劉 巖,秦 攀,洪文鵬
(1. 中電華創(chuàng)(蘇州)電力技術(shù)研究有限公司,蘇州 215123; 2. 東北電力大學(xué)能源與動力工程學(xué)院,吉林 132012)
細(xì)微顆粒物在日常生活和生產(chǎn)中普遍存在。粒徑小于10μm的顆粒能夠進(jìn)入上呼吸道甚至深入肺部,引起呼吸系統(tǒng)疾病[1-2];而10μm以上的顆粒沉積在室內(nèi)會導(dǎo)致材料退化,如藝術(shù)品和電子設(shè)備受損[3],如何降低室內(nèi)顆粒物濃度成為當(dāng)前建筑環(huán)境研究領(lǐng)域的熱點問題之一。建筑物中的通風(fēng)和空調(diào)系統(tǒng)作為室內(nèi)外空氣交換的主要場所,室內(nèi)顆粒濃度與顆粒在通風(fēng)和空調(diào)系統(tǒng)管道中的輸運及沉積現(xiàn)象密切相關(guān)[4]。
近幾十年來,許多學(xué)者從理論、實驗和模擬3個方面對粗糙壁面顆粒沉積機理和求解方法開展了大量研究。發(fā)現(xiàn)雖然通過理論[5-6]和實驗[7-10]得到的顆粒沉積速率和無量綱弛豫時間關(guān)系曲線變化趨勢一致,但是無量綱沉積速率差值最大達(dá)到1~2個數(shù)量級[4-9]。理論研究更多是根據(jù)實際經(jīng)驗得到半經(jīng)驗解,而實驗很難捕捉到所有重要信息,因此,僅通過理論和實驗對粗糙壁面顆粒行為研究具有一定挑戰(zhàn)。
目前計算流體力學(xué)(computational fluid dyna-mics,CFD)對顆粒沉積應(yīng)用比較廣泛,能夠提供更詳細(xì)的流場和顆粒行為信息。采用直接數(shù)值模擬、大渦模擬和分離渦模擬方法進(jìn)行求解計算成本過高,只有部分學(xué)者采用此方法對粗糙壁面表面粗糙度、顆粒再懸浮和多層沉積過程進(jìn)行研究[11-14]。相比以上3種方法,雷諾應(yīng)力模型應(yīng)用最為廣泛。學(xué)者們主要通過改變粗糙元布置方式[15-18]、形狀[19-20]、間距和高度[18,21],探索粗糙壁面多層沉積、顆粒沉積規(guī)律和不同位置沉積情況,還有學(xué)者采用Hertz-Mindlin接觸模型對大粒徑、非球體顆粒運動規(guī)律進(jìn)行初探[22-23]。
然而,以往對粗糙壁面顆粒沉積的研究大多簡化了顆粒沉積條件,即假設(shè)顆粒接觸壁面就會無條件發(fā)生沉積或沒考慮黏附作用,但實驗研究表明,即使是微米級顆粒,也會出現(xiàn)反彈現(xiàn)象,并且微米級顆粒間還存在黏附作用[24-25]。
因此,現(xiàn)采用計算流體力學(xué)-離散單元法(discrete element method,DEM)[26]耦合方法,模擬顆粒沉積過程,充分考慮顆粒-顆粒、顆粒-壁面間的接觸碰撞、反彈和黏附作用,對光滑和粗糙壁面顆粒沉積進(jìn)行模擬,分析顆粒粒徑、碰撞力、黏附力和二次流對顆粒沉積的影響,探索粗糙壁面顆粒趨壁沉積行為機理,不僅對促進(jìn)氣固兩相流動與沉積規(guī)律的研究有一定的理論依據(jù),還對室內(nèi)空氣品質(zhì)的改善和其他相關(guān)應(yīng)用具有一定的指導(dǎo)意義。
顆粒在壁面附近運動包括在流場中運動、沿壁面滑動和與壁面接觸黏附或反彈3個過程,采用CFD-DEM耦合模型進(jìn)行模擬,首先在Fluent中對氣相進(jìn)行求解,隨后在EDEM軟件中對顆粒相進(jìn)行計算,通過Fluent中UDF和EDEM中API接口實現(xiàn)耦合連接,部分耦合代碼如圖 1所示。
圖 1 部分耦合代碼Fig.1 The part of the coupled code
氣相視為不可壓縮流體,流體連續(xù)性方程和動量方程分別為
(1)
(2)
式中:ρ為空氣密度;t為時間;u為空氣速度;μ為空氣動力黏度;V為CFD網(wǎng)格單元的體積;FD為曳力,是顆粒物在流道中運動和沉積的主導(dǎo)作用力。
1.2.1 顆粒運動模型
顆粒受力包括重力、曳力、Saffman升力、顆粒-顆粒、顆粒-壁面之間的碰撞力和黏附力,顆粒發(fā)生碰撞和黏附及其受力示意圖如圖 2所示。
圖 2 顆粒碰撞、黏附和受力示意圖Fig.2 Schematic diagram of particle collision,adhesion and force
顆粒的運動方程為
(3)
式(3)中:mp為顆粒質(zhì)量;up為顆粒運動速度;FG為重力;Fad為黏附力;FC為顆粒受到的碰撞力;FS為Saffman升力;FAr為阿基米德浮力。
1.2.2 JKR接觸模型
采用Hertz-Mindlin with JKR Cohesion[27]接觸模型,考慮接觸區(qū)域內(nèi)范德華力對顆粒-壁面、顆粒-顆粒間的黏附作用,粒子黏附產(chǎn)生的力基于重疊量、相互作用參數(shù)和表面能,公式為
(4)
(5)
式中:E*為當(dāng)量彈性模量;R*為當(dāng)量半徑;α為接觸半徑;γ為表面能;δ為顆粒間重疊量,當(dāng)顆粒與壁面接觸時,視壁面為無窮大顆粒。
計算區(qū)域是三維底面布置矩形橫肋的粗糙流道(160 mm×20 mm×20 mm),底面均勻布置7個間距為20 mm的橫肋粗糙元結(jié)構(gòu),粗糙元高度e為2mm,計算域如圖 3所示。為了減少計算量和仿真時間,采用邊界函數(shù)分布法對入口速度和湍動能進(jìn)行初始化;出口采用自由出流邊界;在距離流道入口3R(R為顆粒半徑)處均勻釋放顆粒,當(dāng)顆粒全部沉積或流出流道視為模擬結(jié)束,主要模擬參數(shù)如表 1所示。
圖 3 計算域Fig.3 The computational domain
表 1 主要模擬參數(shù)Table1 The main simulation parameters
使用ICEM軟件對模型進(jìn)行網(wǎng)格劃分,粗糙結(jié)構(gòu)的存在使得流場變得復(fù)雜,為準(zhǔn)確預(yù)測顆粒-壁面的相互作用,對近壁面網(wǎng)格進(jìn)行加密,第一層網(wǎng)格高度為0.05mm,第一層網(wǎng)格質(zhì)心到壁面的無量綱距離y+為1.2,增長因子為1.2,結(jié)構(gòu)化網(wǎng)格,考慮到計算代價和準(zhǔn)確性等因素影響,經(jīng)網(wǎng)格無關(guān)性驗證,如圖 4所示,采用網(wǎng)格數(shù)為59.8×104的模型進(jìn)行計算。
圖 4 網(wǎng)格無關(guān)性驗證Fig.4 Grid independence verification
圖 5 粗糙結(jié)構(gòu)間氣流速度分布Fig.5 The air velocity distribution between rough structures
精確的湍流場是研究顆粒沉積的基礎(chǔ),有研究表明,流場在第Ⅳ個粗糙結(jié)構(gòu)后趨于穩(wěn)定。因此選取第Ⅵ和第Ⅶ個粗糙結(jié)構(gòu)間氣流速度與實驗值[28]進(jìn)行對比,發(fā)現(xiàn)吻合較好,如圖 5所示,說明采用雷諾應(yīng)力模型可以準(zhǔn)確預(yù)測粗糙流道的湍流場。
(6)
式(6)中:h為計算域高度;U0為平均流速;Ndep為壁面沉積的總顆粒數(shù)目;Nin為進(jìn)入流道總顆粒數(shù);u*為湍流摩擦速度;L為計算域的長度。
基于流動內(nèi)時間尺度的無量綱顆粒弛豫時間[30]為
(7)
式(7)中:S為氣固密度比;dp為顆粒直徑;Cc為坎寧漢系數(shù);ν為空氣動力黏度。
為了驗證數(shù)值算法的正確性,將光滑壁面顆粒無量綱沉積速率與經(jīng)典模擬[31-32]和實驗值[33-34]進(jìn)行對比,吻合較好,如圖 6所示。因為顆粒與壁面為點接觸,因此采用的JKR模型同樣可以準(zhǔn)確預(yù)測粗糙壁面顆粒沉積情況。
微米級顆粒受流場影響程度較大,研究顆粒在流場中的運動情況,首先對流場進(jìn)行分析。
從圖 7光滑和粗糙流道湍動能和流線分布可以看出,氣流在流經(jīng)粗糙結(jié)構(gòu)時邊界層發(fā)生分離,使粗糙結(jié)構(gòu)附近出現(xiàn)大小不一的湍流旋渦,增加對顆粒的卷吸作用,并且有垂直于流動方向的湍流脈動速度,顆粒趨壁速度得到提高,粗糙流道最大湍動能達(dá)到光滑流道湍動能的6.97倍,而光滑流道的流線幾乎與X軸平行,更易攜帶顆粒流出流道,不利于顆粒沉積。
圖 6 光滑壁面無量綱沉積速率對比驗證Fig.6 Comparison and verification of non-dimension deposition velocity on smooth surface
圖 7 光滑和粗糙流道湍動能和流線分布Fig.7 Turbulent kinetic energy and streamline distribution on smooth and rough surface
圖 8 粗糙和光滑壁面顆粒無量綱沉積速率對比Fig.8 The comparison of particle deposition velocity on rough and smooth surfaces
圖 9 2μm和3μm顆粒運動軌跡Fig.9 2μm and 3μm particle trajectories
圖 10 第Ⅰ個和第Ⅵ個粗糙結(jié)構(gòu)附近旋渦回流Fig.10 Vortexes near the first and the sixth rough structure
圖 11 50μm顆粒運動軌跡Fig.11 50μm particle trajectory
為進(jìn)一步探索顆粒沉積機理,首先從顆粒能夠與壁面接觸數(shù)進(jìn)行分析,經(jīng)統(tǒng)計,50μm顆粒與壁面接觸數(shù)為2μm顆粒與壁面接觸數(shù)的8.9倍,而50μm顆粒沉積速率僅是2μm的3.4倍,顆粒運動情況不僅受氣相流場影響,還與顆粒-壁面間碰撞力和黏附力有關(guān)。圖 12(a)、圖12(b)分別為2、5μm顆粒-壁面間黏附力和碰撞力對比情況,對于2μm的較小顆粒而言,其與壁面碰撞力和黏附力大小相當(dāng),因此旋渦卷吸是使小顆粒沉積的主要因素;而對于50μm相對粒徑較大顆粒,在0.05s,顆粒全部發(fā)生沉積或沿壁面滑動,在0.05s之前,顆粒-壁面碰撞力明顯大于黏附力,說明顆粒-壁面碰撞是使顆粒沉積速率減小的主要原因,而黏附力和自身慣性是顆粒沉積的主要因素。
圖 12 顆粒-壁面作用力對比Fig.12 Comparison of the particle-wall forces
由于法向和展向壁面的剪切作用,氣相在沿著主流方向運動過程中發(fā)生邊界層分離,使得在垂直于流動方向橫截面上壓力分布不均,流道壁面與流道中心之間壓力不平衡,壓力梯度驅(qū)使氣相在流道壁面與流道中心之間對流流動,形成二次流,其現(xiàn)象如圖 13所示。由于粗糙元的存在使得粗糙流道只在底部產(chǎn)生兩個明顯的旋渦,卷吸顆粒使其在底面兩側(cè)附近聚集。為了更直觀地看到二次流對不同粒徑顆粒沉積情況的影響,分別選取粒徑為5、20、50μm的顆粒進(jìn)行分析,顆粒沿X方向上的沉降情況的概率密度ζ(顆粒沉積數(shù)/顆粒總數(shù))分布如圖 14所示。由此看出5μm顆粒均勻分布在壁面兩側(cè),壁面中間位置基本不發(fā)生顆粒沉積,20、50μm的顆粒沉積絕大部分發(fā)生在粗糙壁面兩側(cè)附近,在壁面中間位置會有少部分沉積,在兩側(cè)壁面附近,50μm顆粒的概率密度將達(dá)到5μm的34倍。這是因為小顆粒由于自身慣性低而容易受到湍流二次流的影響,隨著顆粒直徑的增大,受重力和慣性的影響越大,越不容易被渦卷吸,從而發(fā)生沉積。
圖 13 粗糙流道二次流矢量分布Fig.13 The secondary flow vector distribution in rib-roughened channel
圖 14 顆粒沿X方向上沉降情況的概率分布Fig.14 The particles probability density distribution in the X direction
采用計算流體力學(xué)(CFD)-離散單元法(DEM)耦合模型對三維矩形光滑壁面和布置橫肋粗糙壁面的顆粒沉積進(jìn)行模擬計算,分析了單分散顆粒沉積過程,在研究分析過程中得出在渦擴散碰撞區(qū),粗糙壁面顆粒沉積速率大于光滑壁面顆粒沉積速率,特別是對于粒徑為2μm的顆粒,粗糙壁面顆粒沉積速率達(dá)到光滑壁面的32倍;在慣性緩沖區(qū),由于大顆粒碰撞作用較為強烈,使得粗糙壁面顆粒沉積速率反而小于光滑壁面顆粒沉積速率。由于二次流的影響,使得較小粒徑顆粒均勻沉積在壁面兩側(cè),中間位置幾乎不發(fā)生沉積,而對相對粒徑較大顆粒,大部分顆粒沉積在壁面兩側(cè),有少部分顆粒沉積在壁面中間位置,并且在壁面兩側(cè),50μm顆粒的概率密度將達(dá)到5μm的34倍。