Fe2空氣氧化成Fe3的高效率,而且同樣會繼續(xù)降低管理體系中·OH的含量,F(xiàn)e2極易以氫氧化鎳的形式沉積,并且在pH值太高時會失去其催化反應能力[2]。

      3 結語

      為了解決揮發(fā)性聚硅氧烷在有機硅原料污水處理中的堵塞問題,采用芬頓空氣氧化法解決了有機硅原料污水中的硅氧烷問題,并對處理工藝進行了改進。隨著H2O2量的增加和反應速率的增加,污水中硅氧烷的去除率持續(xù)增加直至穩(wěn)定。隨著n(H2O2):n(Fe2)的增加,管理系統(tǒng)的pH值的增加和反射溫度的增加,二氧化硅的烷烴去除率先增加然后降低[3]。

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