LC/MSn法快速分析拉氧頭孢鈉原料的雜質(zhì)譜

李進 姚尚辰 胡昌勤

(中國食品藥品檢定研究院，北京 102629)

雜質(zhì)控制是藥品質(zhì)量控制的關(guān)鍵要素之一。人用藥品注冊技術(shù)要求國際協(xié)調(diào)會議(ICH)規(guī)定，應(yīng)對表觀含量高于0.1%的雜質(zhì)進行定性研究[1]，歐洲醫(yī)藥管理局(EMA)則對發(fā)酵以及半合成來源的抗生素中的雜質(zhì)限度進行了嚴(yán)格的要求[2]。隨著中國正式成為ICH的成員國，嚴(yán)格按照ICH指南的要求進行新藥和仿制藥的雜質(zhì)控制勢在必行，這對中國藥品的雜質(zhì)控制水平也提出了新的挑戰(zhàn)。近年來，隨著色譜分離技術(shù)的發(fā)展，雜質(zhì)控制的理念也由單純的雜質(zhì)限度控制發(fā)展到雜質(zhì)譜控制。雜質(zhì)譜分析可概況為雜質(zhì)的分離、結(jié)構(gòu)確證和毒性評估3部分，采用在線LC/MSn技術(shù)對藥品中的雜質(zhì)結(jié)構(gòu)進行快速確證是目前雜質(zhì)譜分析中最具有挑戰(zhàn)的工作之一[3]。β-內(nèi)酰胺類抗生素因其化學(xué)結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定，容易發(fā)生降解反應(yīng)，造成其雜質(zhì)的種類和數(shù)量均明顯高于其他類化學(xué)藥品。因此，該類抗生素的雜質(zhì)譜研究越來越受到關(guān)注。拉氧頭孢鈉屬于第三代頭孢菌素，是由日本鹽野義制藥有限公司研發(fā)生產(chǎn)的，該藥物對多數(shù)革蘭陰性菌具有抗菌作用，并且對β-內(nèi)酰胺酶具有良好的耐受性，在臨床上廣泛使用。

查閱各國藥典可知，美國藥典41版、歐洲藥典9.0版、英國藥典2018年版均未收載該品種。日本藥典XVI版[4]收載了該品種，在有關(guān)物質(zhì)項下采用RPHPLC法進行等度洗脫，僅對1-甲基-5-巰基四氮唑和脫羧基拉氧頭孢兩個特定雜質(zhì)進行了限度控制，其他雜質(zhì)未進行質(zhì)控；中國藥典2015年版二部[5]也收載了該品種，采用HPLC法進行梯度洗脫，對最大單個雜質(zhì)和總雜質(zhì)進行了控制。查閱文獻資料，國內(nèi)外未見拉氧頭孢鈉的雜質(zhì)譜研究的相關(guān)報道。因此，本文基于中國藥典2015年版收載的有關(guān)物質(zhì)色譜系統(tǒng)，采用LC/MSn技術(shù)對拉氧頭孢鈉原料中15種雜質(zhì)進行了結(jié)構(gòu)研究，推測出其中12種雜質(zhì)的化學(xué)結(jié)構(gòu)，其中10種雜質(zhì)的結(jié)構(gòu)為首次報道。12種雜質(zhì)的化學(xué)結(jié)構(gòu)參見圖1 。

1 材料與方法

1.1 儀器

圖1 拉氧頭孢和12種雜質(zhì)的推測結(jié)構(gòu)式Fig.1 Structures of latamoxef and 12 impurities

HPLC-UV色譜系統(tǒng)由島津LC-20A型液相色譜儀、PDA檢測器組成，工作站為LC Solution(日本島津公司)；LC-MS系統(tǒng)由島津LC-20A色譜系統(tǒng)(包括二元高壓梯度泵、自動進樣器、柱溫箱和PDA檢測器)和Qtrap 6500型MS/MS質(zhì)譜儀(美國ABsiecx公司)組成，工作站為Analyst 1.6版。

1.2 樣品與試劑

拉氧頭孢鈉原料供試品(批號：3362)、脫羧基拉氧頭孢對照品(批號：LP)由住商醫(yī)藥(上海)有限公司提供，巰甲基四氮唑?qū)φ掌?批號：130617-201702)由中國食品藥品檢定研究院提供。

乙腈(色譜純)購自美國Fisher公司，其他化學(xué)試劑(分析純)，均購自國藥集團化學(xué)試劑公司。水為實驗室自制雙蒸水。

1.3 RP-HPLC法

色譜柱：Shiseido TYPE UG80 C18(4.6mm×250mm,5μm)SN：AQAD02856；流動相：A相：0.01mol/L醋酸銨溶液-甲醇(99:1,V/V)；B相：0.01mol/L醋酸銨溶液-甲醇(70:30,V/V)。進行梯度洗脫：0～5.0min維持A相為99%，5.0～30.0min降低A相至50%，30.0～40.0min降低A相至0，40.0～50.0min維持A相為0，50.0～51.0min升高A相至99.0%。流速：1.0mL/min；柱溫：30℃；進樣體積：10μL；檢測波長：254nm。用于分離分析拉氧頭孢鈉原料及強制降解溶液中的雜質(zhì)。

1.4 LC/MSn法

因中國藥典2015年版二部收載的有關(guān)物質(zhì)色譜系統(tǒng)為醋酸銨-甲醇系統(tǒng)，可以直接用于LC/MSn分析，所以LC/MSn法所采用的高效液相色譜系統(tǒng)與RP-HPLC法所用系統(tǒng)一致。質(zhì)譜方法：+EMS和+EPI的掃描范圍：50～1000；Curtain Gas(氣簾氣)：20L/hr；IS(離子源電壓)：+4500V；TEM(離子源溫度)：500.00℃；GS1(吹掃氣1)：60L/hr；GS2(吹掃氣2)：65L/hr；CAD(碰撞活化解離能)：Medium(中級)；DP(解簇電壓)：+150V；EP(入口電壓)：+6.0V；CE(碰撞電壓)：+30.00V；CES(擴展碰撞電壓)：+15.00V。

1.5 溶液配制

拉氧頭孢鈉樣品溶液(T-1)：取批號3362拉氧頭孢鈉原料適量，精密稱定，置于50mL的量瓶中，加流動相A溶解并定容至刻度，制成含拉氧頭孢約為1.0mg/mL的溶液，搖勻，過0.45μm的濾膜，取續(xù)濾液，作為供試品溶液。

1.6 強力實驗

取拉氧頭孢鈉原料，分別在酸性、堿性、高溫、紫外、氧化等條件下進行降解實驗。

酸降解溶液(T-2)：稱取拉氧頭孢鈉約10mg，置于10mL量瓶中，加水2mL使溶解，加0.1mol/L鹽酸溶液1mL，室溫放置1h，用0.1mol/L氫氧化鈉溶液1mL中和，用水稀釋至刻度，備用。

堿降解溶液(T-3)：稱取拉氧頭孢鈉約10mg，置于10mL量瓶中，加水2mL使溶解，加0.1mol/L氫氧化鈉溶液1mL，室溫放置15min，用0.1mol/L鹽酸溶液1mL中和，用水稀釋至刻度，備用。

氧化降解溶液(T-4)：稱取拉氧頭孢鈉約10mg，置于10mL量瓶中，加水2mL使溶解，加30%雙氧水0.1mL，室溫放置15min，用水稀釋至刻度，備用。

高溫降解溶液(T-5)：稱取拉氧頭孢鈉約10mg，置于10mL量瓶中，110℃破壞1h，冷卻后用水溶解并稀釋至刻度，備用。

紫外(UV)降解溶液(T-6)：稱取拉氧頭孢鈉約10mg，置于10mL量瓶中，紫外照射破壞12h，用水溶解并稀釋至刻度，備用。

2 結(jié)果與討論

2.1 RP-HPLC法分析拉氧頭孢鈉溶液中的雜質(zhì)

采用中國藥典2015年版收載的方法，對拉氧頭孢鈉的有關(guān)物質(zhì)進行了HPLC分析，如圖2所示。研究發(fā)現(xiàn)，該批原料中共檢出15種雜質(zhì)，雜質(zhì)總量為4.22%，單個最大雜質(zhì)為2.07%(Imp-13)。由生產(chǎn)工藝可知，該藥物為半合成抗生素，根據(jù)EMA對半合成抗生素雜質(zhì)的要求，當(dāng)日給藥劑量≤2g時，應(yīng)對表觀含量≥0.10%的雜質(zhì)進行定性鑒別。在該樣品中，共檢出7種含量超過0.10%須進行結(jié)構(gòu)鑒定的雜質(zhì)，分別為Imp-1、Imp-5、Imp-9、Imp-10、Imp-11、Imp-13和Imp-15。雖然其他雜質(zhì)含量低于EMA要求的定性限度，但是為了保證產(chǎn)品的質(zhì)量，本文也嘗試對這些微量的雜質(zhì)進行結(jié)構(gòu)研究。

2.2 強制降解實驗結(jié)果

為了探索拉氧頭孢鈉原料中雜質(zhì)的來源，根據(jù)頭孢菌素類抗生素的降解反應(yīng)機理，分別研究了拉氧頭孢鈉溶液，在酸性、堿性、氧化、高溫、UV照射條件下，樣品中有關(guān)物質(zhì)的變化情況，參見圖3。根據(jù)上述強制降解實驗的結(jié)果，可以得知拉氧頭孢鈉中的Imp-1～2、Imp-5和Imp-13雜質(zhì)為降解雜質(zhì)。

2.3 拉氧頭孢鈉質(zhì)譜裂解途徑分析

圖3 供試品溶液在不同降解條件下的典型色譜圖Fig.3 Typical chromatograms of sample degradation solutions

分析拉氧頭孢鈉的質(zhì)譜裂解途徑，獲取該藥物的特征性質(zhì)譜碎片，有助于雜質(zhì)的質(zhì)譜數(shù)據(jù)解析。將拉氧頭孢鈉原料約2mg，用甲醇/水(1:1，V/V)溶液稀釋至50μg/mL，采用流動注射法進樣，通過多級質(zhì)譜推測在正離子模式下拉氧頭孢鈉的質(zhì)譜裂解途徑。圖4-a1顯示了拉氧頭孢鈉的一級質(zhì)譜峰，圖4-a2中顯示了m/z521.1的[M+H]+峰的一系列的碎片離子，圖5對拉氧頭孢鈉二級質(zhì)譜中的12個碎片峰進行了合理的推斷，為雜質(zhì)的質(zhì)譜分析提供了依據(jù)，具體質(zhì)譜數(shù)據(jù)參見表1。

2.4 強制降解實驗產(chǎn)生雜質(zhì)的LC/MSn分析

2.4.1 雜質(zhì)Imp-1,2

圖4 拉氧頭孢鈉及12種雜質(zhì)的+EMS(1)及+EPI(2)質(zhì)譜圖Fig.4 +EMS(1)and +EPI(2)spectra of latamoxef sodium and its impurities

圖5 拉氧頭孢推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.5 Mass fragmentaion pathway of latamoxef

表1 拉氧頭孢和12種雜質(zhì)的質(zhì)譜數(shù)據(jù)列表Tab.1 mass spectra data of Latamoxef and 12 related impurities in raw material

Imp-1在水浴降解過程中含量增加。Imp-1的+EMS圖(圖4-b1)中存在m/z423.1、445.1的準(zhǔn)分子離子峰，分別為[M+H]+、[M+Na]+峰，推測Imp-1的分子量為422.1，比拉氧頭孢的分子量520少98。二級質(zhì)譜圖(圖4-b2)中未檢出[M+H-116]+的特征碎片峰，表明雜質(zhì)Imp-1的3位側(cè)鏈中不含有巰甲基四氮唑；存在m/z391.0[M+H-32]+的碎片離子峰，說明7位的甲氧基未變化；存在m/z347.0[m/z391-44]+的碎片離子峰，說明母核的羧基未發(fā)生變化，存在m/z151.1的碎片離子峰，說明7位側(cè)鏈的羧基未發(fā)生變化。根據(jù)頭孢菌素類抗生素的降解反應(yīng)規(guī)律，在堿性條件下易水解脫掉三位側(cè)鏈，形成三位側(cè)鏈水解產(chǎn)物。

雜質(zhì)Imp-2的一級和二級質(zhì)譜圖均與雜質(zhì)Imp-1基本一致(圖4-b1～b2)，說明二者互為同分異構(gòu)體。由于拉氧頭孢7位側(cè)鏈上的手性碳具有R構(gòu)型和S構(gòu)型，拉氧頭孢主峰在色譜圖中表現(xiàn)為兩個主峰，所以推測雜質(zhì)Imp-2和Imp-1是一對因7位側(cè)鏈?zhǔn)中蕴紭?gòu)型不同而形成的異構(gòu)體。雜質(zhì)Imp-1～2的化學(xué)結(jié)構(gòu)式參見圖1，質(zhì)譜裂解途徑參見圖6。

2.4.2 雜質(zhì)Imp-5

Imp-5在水浴、酸、堿降解過程中含量增加。Imp-5的+EMS圖(圖4-e1)中存在m/z117.0的準(zhǔn)分子離子峰，為[M+H]+峰，推測Imp-5的分子量為116.0，與3位側(cè)鏈巰甲基四氮唑的分子量一致。該雜質(zhì)的色譜保留時間與巰甲基四氮唑?qū)φ掌返谋Ａ魰r間一致(圖2c)，因此，推斷雜質(zhì)Imp-5為巰甲基四氮唑?；瘜W(xué)結(jié)構(gòu)式參見圖1。

2.4.3 雜質(zhì)Imp-13

Imp-13在高溫降解過程中含量增加。Imp-13的+EMS圖(圖4-i1)中存在m/z477.1、499.1及514.9的準(zhǔn)分子離子峰，分別為[M+H]+、[M+Na]+和[M+K]+峰，推測Imp-13的分子量為476.1，比拉氧頭孢鈉分子量少44，提示分子中少了一個羧基。二級質(zhì)譜(圖4-i2)中存在m/z361.0[M+H-116]+的碎片離子峰，說明3位側(cè)鏈為巰甲基四氮唑；存在m/z199.0的碎片離子峰，說明母核未發(fā)生變化；因此推測7位側(cè)鏈?zhǔn)チ擞坞x的羧基，形成了拉氧頭孢鈉脫羧物。將該雜質(zhì)的色譜保留時間與脫羧基拉氧頭孢鈉對照品一致(圖2b)，同時，二者的UV光譜圖基本一致(圖8c～d)。因此可以確證雜質(zhì)Imp-13為脫羧基拉氧頭孢?；瘜W(xué)結(jié)構(gòu)式參見圖1，質(zhì)譜裂解途徑見圖7，UV光譜圖參見圖8c～d。

2.5 其他雜質(zhì)的LC/MSn分析

圖6 Imp-1,2的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.6 Mass fragmentaion pathway of imp-1,2

圖7 Imp-13的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.7 Mass fragmentaion pathway of imp-13

圖8 雜質(zhì)Imp-10，11和13與脫羧基拉氧頭孢鈉的典型UV光譜圖Fig.8 Typical UV spectra of impurities Imp-10,11 and 13 and sodium decarboxylatamoxef STD

強力降解實驗中，拉氧頭孢鈉中有11個雜質(zhì)未見明顯增加，通常它們被認(rèn)為是工藝雜質(zhì)，但也可能是特定條件下的降解產(chǎn)物。利用LC/MSn方法推測出的可能結(jié)構(gòu)，應(yīng)結(jié)合具體的合成工藝進行必要的驗證。由于雜質(zhì)Imp-6,7,8 3種雜質(zhì)含量非常低，沒能得到理想的質(zhì)譜圖，本文無法對其結(jié)構(gòu)進行推測。

2.5.1 雜質(zhì)Imp-3

Imp-3的+EMS圖(圖4-c1)中存在m/z422.0、444.1及466.0的準(zhǔn)分子離子峰，分別為Imp-3的[M+H]+、[M+Na]+和[M-H+2Na]+峰，推測Imp-3的分子量為421.0，比拉氧頭孢的分子量520少97，比Imp-1的分子量少1，提示該雜質(zhì)為Imp-1的結(jié)構(gòu)類似物。二級質(zhì)譜圖(圖4-c2)中未檢出[M+H-116]+的特征碎片峰，表明雜質(zhì)Imp-3的3位側(cè)鏈中不含有巰甲基四氮唑；存在m/z390.0[M+H-32]+的碎片離子峰，說明7位的甲氧基未變化；存在m/z151.1的碎片離子峰，說明7位側(cè)鏈的羧基未發(fā)生變化；存在m/z346.0[m/z390-44]+說明母核上的羧基未發(fā)生變化。為了進一步推斷化學(xué)結(jié)構(gòu)，將該雜質(zhì)與雜質(zhì)Imp-1的二級質(zhì)譜數(shù)據(jù)進行比較，發(fā)現(xiàn)Imp-3的二級質(zhì)譜圖中存在m/z212.0的碎片離子峰，比Imp-1的m/z213.0的碎片離子峰少1，但兩個雜質(zhì)均存在m/z169的碎片離子，因此推測雜質(zhì)Imp-3的2位羧基變?yōu)轷０坊鶊F，同時3位側(cè)鏈水解，化學(xué)結(jié)構(gòu)式參見圖1。裂解途徑參見圖9。

2.5.2 雜質(zhì)Imp-4

Imp-4的+EMS圖(圖4-d1)中存在m/z379.1、401.1的準(zhǔn)分子離子峰，分別為Imp-4的[M+H]+、[M+Na]+峰，即Imp-4的分子量為378.1，比拉氧頭孢的分子量520少142，比Imp-1的分子量少44，提示該雜質(zhì)為Imp-1的脫羧基產(chǎn)物。二級質(zhì)譜圖(圖4-d2)中未檢出[M+H-116]+的特征碎片峰，表明雜質(zhì)Imp-4的3位側(cè)鏈中不含有巰甲基四氮唑；存在m/z347.0[M+H-32]+的碎片離子峰，說明7位的甲氧基未變化；未見7位羧基的特征離子m/z151(參見“2.4.1”項雜質(zhì)Imp-1,2)，說明7位側(cè)鏈中不含有羧基，因此推測該雜質(zhì)為脫羧基拉氧頭孢的3位水解產(chǎn)物?；瘜W(xué)結(jié)構(gòu)式見圖1，裂解途徑見圖10。

2.5.3 雜質(zhì)Imp-9

Imp-9的+EMS圖(圖4-f1)中存在m/z437.2、459.0和481.0的準(zhǔn)分子離子峰，分別為[M+H]+、[M+Na]+及[M-H+2Na]+峰，即Imp-9的分子量為436.2。二級質(zhì)譜(圖4-f2)中未檢出[M+H-116]+的特征碎片峰，表明雜質(zhì)Imp-9的3位側(cè)鏈中不含有巰甲基四氮唑；存在m/z405.1[M+H-32]+以及m/z373.0[m/z405-32]+的碎片離子峰，說明該雜質(zhì)的化學(xué)結(jié)構(gòu)中含有2個甲氧基，除了母核7位的甲氧基外還有一分子的取代甲氧基；因3位側(cè)鏈不含有巰甲基四氮唑，故推測另一個甲氧基取代位置在3位側(cè)鏈上。存在m/z361.1[m/z405-44]+的碎片離子峰，說明母核上存在羧基，存在m/z151的羧基特征碎片離子，說明7位側(cè)鏈存在取代羧基，未發(fā)生變化；存在m/z227.2的碎片離子峰，說明母核未發(fā)生變化。綜上分析，雜質(zhì)Imp-9為3位側(cè)鏈甲氧基取代的拉氧頭孢?；瘜W(xué)結(jié)構(gòu)式參見圖1，特征碎片的裂解途徑參見圖11。

2.5.4 雜質(zhì)Imp-10,11

Imp-10的+EMS圖(圖4-g1)中存在m/z405.1、427.1及442.9的準(zhǔn)分子離子峰，分別為[M+H]+、[M+Na]+、[M+K]+峰，即Imp-10的分子量為404.1,與拉氧頭孢鈉脫3位側(cè)鏈的碎片離子m/z405.1分子量相同。二級質(zhì)譜(圖4-g2)中未檢出[M+H-116]+的特征碎片峰，表明雜質(zhì)Imp-10的3位側(cè)鏈中不含有巰甲基四氮唑；存在m/z373.0[M+H-32]+碎片離子峰，說明7位甲氧基未發(fā)生變化，存在m/z151.0碎片離子峰，說明7位側(cè)鏈羧基未發(fā)生變化，存在m/z199的碎片但未檢出m/z155[m/z199-44]+的碎片，說明母核結(jié)構(gòu)中羧基發(fā)生了改變，因此推測3位側(cè)鏈脫去巰甲基四氮唑后與2位的羧基脫水成內(nèi)酯。

圖9 Imp-3的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.9 Mass fragmentaion pathway of imp-3

圖10 Imp-4的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.10 Mass fragmentaion pathway of imp-4

圖11 Imp-9的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.11 Mass fragmentaion pathway of imp-9

Imp-11的質(zhì)譜圖與雜質(zhì)Imp-10基本一致，二者色譜保留時間相近，UV光譜圖基本一致，因此推測二者均為拉氧頭孢內(nèi)酯，互為同分異構(gòu)體，異構(gòu)化位點與拉氧頭孢相同。雜質(zhì)Imp-10,11的化學(xué)結(jié)構(gòu)參見圖1，質(zhì)譜裂解途徑見圖12，UV光譜圖參見圖8a～b。

2.5.5 雜質(zhì)Imp-12

Imp-12的+EMS圖(圖4-h1)中存在m/z361.1、383.0及399.0的準(zhǔn)分子離子峰，分別為的[M+H]+、[M+Na]+和[M+K]+峰，即Imp-12的分子量為360.1，比拉氧頭孢內(nèi)酯分子量m/z405.1少44，初步推測為拉氧頭孢內(nèi)酯脫羧物。二級質(zhì)譜(圖4-g2)中未檢出[M+H-116]+的特征碎片峰，表明雜質(zhì)Imp-12的3位側(cè)鏈中不含有巰甲基四氮唑；存在m/z199碎片但未檢出m/z155[m/z199-44]+的碎片，說明母核結(jié)構(gòu)中羧基發(fā)生了改變，因此推測該雜質(zhì)的母核部分為內(nèi)酯結(jié)構(gòu)。存在m/z329.0[M+H-32]+的碎片離子峰，說明7位甲氧基未變化，不存在m/z151.0碎片離子峰，說明7位側(cè)鏈沒有羧基。綜上分析推測雜質(zhì)Imp-12為拉氧頭孢鈉內(nèi)酯脫羧物，化學(xué)結(jié)構(gòu)式參見圖1，質(zhì)譜裂解途徑參見圖13。

2.5.6 雜質(zhì)Imp-14

Imp-14的+EMS圖(圖4-j1)中存在m/z535.1、557.0及579.1，分別為[M+H]+、[M+Na]+和[M-H+2Na]+峰，即Imp-14的分子量為534.1，比拉氧頭孢分子量多14，即多一個甲基。二級質(zhì)譜(圖4-j2)中m/z419.0[M+H-116]+碎片離子峰，說明3位側(cè)鏈為巰甲基四氮唑，未發(fā)生變化；存在與拉氧頭孢相同的m/z199.0和155.0的碎片離子峰，說明母核未發(fā)生變化，存在m/z359.0[m/z391.0-32]+碎片離子峰，說明7位甲氧基未發(fā)生改變；因此多出的甲基位于7位側(cè)鏈上，初步推測為苯環(huán)上的羥基取代為甲氧基，化學(xué)結(jié)構(gòu)參見圖1，質(zhì)譜裂解途徑參見圖14。該取代位點需要進一步研究。

2.5.7 雜質(zhì)Imp-15

圖12 Imp-10,11的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.12 Mass fragmentaion pathway of imp10,11

圖13 Imp-12的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.13 Mass fragmentaion pathway of imp-12

圖14 Imp-14的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.14 Mass fragmentaion pathway of imp-14

Imp-15的+EMS圖(圖4-k1)中存在m/z535.1、557.0及579.1，分別為[M+H]+、[M+Na]+和[M-H+2Na]+峰，即Imp-15的分子量為534.1，比拉氧頭孢分子量多14，即多一個甲基，與雜質(zhì)Imp-14為同分異構(gòu)體。二級質(zhì)譜(圖4-k2)中存在m/z419.0[M+H-116]+碎片離子峰，說明3位側(cè)鏈為巰甲基四氮唑，未發(fā)生變化；存在m/z359.0[m/z391.0-32]+碎片離子峰，說明7位甲氧基未發(fā)生改變；不存在拉氧頭孢母核的m/z199.0和155.0特征性碎片離子峰，但存在m/z213.2[m/z199+14]+的碎片離子，說明母核上發(fā)生甲基取代。由于存在m/z391[m/z419-28]+碎片離子，說明四元內(nèi)酰胺環(huán)未開環(huán)，因此推測為母核上的羧基被取代成為羧酸甲酯?；瘜W(xué)結(jié)構(gòu)參見圖1，質(zhì)譜裂解途徑參見圖15。

2.6 中國藥典質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)評價

圖15 Imp-15的推測質(zhì)譜裂解途徑Fig.15 Mass fragmentaion pathway of imp-15

通過以上的強制降解實驗和LC/MSn法分析降解雜質(zhì)和工藝雜質(zhì)的化學(xué)結(jié)構(gòu)，可見中國藥典2015年版的有關(guān)物質(zhì)方法能夠檢出拉氧頭孢鈉中的多種降解雜質(zhì)和工藝雜質(zhì)。前期的高效凝膠色譜研究表明拉氧頭孢鈉原料中含有二聚體雜質(zhì)，但是本次研究未檢出拉氧頭孢鈉聚合物雜質(zhì)，因此藥典方法對聚合物雜質(zhì)的檢出能力有待于進一步優(yōu)化提高。

3 結(jié)論

本文以LC/MSn法為主要技術(shù)手段，對拉氧頭孢鈉原料中的15種雜質(zhì)開展了結(jié)構(gòu)分析。綜合運用強力試驗和頭孢菌素類抗生素的降解反應(yīng)機理，快速鑒定出12種雜質(zhì)的化學(xué)結(jié)構(gòu)，其中4種雜質(zhì)可以通過強制降解實驗得到，12個雜質(zhì)中10種雜質(zhì)的結(jié)構(gòu)為首次報道。通過雜質(zhì)譜的研究發(fā)現(xiàn)中國藥典有關(guān)物質(zhì)方法對聚合物雜質(zhì)的檢出能力有待于進一步提高。