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      噴墨涂覆配向膜涂覆的質(zhì)量優(yōu)化

      2020-05-11 11:49:36韓海濱王強(qiáng)強(qiáng)
      液晶與顯示 2020年4期
      關(guān)鍵詞:涂覆噴墨基板

      王 平,聶 慧,李 煥,韓海濱,胡 晉, 馬 濤,王強(qiáng)強(qiáng),徐 濤,徐 祥,王 鵬

      (合肥京東方顯示技術(shù)有限公司,安徽 合肥 230011)

      1 引 言

      薄膜晶體管液晶顯示(TFT-LCD)是當(dāng)前顯示行業(yè)的主流工藝,隨著時(shí)代的進(jìn)步,液晶顯示產(chǎn)品客戶的數(shù)量和需求激增,客戶對液晶顯示產(chǎn)品在高分辨率、高開口率、低功耗等方面有著更高的要求。作為成盒工段第一站的配向膜涂覆工藝更是至關(guān)重要,因?yàn)榕湎蚰ぷ鳛殛嚵谢搴筒噬珵V光片基板的最底層材料,其涂覆品質(zhì)直接影響較高顯示畫質(zhì)性能的達(dá)成。目前隨著液晶顯示尺寸越來越大,產(chǎn)品厚度越來越薄,這種趨勢帶來了高視覺效果和便攜性等諸多優(yōu)點(diǎn)。而噴墨涂覆工藝本身的獨(dú)特優(yōu)勢最適合大尺寸玻璃基板的生產(chǎn)。

      隨著液晶產(chǎn)品的更新?lián)Q代,對更高畫質(zhì)和噴墨涂覆工藝涂覆質(zhì)量提出更高要求,實(shí)際生產(chǎn)中也出現(xiàn)了涂覆性膜面缺陷。本文也對噴墨涂覆工藝相關(guān)材料參數(shù)和設(shè)備參數(shù)進(jìn)行深入研究,對噴墨涂覆工藝涂覆質(zhì)量進(jìn)一步優(yōu)化。

      2 噴墨涂覆工藝的介紹

      噴墨涂覆工藝(Inkjet)是通過壓電陶瓷定量噴墨吐出實(shí)現(xiàn)配向膜溶液涂覆在玻璃基板上的一種涂覆方式[1]。

      其工作原理是將配向膜溶液通過壓力送入噴頭(Head)內(nèi),通過電流使噴頭內(nèi)的壓電陶瓷產(chǎn)生形變將配向膜溶液從噴孔內(nèi)吐出,利用噴頭或機(jī)臺(tái)的移動(dòng)形成高密度配向膜液滴,最后在表面張力的作用下使液滴擴(kuò)散后連接成膜。由于配向膜液滴擴(kuò)散作用影響較大,涂覆邊緣不宜控制,噴墨涂覆工藝不適合小尺寸液晶產(chǎn)品的涂覆生產(chǎn)[2]。但是其更加節(jié)省配向膜溶液,所以更加廣泛地使用在大尺寸液晶產(chǎn)品的涂覆生產(chǎn)中[3-4]。

      圖1 噴墨涂覆工藝設(shè)備[5]Fig.1 Inkjet equipment introduction[5]

      噴墨涂覆工藝設(shè)備由以下部分組成(圖1)。

      對位機(jī)臺(tái)(Alignment Table):用于放置玻璃基板且做對位的機(jī)臺(tái);

      噴頭龍門架軸(Head Shaft):移動(dòng)噴頭龍門架的軸,負(fù)責(zé)吐出的噴頭單員搭載在噴頭龍門架上,從而實(shí)現(xiàn)移動(dòng)涂覆的功能;

      廢液盤單元(Cap Unit):用來承載從噴頭內(nèi)噴出的液體的單元;

      真空擦拭單元(Wiping Unit):真空吸收粘著在噴頭面的多余液體,以及測量吐出量的單元;

      未吐出檢查(Inspection Unit):檢測噴頭位置的單元;

      供液單元:供應(yīng)配向膜溶液及其控制單元。

      3 噴墨涂覆質(zhì)量優(yōu)化方法

      噴墨涂覆工藝作為聚酰亞胺配向膜涂覆的方式之一,同轉(zhuǎn)印版輥筒涂覆方式一樣,也把焦點(diǎn)放在配向膜膜厚和膜面[5]。

      本論文通過調(diào)整噴墨設(shè)備吐出和材料相關(guān)參數(shù),對核心特性膜厚、膜面和畫質(zhì)提升進(jìn)行系統(tǒng)性研究。最后得出了可以滿足生產(chǎn)的最優(yōu)條件。

      3.1 配向膜膜厚質(zhì)量優(yōu)化

      配向膜膜厚通過配向膜膜厚測量設(shè)備測得,與轉(zhuǎn)印版輥筒涂覆方式不同(轉(zhuǎn)印版涂覆膜厚與轉(zhuǎn)印版凹坑深度、勻膠輥凹坑深度等強(qiáng)相關(guān)),噴墨涂覆工藝膜厚由配向膜材料的聚合物固型份含量、噴涂量、噴涂密度等決定。其膜厚計(jì)算公式為Dm×(1/Dp(縱)×1/Dp(橫))×固含量×(1-本燒成比例)。其中Dm(液滴量)為每滴吐出量大小,受電壓決定,液滴量=a*電圧+b(a、b為噴吐頭的特有屬性,是液滴量與電壓線性關(guān)系式的兩個(gè)參數(shù));Dp(滴液間距)為噴涂密度,分縱方向間距和橫方向間距。本燒成比例為聚酰亞胺配向膜溶液經(jīng)過主固化后去除的比例系數(shù)。

      在優(yōu)化噴墨涂覆整體膜厚之前,先進(jìn)行兩步重要的工作:一是優(yōu)化單個(gè)噴涂頭內(nèi)各個(gè)噴吐口的噴吐均一性;二是優(yōu)化噴涂頭相互間的噴吐均一性。

      首先進(jìn)行噴吐量測定,尋找每個(gè)噴涂頭的線性參數(shù)a和b,每個(gè)噴涂頭在制作后因其本身的壓電陶瓷差異造成a和b各不相同,每次進(jìn)行質(zhì)量優(yōu)化前均需測量,得到屬于每個(gè)噴涂頭噴涂量和電壓間的線性關(guān)系式,在后續(xù)進(jìn)行質(zhì)量優(yōu)化后只需調(diào)整電壓就可以實(shí)現(xiàn)。

      噴墨涂覆設(shè)備噴涂頭噴吐口初期狀態(tài)較差,表面各不相同,所以要優(yōu)化單個(gè)噴涂頭內(nèi)各個(gè)噴吐口的噴吐均一性。方法為測量以32個(gè)噴吐口為測量單位的噴吐量,每個(gè)噴涂頭有16組數(shù)據(jù)。通過設(shè)備自動(dòng)補(bǔ)正和后續(xù)量產(chǎn)中人工手動(dòng)補(bǔ)正調(diào)整噴吐量的差異性,使其噴吐均一,減少噴吐后可能產(chǎn)生的融合不良。如圖2所示,調(diào)整前噴吐量差異為10 pL,調(diào)整后為5 pL,減少了5 pL的差異。

      單個(gè)噴涂頭內(nèi)各個(gè)噴吐口的噴吐均一性優(yōu)化后,還需要優(yōu)化噴涂頭與噴涂頭相互間的噴吐均一性。方法為選取噴吐量最大的噴涂頭為基準(zhǔn),其他噴涂頭以最大值為基準(zhǔn),通過增加噴吐電壓,整體提升每個(gè)噴涂頭的噴吐量,減少噴涂頭間的膜厚差異,減少噴吐后可能產(chǎn)生的融合不良。如圖3所示,調(diào)整后噴涂量最大值為744.9 pL,最小值為733.9 pL,平均值為741.1 pL,均一性為0.74%,滿足小于1%的標(biāo)準(zhǔn)。

      圖2 噴出量測定結(jié)果Fig.2 Results of discharge amount

      3.1.1 噴吐頻率

      噴墨涂覆設(shè)備使用噴涂頭進(jìn)行涂覆,而噴涂頭為電壓控制,按照一定噴吐頻率進(jìn)行噴吐。本測試測量了在不同頻率下噴吐量的均一性,通過噴吐量可以反饋膜厚的涂覆均一性,以驗(yàn)證可使用的頻率范圍。

      測試條件為在上述調(diào)試好的噴墨涂覆設(shè)備條件下,選取部分噴涂頭,分別設(shè)定噴吐頻率為1 000,5 000,8 000,10 000 Hz,分別測得不同頻率下的吐出量。

      由圖4可以看出,不同設(shè)定噴吐頻率1 000,5 000,8 000,10 000 Hz下,測得實(shí)際噴吐量及其均一性有明顯差異性。當(dāng)噴吐頻率為1 000~8 000 Hz時(shí),噴吐量曲線較平穩(wěn),噴吐量均一性滿足要求;當(dāng)吐出頻率達(dá)到10 000 Hz時(shí),噴吐量嚴(yán)重不均一,均一性非常差,無法用于生產(chǎn)。原因?yàn)楫?dāng)高頻率噴吐時(shí),噴涂頭內(nèi)壓電陶瓷無法正常工作,造成機(jī)械形變較大或者損壞引起的形變不足。由實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可見,在進(jìn)行噴墨涂覆質(zhì)量優(yōu)化時(shí),噴吐頻率必須<10 000 Hz,實(shí)際大規(guī)模量產(chǎn)使用時(shí),在滿足量產(chǎn)節(jié)拍和設(shè)定膜厚參數(shù)的前提下,噴吐頻率越小,噴涂頭內(nèi)壓電陶瓷更能長久地使用。

      3.1.2 噴吐量

      由3.1.1節(jié)可知,在進(jìn)行噴墨涂覆質(zhì)量優(yōu)化時(shí),噴吐頻率必須<10 000 Hz。本測試測量了在不同頻率不同設(shè)定噴吐量時(shí)的噴吐量均一性,通過噴吐量可以反饋膜厚的涂覆均一性,以驗(yàn)證可使用的頻率范圍和噴吐量范圍。

      在上述調(diào)試好的噴墨涂覆設(shè)備條件下,選取部分噴涂頭,設(shè)定噴吐頻率為低頻率1 000 Hz、高頻率8 000 Hz共兩個(gè)頻率,在兩種頻率下,分別設(shè)定噴吐量為40,50,60,70,80 pL,測得不同條件下的噴涂量及其均一性。測試數(shù)據(jù)如圖5所示。

      圖5 噴吐量均一性Fig.5 Uniformity of discharge amount

      由圖5中可以看出,在低頻率1 000 Hz、高頻率8 000 Hz下,設(shè)定噴吐量為40,50,60,70 ,80 pL,不同條件下均可平穩(wěn)噴吐,測得實(shí)際均一性處于0%~10%。但是當(dāng)噴吐量超過80 pL時(shí),計(jì)算噴吐電壓超過設(shè)備能力,設(shè)備無法達(dá)到;低于40 pL時(shí),設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)a、b測量值異常,無法正常吐出。為確保噴吐的穩(wěn)定性,實(shí)際大規(guī)模量產(chǎn)使用時(shí),噴涂頻率多使用3 000 ~5 000 Hz,噴吐量多使用50 ~70 pL。

      3.1.3 不同標(biāo)的膜厚

      在上述調(diào)試好的噴墨涂覆設(shè)備條件下,分別設(shè)定理論膜厚為50.0,65.0,80.0,100.0,120.0,150.0 nm,理論膜厚為根據(jù)理論膜厚公式進(jìn)行計(jì)算可得(理論膜厚公式為多次膜厚測量修正公式所得),每個(gè)條件進(jìn)行素玻璃的涂覆,測試數(shù)據(jù)如由表1、圖6所示。

      圖6 不同目標(biāo)膜厚噴涂測試結(jié)果Fig.6 Film thickness at different target

      表1 膜厚測試結(jié)果Tab.1 Results of film thickness

      不同設(shè)定理論膜厚50.0,65.0,80.0,100.0,120.0,150.0 nm時(shí),測得實(shí)際膜厚及其均一性分別為54.7(4.0%),63.0(3.1%),78.9(5.0%),100.2(2.2%),127.2(3.4%),150.6 nm(3.8%)。實(shí)際膜厚較標(biāo)準(zhǔn)的理論膜厚差值分別為0,-2.0,-1.1,0.2,7.2,0.6 nm。由實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可見,測得的各個(gè)實(shí)際膜厚值與目標(biāo)理論膜厚的差值小于<10.0 nm,且后續(xù)可以修改噴吐密度來進(jìn)一步優(yōu)化。測得膜厚均一性均較好,都符合噴吐偏差小于5%的標(biāo)準(zhǔn)要求。由此可知,該臺(tái)噴墨涂覆設(shè)備具有較優(yōu)的噴涂膜厚及均一性的能力,待后續(xù)選擇具體設(shè)定膜厚時(shí),有能力調(diào)試好最優(yōu)的膜厚及其均一性以對應(yīng)量產(chǎn)[6]。

      3.2 膜面質(zhì)量影響研究

      通過上述噴墨涂覆工藝膜厚質(zhì)量優(yōu)化的準(zhǔn)備工作,優(yōu)化了單個(gè)噴涂頭內(nèi)各個(gè)噴吐口的噴吐均一性,優(yōu)化了噴涂頭與噴涂頭間的噴吐均一性。這些是膜面質(zhì)量優(yōu)化的前期工作,因?yàn)槟ず窬恍灾苯佑绊懥四っ婢恍?,噴涂量不均一,膜厚不均勻,直接反饋到宏觀膜面即為膜面不均勻。

      3.2.1 半月面負(fù)壓

      圖7 噴吐頭表面狀態(tài)Fig.7 Status of head nozzle

      除了上述膜厚質(zhì)量優(yōu)化條件外,膜面質(zhì)量還受半月面負(fù)壓狀況影響。噴墨涂覆工藝設(shè)備采用負(fù)壓控制噴涂頭噴吐口處配向膜溶液的狀態(tài),即半月面狀態(tài)。圖7中紅線為噴涂頭噴吐口處配向膜溶液的狀態(tài)。理論上噴吐口處液體內(nèi)凹的狀態(tài)為剛剛好,但是工程生產(chǎn)時(shí),人員無法通過數(shù)十微米級(jí)直徑的噴嘴判斷液體在里面內(nèi)凹的深度。通過實(shí)踐證明,通過圖7中第三種狀況,液體微凸,可以明確觀察噴嘴的狀態(tài),且滿足膜面要求。是實(shí)踐得出的有效觀察方法,在此種觀察方法下,這種噴嘴面最好。利于監(jiān)控且能滿足要求。

      負(fù)壓太大,液體被吸回噴涂頭內(nèi),造成未吐出引起膜面品質(zhì)惡化,負(fù)壓不足,配向膜溶液集聚在噴吐口處造成吐出膜厚偏厚,造成膜面品質(zhì)缺陷。

      在測試前,需要進(jìn)入噴墨涂覆設(shè)備中,目視觀察不同負(fù)壓條件下的噴涂頭噴吐口處配向膜溶液半月面的狀態(tài)。測試負(fù)壓為-4 000 Pa時(shí),目視半月面效果較好,所以選擇負(fù)壓中心值為-4 000 Pa。

      在上述調(diào)試好的噴墨涂覆設(shè)備條件下,在最優(yōu)膜厚參數(shù)條件下,圍繞負(fù)壓中心值-4 000 Pa,分別設(shè)定負(fù)壓增減量為+100,+0,-100,-200,-300 Pa,分別在ITO玻璃基板上涂覆,測試確認(rèn)宏觀膜面如表2、圖8所示。

      表2 負(fù)壓與膜面等級(jí)Tab.2 Negative pressure condition and film surface grade

      圖8 樣品e1~e5的負(fù)壓測試膜面情況Fig.8 Appearance of film(Sample e1~e5) in the negative pressure test

      由表2、圖8可以看出,圍繞負(fù)壓中心值-4 000 Pa,負(fù)壓增減量分別為+100,+0,-100,-200,-300 Pa, ITO玻璃基板上配向膜宏觀膜面各不相同。宏觀膜面評級(jí)分別為等級(jí)1.5、等級(jí)0、等級(jí)1、等級(jí)3、等級(jí)4,標(biāo)準(zhǔn)值為等級(jí)0~1.5。在中心負(fù)壓值的基礎(chǔ)上,減少負(fù)壓,噴吐頭口處配向膜溶液半月面往下凸度增加,使得噴吐量變大,膜面顏色變深;增大負(fù)壓,噴吐頭口處配向膜溶液半月面往下凸度減少,使得噴吐量減小,造成吐出量不足,在膜面上表現(xiàn)為細(xì)線未吐出缺陷,負(fù)壓繼續(xù)增大,半月面由往下凸出變成凹陷,吐出量更加不足,在膜面上表現(xiàn)為更大面積的細(xì)線未吐出缺陷。本次測試數(shù)據(jù)得出,在負(fù)壓中心值基礎(chǔ)上負(fù)壓±100 Pa時(shí),膜面最優(yōu),此時(shí)半月面達(dá)到最優(yōu)狀態(tài)。

      3.2.2 涂覆速度

      在上述調(diào)試好的噴墨涂覆設(shè)備條件下,在最優(yōu)膜厚參數(shù)條件下,分別設(shè)定涂覆速度為500(中心參數(shù),速度<500 mm/s,不滿足生產(chǎn)節(jié)拍),600,700,800 mm/s,分別在ITO玻璃基板上涂覆,測試確認(rèn)宏觀膜面如表3、圖9所示。

      表3 涂覆速度與膜面等級(jí)Tab.3 Printing speed and film surface grade

      圖9 樣品f1~f5的涂覆速度測試膜面情況Fig.9 Appearance of film(Sampl f1~f5)in the printing speed test

      由如表3、圖9可以看出,涂覆速度為500,600,700,800 mm/s, ITO玻璃基板上配向膜宏觀膜面各不相同。宏觀膜面評級(jí)分別為等級(jí)1、等級(jí)1.5、等級(jí)3、等級(jí)4,標(biāo)準(zhǔn)值為等級(jí)0~1.5;即涂覆速度為500 mm/s、600 mm/s時(shí),膜面質(zhì)量達(dá)到產(chǎn)品生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn);涂覆速度為700 mm/s、800 mm/s時(shí),出現(xiàn)涂覆污漬缺陷,膜面質(zhì)量達(dá)不到產(chǎn)品生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)需求。涂覆吐出量與吐出頻率成正比,與涂覆速度成反比。當(dāng)高速涂覆時(shí),噴涂頭必須使用高頻率涂覆(涂布設(shè)備生產(chǎn)廠家建議使用吐出頻率小于6 000 Hz),使得噴吐均一性變差,造成膜面質(zhì)量差。本次測試時(shí),基于PI液SE-6414(0348),當(dāng)涂覆速度為500 mm/s時(shí)(對應(yīng)5 000 Hz頻率),涂覆質(zhì)量最好,且能滿足大批量生產(chǎn)的產(chǎn)能需要。

      3.2.3 固含量

      聚酰亞胺配向膜溶液由溶劑和聚合物固型份組成,在后續(xù)工藝過程中,溶劑逐漸揮發(fā),聚合物留在了玻璃基板上,用來進(jìn)行取向使用。

      固型份的大小影響著噴涂頭的吐出和配向膜溶液擴(kuò)散的難易。固含量高,涂覆性差,但是成本會(huì)降低;固含量低,涂覆性好,但是成本會(huì)高,不具有經(jīng)濟(jì)效益。所以本論文對同一款配向膜溶液3種固含量下的涂覆膜面進(jìn)行測試,找到最優(yōu)的膜面質(zhì)量條件。

      在上述調(diào)試好的噴墨涂覆設(shè)備條件下,在最優(yōu)膜厚參數(shù)條件下,選用同一款配向膜溶液,固含量分別為:4.5%、4.3%、3.9%,在ITO玻璃基板上涂覆,宏觀膜面如表4、圖10和圖11所示。

      表4 PI固含量與膜面等級(jí)Tab.4 Solid content of PI and film surface grade

      圖10 樣品g1~g3的固含量測試膜面情況Fig.10 Appearance of film (Sampl g1~g3) in the solid content test

      圖11 樣品g1~g3的膜邊緣直線性Fig.11 Appearance of Sampl g1~g3 film edge

      由表4、圖10、圖11可以看出,同一款配向膜溶液,不同固含量4.5%,4.3%,3.9%,ITO玻璃基板上配向膜宏觀膜面和直線性各不相同。宏觀膜面評級(jí)分別為等級(jí)3、等級(jí)1.5、等級(jí)1,標(biāo)準(zhǔn)值為等級(jí)0~1.5。從數(shù)據(jù)可以得出固含量(3.9±0.4)%(固含量降低至3.5%,涂覆性會(huì)更好,但是低于3.5%成本會(huì)上升,不具有量產(chǎn)性)表現(xiàn)最優(yōu),此時(shí)配向膜溶液和涂覆設(shè)備噴涂頭參數(shù)完美契合,此時(shí)膜面質(zhì)量最優(yōu),配向膜邊緣直線性最優(yōu),無鋸齒狀不良。

      3.2.4 噴吐密度

      噴墨涂覆設(shè)備除噴吐電壓影響吐出量外,還可以微調(diào)噴涂密度進(jìn)行調(diào)整涂覆區(qū)域內(nèi)噴吐的疏密度,從而影響膜面的質(zhì)量,因而可以微調(diào)噴涂密度,找到最優(yōu)的膜面質(zhì)量條件。

      在上述調(diào)試好的噴墨涂覆設(shè)備條件下,在最優(yōu)膜厚參數(shù)條件下,選用同一款配向膜溶液,噴墨涂覆設(shè)備分別選用涂覆密度為50%,50.3%,50.7%,51.1%,60%,分別在ITO玻璃基板上涂覆,結(jié)果如表5、圖12、圖13和圖14所示。

      表5 噴涂密度與膜面等級(jí)Tab.5 Printing density and film surface grade

      圖12 樣品h1~h5噴吐圖案結(jié)果Fig.12 Printing pattern results of Sample h1~h5

      圖13 樣品h1~h5的噴吐液滴Fig.13 Spitting liquid drop of Sample h1~h5

      圖14 樣品h1~h5的涂覆密度測試膜面情況Fig.14 Appearance of Sample h1~h5 film in the printing density test

      由表5、圖12~14中可以看出,噴墨涂覆設(shè)備涂覆密度為50%,50.3%,50.7%,51.1%,60%, 噴涂設(shè)定圖案(黑色十字架為增加的吐出量,數(shù)量越多,涂覆密度越大)、實(shí)際噴吐液滴(圖中直徑較大液滴為設(shè)定黑色十字架的增大涂覆密度的實(shí)際液滴,大液滴數(shù)量越多,涂覆密度越大)、宏觀膜面(涂覆密度增大的樣品膜面顏色逐漸明顯)各不相同。宏觀膜面評級(jí)分別為等級(jí)1、等級(jí)1.5、等級(jí)2、等級(jí)3、等級(jí)5,標(biāo)準(zhǔn)值為等級(jí)0~1.5。從圖中可以看出,通過微調(diào)涂覆密度,設(shè)計(jì)噴涂設(shè)定圖案,實(shí)際噴吐液滴也會(huì)進(jìn)行相應(yīng)變化,宏觀膜面繼而發(fā)生變化。從膜面圖可以得出噴涂密度50%~50.3%表現(xiàn)最優(yōu),此時(shí)配向膜溶液和涂覆設(shè)備噴涂頭參數(shù)完美契合,此時(shí)膜面質(zhì)量最優(yōu)。且隨著涂覆密度的增大,膜面越來越不均一,體現(xiàn)在涂覆密度大的地方膜面偏厚。在實(shí)際大規(guī)模生產(chǎn)時(shí),當(dāng)膜面質(zhì)量出現(xiàn)如圖中惡化的狀況時(shí),一方面通過設(shè)備自動(dòng)補(bǔ)正改變噴吐密度來優(yōu)化膜面質(zhì)量;另一方面當(dāng)噴涂頭均一性超過規(guī)定值,出現(xiàn)明顯偏厚或偏薄,就需要通過手動(dòng)補(bǔ)正增大或減少噴吐密度來優(yōu)化膜面質(zhì)量[1]。

      4 結(jié) 論

      本文根據(jù)液晶顯示產(chǎn)品對噴墨涂覆工藝涂覆質(zhì)量要求更高的需求,對噴墨涂覆工藝進(jìn)行深入研究,對噴墨涂覆工藝涂覆質(zhì)量進(jìn)一步優(yōu)化。分析了噴吐頻率對噴吐量及其均一性的影響。當(dāng)噴吐頻率為1 000~8 000 Hz時(shí),噴吐量均一性滿足要求;當(dāng)吐出頻率達(dá)到10 000 Hz時(shí),噴吐量嚴(yán)重不均一,不滿足生產(chǎn)需求。噴吐量超過80 pL時(shí),計(jì)算噴吐電壓超過設(shè)備能力,設(shè)備無法達(dá)到;低于40 pL時(shí),設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)a、b測量值異常,無法正常吐出。為確保噴吐的穩(wěn)定性,實(shí)際大規(guī)模量產(chǎn)使用時(shí),噴涂頻率多使用3 000 ~5 000 Hz,噴吐量多使用50 ~70 pL。在負(fù)壓中心值±100 Pa時(shí),膜面最優(yōu),此時(shí)半月面達(dá)到最優(yōu)狀態(tài)。涂覆速度為500 mm/s、600 mm/s時(shí),膜面質(zhì)量達(dá)到產(chǎn)品生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn);涂覆速度為700 mm/s、800 mm/s時(shí),出現(xiàn)涂覆污漬缺陷,膜面質(zhì)量達(dá)不到產(chǎn)品生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)需求。配向膜溶液固含量(3.9±0.4)%時(shí),配向膜溶液和涂覆設(shè)備噴涂頭參數(shù)完美契合,此時(shí)膜面質(zhì)量達(dá)到量產(chǎn)水平。噴涂密度50%~50.3%時(shí),膜面質(zhì)量達(dá)到量產(chǎn)水平。隨著涂覆密度的增大,膜面越來越不均一,體現(xiàn)在涂覆密度大的地方膜面偏厚。在實(shí)際大規(guī)模生產(chǎn)時(shí),當(dāng)膜面質(zhì)量出現(xiàn)膜面不均的狀況時(shí),可以增大或減少噴吐密度來優(yōu)化膜面質(zhì)量。降低配向膜溶液固含量可改善涂覆性不均缺陷,改變吐出密度可改善涂覆性不均缺陷,畫質(zhì)質(zhì)量得到提升。本文對成盒工段配向膜涂覆質(zhì)量優(yōu)化取得了良好效果,能滿足工程實(shí)踐量產(chǎn)的需要。

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