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      2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布研究

      2021-06-18 06:17:04吳亞波王波王新軍李輝陳果李麗娟米雪
      機(jī)械工程師 2021年6期
      關(guān)鍵詞:散點(diǎn)參數(shù)估計(jì)剪切

      吳亞波, 王波, 王新軍, 李輝, 陳果, 李麗娟, 米雪

      (1.中國(guó)核動(dòng)力研究設(shè)計(jì)院 核反應(yīng)堆系統(tǒng)設(shè)計(jì)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,成都610213;2.西北工業(yè)大學(xué) 航空學(xué)院,西安710129)

      0 引言

      碳纖維增強(qiáng)碳化硅陶瓷基(C/SiC)復(fù)合材料不僅克服了陶瓷材料脆性斷裂的缺點(diǎn),還具備低密度、耐熱性高等優(yōu)越性能,在航天航空等國(guó)防工業(yè)尖端領(lǐng)域被視為最理想的備選材料[1-2],如高推重比航空發(fā)動(dòng)機(jī)的新一代熱結(jié)構(gòu)材料等。隨著C/SiC復(fù)合材料的應(yīng)用不斷推進(jìn),材料尺寸不斷增大,工作環(huán)境越發(fā)復(fù)雜,剪切應(yīng)力對(duì)C/SiC復(fù)合材料的力學(xué)性能、損傷進(jìn)程及失效模式都存在顯著的影響,因此研究材料的剪切性能就顯得十分必要。由于制備工藝等原因,材料細(xì)觀缺陷和宏觀性能分散性有直接關(guān)系[3],所以確定C/SiC復(fù)合材料的面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布規(guī)律對(duì)材料性能的研究和應(yīng)用具有重要的工程意義。大多數(shù)研究表明,雙參數(shù)Weibull分布可以較好地模擬陶瓷基復(fù)合材料的強(qiáng)度分布[4-7]。國(guó)內(nèi)主要針對(duì)陶瓷基復(fù)合材料拉伸和彎曲性能的分布規(guī)律進(jìn)行了相關(guān)研究[8-12],面內(nèi)剪切性能分布規(guī)律的研究報(bào)道較少[13]。國(guó)外一些專家學(xué)者關(guān)于強(qiáng)度分布的研究不僅僅局限于陶瓷基,對(duì)復(fù)合材料強(qiáng)度的統(tǒng)計(jì)分布特性進(jìn)行了全面系統(tǒng)研究,建立了準(zhǔn)脆性材料的強(qiáng)度概率分布模型,研究了陶瓷基微復(fù)合材料的拉伸強(qiáng)度分布規(guī)律[14-16]。

      本文對(duì)2D-C/SiC復(fù)合材料的面內(nèi)剪切強(qiáng)度性能進(jìn)行統(tǒng)計(jì)特性研究。以雙參數(shù)Weibull分布為模型,對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行參數(shù)估計(jì)和假設(shè)檢驗(yàn),確定了2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布規(guī)律,分析對(duì)比了分布函數(shù)獲得的強(qiáng)度預(yù)測(cè)值與實(shí)測(cè)值,研究了2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布。

      1 實(shí)驗(yàn)和試件

      2D-C/SiC復(fù)合材料的制備工藝采用化學(xué)氣相滲透(CVI)法。最終得到試件纖維體積含量約為40%,密度約為2.0 g/cm3,孔隙率約為19.5%。試件尺寸如圖1所示,試件厚度約4 mm,最窄凈截面寬度約為12 mm。依照ASTM C1292-00試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行面內(nèi)剪切試驗(yàn)。

      圖1 面內(nèi)剪切試件

      2 結(jié)果與分析

      2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布規(guī)律研究的數(shù)學(xué)原理為數(shù)理統(tǒng)計(jì)中的非參數(shù)檢驗(yàn)。主要步驟為:首先進(jìn)行概率分布的參數(shù)估計(jì);然后對(duì)概率分布進(jìn)行假設(shè)檢驗(yàn)。

      2.1 統(tǒng)計(jì)分析方法

      復(fù)合材料的斷裂強(qiáng)度、彎曲強(qiáng)度服從雙參數(shù)Weibull分布[9],因此采用雙參數(shù)Weibull分布進(jìn)行2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布特性研究。雙參數(shù)Weibull分布表達(dá)式為

      式中:α為Weibull分布的尺度參數(shù);β為形狀參數(shù),也稱為Weibull模數(shù),可以作為衡量數(shù)據(jù)分散性的指標(biāo),數(shù)值越大代表強(qiáng)度分散性越小,面內(nèi)剪切強(qiáng)度性能越穩(wěn)定。

      經(jīng)驗(yàn)失效概率S代替F(x,α,β)。將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)按由小到大排序,并依次記為S1,S2…S30,S代表在一定應(yīng)力水平下失效的經(jīng)驗(yàn)概率,定義如下[3,8]:

      2.2 參數(shù)估計(jì)

      采用線性回歸法進(jìn)行雙參數(shù)Weibull分布參數(shù)估計(jì),將式(1)中雙參數(shù)Weibull分布函數(shù)等式兩邊同時(shí)取對(duì)數(shù),得到一個(gè)Y=BX+A形式的線性函數(shù)等式,經(jīng)過(guò)數(shù)學(xué)運(yùn)算之后的分布函數(shù)為

      這樣,雙參數(shù)Weibull分布函數(shù)的參數(shù)就與線性函數(shù)的斜率和截距聯(lián)系起來(lái),只要通過(guò)線性擬合得到線性函數(shù)的斜率和截距,就可以解出雙參數(shù)Weibull分布的估計(jì)參數(shù),具體對(duì)應(yīng)關(guān)系如表1所示。

      表1 雙參數(shù)Weibull分布的估計(jì)參數(shù)

      以(X,Y)=(ln(xi),ln[ln(1/(1-Si))])為數(shù)據(jù)對(duì),繪制散點(diǎn)圖,利用Origin軟件對(duì)散點(diǎn)進(jìn)行線性擬合,線性擬合結(jié)果如圖2所示。由擬合結(jié)果可見,線性函數(shù)斜率為15.56,截距為-71.44,根據(jù)表1中的數(shù)學(xué)關(guān)系,可得雙參數(shù)Weibull分布的尺度參數(shù)α=98.62,Weibull 模 數(shù)β =15.56。至此已經(jīng)完成雙參數(shù)Weibull分布參數(shù)估計(jì),進(jìn)而可以得到2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布函數(shù)為

      圖2 線性回歸法參數(shù)估計(jì)結(jié)果

      2.3 假設(shè)檢驗(yàn)

      Kolmogorov是比較一個(gè)頻率分布f(x)與理論分布F(x)或者2個(gè)觀測(cè)值分布的檢驗(yàn)方法。假設(shè)從一個(gè)連續(xù)分布函數(shù)F(x)中取樣(X1,X2,…,Xn),可做假設(shè)如下:

      假設(shè)檢驗(yàn)及結(jié)果如表2所示。

      表2 Kolmogorov檢驗(yàn)計(jì)算和結(jié)果

      理論累積概率曲線和經(jīng)驗(yàn)失效概率散點(diǎn)對(duì)比圖如圖3所示,三角點(diǎn)為經(jīng)驗(yàn)失效概率散點(diǎn),線條為基于上文的估計(jì)參數(shù)的雙參數(shù)Weibull分布理論累積概率曲線,可見散點(diǎn)分散在曲線兩側(cè),散點(diǎn)的分布趨勢(shì)與曲線走向大致相同,表明雙參數(shù)Weibull分布較好地模擬了2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度的分布規(guī)律。

      圖3 理論累積概率曲線和經(jīng)驗(yàn)失效概率散點(diǎn)對(duì)比圖

      2.4 強(qiáng)度預(yù)測(cè)

      根據(jù)前文的研究表明,2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度服從雙參數(shù)Weibull分布,其累計(jì)概率分布函數(shù)如式(1)所示,可以得到概率密度分布函數(shù)如下:

      式中:f(x)為雙參數(shù)Weibull分布概率密度函數(shù);F(x)為雙參數(shù)Weibull分布累積概率分布函數(shù)。

      由式(6)可以得到雙參數(shù)Weibull分布的數(shù)學(xué)期望和離散系數(shù),分別如式(7)和式(8)所示:

      理論計(jì)算得到2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度服從雙參數(shù)Weibull分布的數(shù)學(xué)期望和離散系數(shù),如表3所示。由表3可知,數(shù)學(xué)期望和離散系數(shù)的理論預(yù)測(cè)值與實(shí)驗(yàn)值幾乎相同,說(shuō)明利用雙參數(shù)Weibull分布預(yù)測(cè)2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度是合理的。

      表3 強(qiáng)度預(yù)測(cè)結(jié)果

      3 結(jié)論

      以雙參數(shù)Weibull分布為模型,對(duì)2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度性能進(jìn)行參數(shù)估計(jì)和假設(shè)檢驗(yàn),確定了2DC/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布規(guī)律,分析對(duì)比了分布函數(shù)獲得的強(qiáng)度預(yù)測(cè)值與實(shí)測(cè)值,研究了2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度分布。結(jié)果表明,2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度服從雙參數(shù)Weibull分布,利用雙參數(shù)Weibull分布預(yù)測(cè)2D-C/SiC復(fù)合材料面內(nèi)剪切強(qiáng)度是合理的。

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