宮貴貞,徐文,陳艷,董黎明,王曉輝
(徐州工程學(xué)院化學(xué)化工學(xué)院,江蘇徐州 221018)
材料是現(xiàn)代文明和技術(shù)進(jìn)步的基石,是人類社會(huì)生產(chǎn)和生活的物質(zhì)基礎(chǔ),與國家的經(jīng)濟(jì)發(fā)展、社會(huì)進(jìn)步和國家穩(wěn)定密切相關(guān),是國家綜合實(shí)力的重要標(biāo)志。相對(duì)于傳統(tǒng)材料,高分子材料是后起之秀,但發(fā)展速度及廣泛應(yīng)用性遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過傳統(tǒng)材料。但高分子材料大多難于降解,造成了嚴(yán)重的環(huán)境污染,開發(fā)可降解的高分子材料是目前急需解決的任務(wù)。
聚乙烯醇(PVAL)具有良好的生物相容性,在使用過后能夠被自然界的微生物分解成二氧化碳、水和一些其它低分子化合物,對(duì)環(huán)境沒有污染[1]。PVAL具有良好的氣體阻隔性、透明性、印刷性和耐有機(jī)藥品和有機(jī)溶劑性等,故其廣泛用于醫(yī)藥、食品、農(nóng)業(yè)、環(huán)境保護(hù)、涂料、粘接劑等眾多領(lǐng)域[2–5]。但其耐熱性差、易燃,限制了在某些領(lǐng)域的應(yīng)用[6]。有研究者采用共混、共聚等方法對(duì)其進(jìn)行改性[7–12]。近年來,有大量研究表明,納米材料與聚合物制備復(fù)合材料是改善聚合物使用性能的有效手段[13–15]。納米蒙脫土(MMT)價(jià)廉易得,其層間離子可交換和優(yōu)良的片層阻隔等特性,被普遍應(yīng)用于納米阻燃、有機(jī)吸附等方面。但是,MMT層間存在大量無機(jī)離子使其表現(xiàn)出親水疏油性,不利于其在聚合物基體中的分散,與聚合物界面的相容性差。MMT的表面及層間含有羥基,故可通過置換陽離子或其表面進(jìn)行改性,改善MMT的親油疏水性,提高與聚合物的相容性。筆者通過用十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)對(duì)MMT進(jìn)行改性,并用其對(duì)PVAL進(jìn)行改性,用傅立葉變換紅外光譜(FTIR)儀、差示掃描量熱(DSC)儀、掃描電子顯微鏡(SEM)等對(duì)其性能進(jìn)行分析。
CTAB:分析純,上海笛柏化學(xué)品技術(shù)有限公司;
氫氧化鈉、聚磷酸銨:分析純,上海麥克林生化科技有限公司;
MMT:K–10,分析純,上海麥克林生化科技有限公司;
PVAL:分析純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司。
電子天平:JA2003型,上海方瑞儀器有限公司;
電熱恒溫鼓風(fēng)干燥箱:DHG–9146A型,蘇州江東精密儀器有限公司;
恒溫加熱磁力攪拌器:DF–101S型,山東菏澤市祥龍電子有限公司;
真空循環(huán)水式抽濾機(jī):SHB–III型,山東菏澤市祥龍電子有限公司;
數(shù)顯恒溫油水浴鍋:B–260型,上海亞榮生化儀器廠;
真空干燥箱:DZF–6020型,上海精宏實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司;
隔膜真空泵:GM–0.33A型,天津市津騰實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司;
DSC儀:Q20型,美國TA公司;
萬能力學(xué)試驗(yàn)機(jī):WDW–W20型,承德金和儀器制造有限公司;
X射線衍射(XRD)儀:Ultima IV型,北京理化賽思科技有限公司;
FTIR儀:ALPHA型,德國布魯克公司;
SEM:SU8010型,日本日立公司。
稱取MMT 2 g加入到250 mL的三口燒瓶中,并加入100 mL的去離子水,超聲震蕩30 min,滴加少量0.1 mol/mL NaOH溶液,將MMT分散液的pH值調(diào)到8~9。稱取1.2 g CTAB溶于30 mL的去離子水中,微熱攪拌至完全溶解,逐滴滴加到上述分散液中,升溫至80℃左右,強(qiáng)力攪拌2 h,然后冷卻,過濾,洗滌,直到無Br-(用AgNO3溶液檢測(cè)無沉淀)為止,于90℃真空干燥,研磨,得到有機(jī)改性的蒙脫土(OMMT)。
分別稱取上述改性過的OMMT 0.25,0.5,1.0,1.5,2.0 g加入20 mL去離子水,于55℃下超聲震蕩30 min,同時(shí)稱取10 g的PVAL于250 mL的三口燒瓶中,加100 mL去離子水,于水浴鍋中邊升溫邊攪拌至90℃,保溫強(qiáng)力攪拌1 h左右,直至PVAL顆粒完全溶解,加入OMMT的分散液,繼續(xù)加熱攪拌2~3 h,形成均一透明液體,濃縮為粘稠液體。在玻璃皿上流涎成膜,室溫下自然風(fēng)干一段時(shí)間,玻片上的涂膜稍微固化后,移入真空干燥箱中,于溫度80℃下,干燥3 h,得到OMMT不同含量的5組PVAL/OMMT復(fù)合膜樣品,OMMT含量分別為2%,5%,9%,13%,17%。
FTIR分析:溴化鉀壓片測(cè)試,用溴化鉀作背景掃描,掃描范圍為4 000~400 cm-1。
力學(xué)性能測(cè)試:將樣品裁成80 mm×20 mm的矩形條狀,厚度1 mm。調(diào)整夾具之間的距離為50 mm,設(shè)定拉伸速度為20 mm/min,把樣條夾在萬能力學(xué)試驗(yàn)機(jī)的夾具上,并用內(nèi)六角工具固定。在電腦的對(duì)應(yīng)軟件上設(shè)定好樣品寬度、樣品厚度、試樣標(biāo)距以及拉伸速度等參數(shù)后,開始進(jìn)行拉伸實(shí)驗(yàn)。待樣條被拉斷后,停止實(shí)驗(yàn),記錄實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。
DSC分析:實(shí)驗(yàn)使用DSC儀對(duì)試樣進(jìn)行測(cè)量,設(shè)置氮?dú)饬髁繛?0 mL/min,升溫速率為10 ℃/min,將試樣從40 ℃升溫至400℃得到DSC曲線。
SEM分析:試樣在液氮中冷凍脆斷表面噴金。在加速電壓為15 kV的條件下使用SEM觀察材料斷面的形貌。
XRD分析:利用XRD儀為立式測(cè)角儀,掃描方式選擇入射角固定轉(zhuǎn)動(dòng)模式,Cu靶發(fā)射X射線,Ni片濾光,管流為40 mA,管壓為40 kV,掃描速度為5°/min,掃描范圍為0~45°。
圖1為MMT改性前后的FTIR圖,兩物質(zhì)在521,463,1030,3 625 cm-1附近均有吸收峰,其中521 cm-1附近均有鋁氧四面體(Al—O)的彎曲振動(dòng)峰,463 cm-1處吸收峰為Si—O—M (金屬陽離子)和M—O的耦合振動(dòng)具有吸收峰,1 030 cm-1處為Si—O的伸縮振動(dòng)峰;1 500 cm-1左右的吸收峰為MMT片層之間吸附的無機(jī)陽離子Mg2+,Na+特征峰;3 625 cm-1處的峰形尖銳,且無其他峰干擾,為游離基O—H的伸縮振動(dòng)峰,這是由于MMT片層間少量結(jié)合水和緊密結(jié)合水共同作用的緣故,說明CTAB改性MMT沒有破壞其片層主體結(jié)構(gòu)。在OMMT的FTIR圖 中,2 961 cm-1及2 845 cm-1處出現(xiàn)新的吸收峰,其是C—H伸縮和彎曲振動(dòng)的特征吸收峰,1 470 cm-1附近有C—N彎曲振動(dòng)收縮峰。上述事實(shí)表明插層劑CTAB的有機(jī)長鏈已成功插入到MMT的片晶層內(nèi),生成了OMMT。
圖1 MMT改性前后FTIR圖
圖2 是OMMT含量為0%,2%,5%,9%,13%,17%的PVAL/OMMT復(fù)合膜的拉伸強(qiáng)度和斷裂伸長率。添加OMMT后的薄膜拉伸強(qiáng)度較純的PVAL膜有所提升,隨著OMMT添加量的增加,拉伸強(qiáng)度呈現(xiàn)先增加后降低趨勢(shì),當(dāng)含量為9%時(shí)達(dá)到最大,比純PVAL膜提高了近50%。這是由于OMMT被剝離成片層分散在PVAL基體中,與基體接觸面積大,界面作用力強(qiáng),拉伸能量易于向基體傳遞[16],添加量太多,出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象,導(dǎo)致拉伸強(qiáng)度降低。復(fù)合膜的斷裂伸長率隨著OMMT的含量增加而逐漸降低,這是因?yàn)镺MMT剝離的片層與PVAL基體之間的結(jié)合限制了PVAL分子的熱運(yùn)動(dòng)和塑性形變,受到外力沖擊時(shí)塑性形變受到限制,因此斷裂伸長率降低,OMMT含量越大,斷裂伸長率下降越快。
圖2 不同OMMT含量時(shí)PVAL/OMMT納米復(fù)合材料的拉伸性能
圖3 為不同含量OMMT的PVAL/OMMT復(fù)合材料及純的OMMT的XRD圖。純PVAL在2θ=20°出現(xiàn)衍射峰,峰型尖銳且較強(qiáng),說明所用PVAL結(jié)晶性較好。OMMT有多個(gè)小尖銳衍射峰。PVAL中添加OMMT含量在13%以下時(shí),PVAL/OMMT的衍射峰形狀和位置與純的PVAL相似,沒有OMMT的特征峰出現(xiàn),PVAL/OMMT的峰型更尖銳,說明OMMT使PVAL分子有序性更好。在OMMT含量為17%時(shí),2θ=28°出現(xiàn)OMMT的一特征衍射峰,同時(shí)出現(xiàn)幾個(gè)不同于PVAL及OMMT的新的銳峰。
圖3 純PVAL,OMMT及PVAL/OMMT材料的XRD圖
圖4為不同含量OMMT的PVAL/OMMT復(fù)合材料的DSC圖。從圖4中可以看出,在80~85℃的范圍內(nèi),6條曲線都有一微弱的吸熱峰,是玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,因?yàn)镻VAL是結(jié)晶性聚合物,所以玻璃化轉(zhuǎn)變溫度不明顯。熔融吸熱峰出現(xiàn)在215℃左右,隨著OMMT含量增加,熔融溫度略有增加。在255℃左右出現(xiàn)一大的吸熱峰,是分子鏈開始分解斷裂所產(chǎn)生,隨著OMMT含量增加峰面積減少,說明分解程度降低,復(fù)合材料熱穩(wěn)定性提高。
圖4 不同含量的OMMT改性PVAL薄膜的DSC圖
不同含量OMMT的PVAL/OMMT復(fù)合膜的SEM如圖5所示。PVAL/2% OMMT,PVAL/5% OMMT及PVAL/9% OMMT的復(fù)合膜表面均勻、光滑,平整度良好,PVAL與OMMT之間沒有明顯的界限及聚集現(xiàn)象,說明相容性好。隨著OMMT的添加量增多,PVAL與OMMT相容性變差,OMMT分布不均勻,出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象。13%添加量時(shí)海島現(xiàn)象已較嚴(yán)重,添加量達(dá)到17%時(shí),團(tuán)聚成大塊,印證了力學(xué)性能的變化情況。
圖5 PVAL/OMMT材料的SEM圖
(1)通過FTIR對(duì)CTAB改性MMT的產(chǎn)物進(jìn)行表征,結(jié)果表明,CTAB成功進(jìn)入MMT結(jié)構(gòu)中,成功制得OMMT。
(2)通過溶液共混、流涎成膜的方法,成功制得不同含量的PVAL/OMMT復(fù)合膜,DSC顯示復(fù)合材料熱穩(wěn)定性提高。
(3)隨著OMMT添加量的增加,復(fù)合膜斷裂伸長率降低,拉伸強(qiáng)度呈現(xiàn)先增加后降低趨勢(shì),當(dāng)含量為9%時(shí)達(dá)到最大;SEM顯示含量9%時(shí),OMMT與PVAL相容性最好,表面光滑,含量再增加,出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象,力學(xué)性能受到影響。