工欲善其事 必先利其器

魏志強(qiáng)

“中興事件”后，擺脫芯片的進(jìn)口依賴已成全民共識(shí)，但這首先要擺脫芯片制造裝備的進(jìn)口依賴。

在工業(yè)生產(chǎn)中，煤和石油的重要性盡人皆知，前者被譽(yù)為“工業(yè)的糧食”，后者被稱作“工業(yè)的血液”。然而，在信息社會(huì)到來(lái)的今天，煤和石油的地位日益被芯片取代。在現(xiàn)代工業(yè)中，芯片不僅成為“現(xiàn)代工業(yè)的糧食”，而且還充當(dāng)著電子消費(fèi)品、電子設(shè)備的“大腦”和“心臟”。生活中小到銀行卡、身份證、手機(jī)、電腦，大到飛機(jī)、輪船、衛(wèi)星，都離不開芯片。就產(chǎn)業(yè)規(guī)模而言，目前全球芯片市場(chǎng)規(guī)模已達(dá)到4700多億美元，其中2/3的市場(chǎng)需求來(lái)自中國(guó)。中國(guó)擁有全球第一大芯片市場(chǎng)，但80%以上的芯片卻要依賴進(jìn)口，高端芯片的自給率更是不足10%。

針對(duì)芯片的這種狀況，人們不禁要問(wèn)：作為世界第一制造大國(guó)，中國(guó)為什么不能做到芯片自給？芯片自給率不足有很多原因，但生產(chǎn)芯片的先進(jìn)裝備供給不足，是一個(gè)毋庸置疑的重要原因。所以，裝備是解決芯片問(wèn)題的關(guān)鍵，正如古人所說(shuō)“工欲善其事，必先利其器”。

光刻機(jī)的故事

從產(chǎn)業(yè)鏈來(lái)看，芯片生產(chǎn)主要分為設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)三大環(huán)節(jié)。 制造工藝包括光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學(xué)機(jī)械研磨等。

在芯片制造流程中，光刻是最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。芯片制造的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過(guò)程是通過(guò)光刻來(lái)實(shí)現(xiàn)的， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。據(jù)專家介紹，芯片在生產(chǎn)中需要進(jìn)行 20次?30 次的光刻，耗時(shí)占到集成電路制造環(huán)節(jié)的 50%左右，占芯片生產(chǎn)成本的 1/3。

“制造一塊集成電路芯片，其精細(xì)程度相當(dāng)于一根頭發(fā)絲的1‰，好比在頭發(fā)上面‘繡花一樣?！鄙虾Ｎ㈦娮友b備（集團(tuán)）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“上微”）總經(jīng)理賀榮明說(shuō)，“要把一塊體積小巧、功能強(qiáng)大的集成電路芯片制造出來(lái)，除了卓越的電路設(shè)計(jì)外，更離不開將設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換成高性能芯片的制造設(shè)備，而其中最為關(guān)鍵的設(shè)備就是光刻機(jī)?！?/p>

光刻機(jī)就像一臺(tái)精密復(fù)雜的特殊照相機(jī)，在芯片制造中，它是 “定義圖形”最為重要的一種機(jī)器。高端光刻機(jī)集精密光學(xué)、機(jī)械、控制、材料等先進(jìn)科技和工程技術(shù)于一體，是集成電路裝備中研發(fā)投入最大、技術(shù)難度最高的關(guān)鍵設(shè)備，因此，被稱為人類技術(shù)發(fā)展的制高點(diǎn)并被譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)“皇冠上的明珠”。正是因?yàn)檠兄乒饪虣C(jī)的技術(shù)門檻和資金門檻都非常高，所以，時(shí)至今日，世界上有能力涉足高端光刻機(jī)的企業(yè)寥若晨星。荷蘭有阿斯麥（ASML），日本有尼康（NIKON）和佳能（CANON），中國(guó)有上微，僅此而已。龍頭老大是阿斯麥，它占有全球高達(dá)80%的市場(chǎng)份額，并壟斷了高端光刻機(jī)——最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)市場(chǎng)，可謂一騎絕塵。

摩爾定律提出， 當(dāng)價(jià)格不變時(shí)，集成電路上可容納元器件的數(shù)目，大約每隔 18?24 個(gè)月便會(huì)增加1倍，性能也將提升1倍。集成電路前30年的發(fā)展能夠基本滿足摩爾定律， 關(guān)鍵就在于光刻機(jī)能不斷實(shí)現(xiàn)更小的分辨率水平。而近10年摩爾定律的時(shí)間間隔延長(zhǎng)至 3?4 年，其主要原因也在于光刻機(jī)發(fā)展遲緩。

光刻機(jī)的最小分辨率可由公式 R=kλ/NA表示，其中 R 代表可分辨的最小尺寸、k是工藝常數(shù)、λ是光刻機(jī)所用光源的波長(zhǎng)、NA代表物鏡數(shù)值孔徑。光刻機(jī)制程工藝水平的發(fā)展正是遵循這個(gè)公式。

根據(jù)所使用光源的改進(jìn)，光刻機(jī)經(jīng)歷了5個(gè)代際的發(fā)展（見下表），每次光源的改進(jìn)都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。此外，雙工件臺(tái)、浸沒式光刻等技術(shù)進(jìn)步也在不斷地提升光刻機(jī)的工藝制程水平，以及生產(chǎn)的效率和良率。

從這個(gè)表中可見，光刻機(jī)發(fā)展到第四代的時(shí)候，光源采用了 193納米的氟化氬（ArF）準(zhǔn)分子激光，最小制程一舉提升至 65納米的水平。但是，由于能夠取代 ArF 實(shí)現(xiàn)更小制程的光刻機(jī)遲遲不能研制成功，光刻機(jī)生產(chǎn)商只好在第四代光刻機(jī)上進(jìn)行了大量的工藝創(chuàng)新，來(lái)滿足更小制程和更高效率的生產(chǎn)需要。

1986年，阿斯麥?zhǔn)紫韧瞥霾竭M(jìn)式掃描投影光刻機(jī);2001年，阿斯麥又推出雙工件臺(tái)系統(tǒng)（TWINSCAN SYSTEM）。這些創(chuàng)新將芯片的制程和生產(chǎn)效率提升了一個(gè)臺(tái)階。

然而，芯片制造到了 45納米制程節(jié)點(diǎn)時(shí)，第四代光刻機(jī)遇到了分辨率不足的問(wèn)題。當(dāng)時(shí)業(yè)內(nèi)對(duì)下一代光刻機(jī)的發(fā)展提出了兩種路線圖：一是開發(fā)波長(zhǎng)更低的 157納米F2準(zhǔn)分子激光作為光源;二是2002 年臺(tái)積電林本堅(jiān)提出的浸沒式光刻。在最小分辨率的公式中， NA與折射率成正相關(guān)，因此，如果用折射率大于 1 的水作為媒介進(jìn)行光刻，最小分辨率將得到提升。

林本堅(jiān)提出浸沒式光刻設(shè)想后， 阿斯麥很快就與臺(tái)積電展開合作，共同開發(fā)浸沒式光刻機(jī)，并于2007年推出浸沒式光刻機(jī)TWINSCAN XT：1900i，實(shí)現(xiàn)了 45納米的制程工藝，占據(jù)了市場(chǎng)的制高點(diǎn)。而“光刻雙雄”尼康和佳能主推的157納米光源干式光刻機(jī)則被市場(chǎng)拋棄，這也成了尼康和佳能由盛轉(zhuǎn)衰、阿斯麥一家獨(dú)大的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。

通過(guò)以上創(chuàng)新，第四代光刻機(jī)最高可以實(shí)現(xiàn) 22納米制程的芯片生產(chǎn)，但在摩爾定律的推動(dòng)下，芯片制程的需求已經(jīng)發(fā)展到 14?10納米，甚至7納米、5納米，第四代光刻機(jī)無(wú)法滿足這一需求，于是第五代極紫外（EUV）光刻機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。

前四代光刻機(jī)使用的光源是深紫外光， 第五代極紫外光刻機(jī)使用的則是波長(zhǎng) 13.5納米的極紫外光。極紫外光刻機(jī)的概念其實(shí)早在20世紀(jì)90年代就被提出， 阿斯麥從 1999 年開始研發(fā)極紫外光刻機(jī)。本來(lái)原計(jì)劃在 2004 年推出產(chǎn)品，但卻直到 2010 年才研制出第一臺(tái) EUV 原型機(jī)， 2016 年開始為下游客戶供貨，比預(yù)計(jì)時(shí)間晚了12年。盡管如此，極紫外光刻機(jī)的研制成功并投入市場(chǎng)，還是使摩爾定律得以延續(xù)，并使芯片產(chǎn)業(yè)邁進(jìn)了新時(shí)代。

阿斯麥之路

阿斯麥于1984年由飛利浦和先進(jìn)半導(dǎo)體材料國(guó)際（ASMI）合資成立。阿斯麥?zhǔn)鞘澜珙I(lǐng)先的芯片制造設(shè)備制造商，專業(yè)從事光刻系統(tǒng)開發(fā)，其產(chǎn)品組合由三個(gè)主要業(yè)務(wù)線組成——深紫外（DUV）系統(tǒng)、極紫外（EUV）系統(tǒng)和應(yīng)用。2017年，阿斯麥銷售額90.53億歐元，毛利率45.0%，凈利潤(rùn)21.19 億歐元。2018年，阿斯麥銷售額突破100億歐元。

阿斯麥?zhǔn)且患铱鐕?guó)公司，總部現(xiàn)位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬（Veldhoven），在全球16個(gè)國(guó)家的60個(gè)城市設(shè)有辦事處，員工總數(shù)超過(guò)2.2萬(wàn)人。公司在阿姆斯特丹泛歐證券交易所和納斯達(dá)克證券交易所上市。

阿斯麥創(chuàng)立伊始，在荷蘭南部城市艾恩德霍芬的飛利浦大樓旁邊的木棚里度過(guò)了一段時(shí)間。在那里，他們推出了第一款產(chǎn)品：PAS 2000步進(jìn)器。1985年，阿斯麥遷往附近的費(fèi)爾德霍芬，當(dāng)時(shí)公司僅有100多名員工。1986年，阿斯麥又推出PAS 2500步進(jìn)器，同年與鏡片制造商德國(guó)卡爾蔡司（Carl Zeiss）建立了密切的合作伙伴關(guān)系。20世紀(jì)80年代，阿斯麥還拓展了亞洲和美國(guó)市場(chǎng)。

1991年，阿斯麥推出了突破性平臺(tái)PAS 5500，大大縮短了用戶的生產(chǎn)時(shí)間。1995年，阿斯麥?zhǔn)召?gòu)了飛利浦出售的股份后，分別在阿姆斯特丹和納斯達(dá)克證券交易所上市。上市給阿斯麥帶來(lái)了比較充裕的發(fā)展資金，于是阿斯麥擴(kuò)大了費(fèi)爾德霍芬的生產(chǎn)設(shè)施。2000年，阿斯麥?zhǔn)召?gòu)了美國(guó)硅谷集團(tuán)，并將康涅狄格州的威爾頓作為研發(fā)和制造基地。

2001年，阿斯麥推出TWINSCAN系統(tǒng)，最大限度地提高了系統(tǒng)的生產(chǎn)率和準(zhǔn)確性。2007年研制的浸沒式系統(tǒng)（TWINSCAN XT：1900i），使客戶能夠通過(guò)透鏡和晶圓之間的一層水投射光來(lái)生產(chǎn)更小的、性能更高的芯片;同年，阿斯麥?zhǔn)召?gòu)了領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造優(yōu)化解決方案提供商BRION。這是阿斯麥“整體光刻”戰(zhàn)略的開始。

2010年，阿斯麥研制出第一臺(tái)極紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），標(biāo)志著光刻新時(shí)代的開始。

2013年，阿斯麥發(fā)布了第二代EUV系統(tǒng)（NXE：3300），2015年又推出了第三代EUV系統(tǒng)（NXE：3350）。2016年，當(dāng)極紫外光刻機(jī)投放到市場(chǎng)時(shí)，很快就受到了市場(chǎng)的熱捧，英特爾、臺(tái)積電和三星都是它的用戶。但因產(chǎn)能所限，阿斯麥2017年僅交付了11臺(tái)，2018年出貨18臺(tái)，2019年計(jì)劃出貨30臺(tái)。由于訂單量遠(yuǎn)超產(chǎn)能，所以，用戶購(gòu)買阿斯麥的極紫外光刻機(jī)必須提前預(yù)定，比如中芯國(guó)際2018年訂購(gòu)一臺(tái)極紫外光刻機(jī)，阿斯麥2019年才能供貨。極紫外光刻機(jī)平均售價(jià)每臺(tái)1億歐元，這將給阿斯麥帶來(lái)極大的收益。

從阿斯麥的發(fā)展史來(lái)看，2010年是很重要的一年，這一年他們做出了第一臺(tái)極紫外光刻機(jī)的原型機(jī)。雖然2007年阿斯麥因推出浸沒式光刻機(jī)最終戰(zhàn)勝了“光刻雙雄”尼康和佳能，但它達(dá)到獨(dú)步天下的程度，還是在研制出極紫外光刻機(jī)之后。極紫外光刻機(jī)將芯片制造的最小工藝節(jié)點(diǎn)推到了22?7納米，甚至5納米。

阿斯麥的成功，除了得益于全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)復(fù)蘇之外，其自身原因更為重要。

首先是阿斯麥進(jìn)入資本市場(chǎng)直接融資，解決資金難題。阿斯麥在成立之初面對(duì)美國(guó)、日本的強(qiáng)大競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，資金實(shí)力明顯不足，它的解決方案是上市直接融資。1995年，阿斯麥?zhǔn)召?gòu)了飛利浦持有的股份（ASMI退出阿斯麥時(shí)，其股份被飛利浦收購(gòu)），同年在阿姆斯特丹和納斯達(dá)克證券交易所上市。此后，阿斯麥一系列的并購(gòu)以及擴(kuò)大研發(fā)投入都和上市獲得的資金有關(guān)，阿斯麥也因此步入了發(fā)展的快車道。

其次是阿斯麥全球布局、廣納人才，建立強(qiáng)大的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。阿斯麥在荷蘭、美國(guó)、韓國(guó)、中國(guó)大陸、中國(guó)臺(tái)灣設(shè)有研發(fā)與生產(chǎn)中心，在公司的2.2萬(wàn)余名員工中有7000名以上是來(lái)自物理、機(jī)器人、化學(xué)和材料工程等領(lǐng)域的工程師，研發(fā)實(shí)力十分強(qiáng)大。

還有就是阿斯麥極其重視持續(xù)的研發(fā)投入。作為全球光刻機(jī)霸主，近10年來(lái)阿斯麥每年的研發(fā)投入都保持在營(yíng)業(yè)收入的15%左右，遠(yuǎn)超其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手尼康、佳能5%?6%的研發(fā)投入。大量持續(xù)的研發(fā)投入，使阿斯麥擁有了超過(guò)1萬(wàn)項(xiàng)的專利，并建立了強(qiáng)大的專利組合。這些專利增強(qiáng)了阿斯麥的競(jìng)爭(zhēng)力和持續(xù)盈利的能力，保證了阿斯麥投資和經(jīng)營(yíng)的安全性和自由度。

阿斯麥最為重要的成功經(jīng)驗(yàn)，是它創(chuàng)建了一種開放式創(chuàng)新模式。阿斯麥這樣描述他們的開放式創(chuàng)新：“在供應(yīng)商、合作伙伴和客戶的生態(tài)系統(tǒng)中，我們共同合作的方式就是我們所說(shuō)的‘開放式創(chuàng)新。”這是阿斯麥在早年就已經(jīng)形成的一種信念：“我們始終將自己視為建筑師和集成商，鼓勵(lì)我們的合作伙伴一起在工程的前沿創(chuàng)新，各自發(fā)揮自己的優(yōu)勢(shì)，同時(shí)分擔(dān)風(fēng)險(xiǎn)、分享回報(bào)。開放式創(chuàng)新擴(kuò)展了所有合作伙伴的知識(shí)和技能，將技術(shù)提升到比任何一個(gè)合作伙伴單獨(dú)完成的任務(wù)更快的水平?！边@是建立在相互信任和自我管理基礎(chǔ)上的合作，阿斯麥為建立這種形式的合作而感到自豪。

一臺(tái)光刻機(jī)由十幾個(gè)子系統(tǒng)、成千上萬(wàn)個(gè)零部件構(gòu)成，任何一個(gè)光刻機(jī)制造企業(yè)都不可能全部自己生產(chǎn)，其中大部分零部件要由全球供應(yīng)商制造，這就需要管理好全球供應(yīng)鏈。但是，對(duì)于光刻機(jī)的關(guān)鍵技術(shù)、核心零部件，阿斯麥還是要靠自己研發(fā)，或者建立以自己為核心的包括產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)、科研機(jī)構(gòu)、大學(xué)的研發(fā)聯(lián)合體進(jìn)行研發(fā)，從而打造全產(chǎn)業(yè)鏈競(jìng)爭(zhēng)力。

阿斯麥的開放式創(chuàng)新，既重視與上游供應(yīng)商的合作，同時(shí)也重視與下游用戶的合作。例如，為了解決資金和技術(shù)難題，加快極紫外光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)程，2012年阿斯麥提出“客戶聯(lián)合投資專案”（CUSTOMER CO-INVERSTMENT PROGRAM）。這個(gè)專案得到英特爾、臺(tái)積電、三星的積極響應(yīng)，三大巨頭掏出真金白銀入股阿斯麥，支持阿斯麥研發(fā)極紫外光刻機(jī)，最后阿斯麥以23%的股權(quán)共籌得資金52.59億歐元。此后，2013年5月30日，阿斯麥?zhǔn)召?gòu)了全球領(lǐng)先的準(zhǔn)分子激光器供應(yīng)商美國(guó)西盟公司（CYMER）;2016年11月5日，又以 10 億歐元收購(gòu)了光學(xué)系統(tǒng)供應(yīng)商德國(guó)卡爾蔡司公司24.9%的股權(quán)。這兩次收購(gòu)加快了阿斯麥極紫外光源和光學(xué)系統(tǒng)的研發(fā)進(jìn)程，對(duì)極紫外光刻機(jī)的問(wèn)世和批量生產(chǎn)起到了決定性的作用，而這一切都是開放式創(chuàng)新的結(jié)果。

回顧和梳理阿斯麥的成功經(jīng)驗(yàn)，給后來(lái)者以極大的啟發(fā)。阿斯麥在聚集全球資源、人才和資本運(yùn)作方面的做法很值得研究，其開放式創(chuàng)新模式更是經(jīng)濟(jì)全球化時(shí)代一個(gè)企業(yè)成功之關(guān)鍵。

上微在追趕

就在世界光刻巨頭激烈競(jìng)爭(zhēng)之時(shí)，上微誕生了。

2002年春，在上海浦東張江春曉路一棟3層小樓里，賀榮明帶著最初的9位創(chuàng)業(yè)者走上了光刻機(jī)自主研發(fā)之路。也正是從那時(shí)起，中國(guó)人開啟了自己的追夢(mèng)光刻的實(shí)踐。

在奉命組建上微之前，賀榮明在上海電氣（集團(tuán)）總公司工作，擔(dān)任公司戰(zhàn)略發(fā)展部部長(zhǎng)，并沒有和光刻機(jī)打過(guò)交道，所以，接受研發(fā)光刻機(jī)的任務(wù)，對(duì)于他而言是一個(gè)非常大的挑戰(zhàn)。“如今回想起來(lái)還是有些后怕。雖然當(dāng)時(shí)對(duì)光刻機(jī)的技術(shù)難度有所預(yù)估，但確實(shí)沒料到會(huì)這么難?！辟R榮明說(shuō)。

上微一創(chuàng)立就面臨著重重困難。一是人才嚴(yán)重匱乏。據(jù)賀榮明介紹，“當(dāng)時(shí)國(guó)內(nèi)‘懂光刻機(jī)的人才只有幾十人。”二是缺乏技術(shù)積累。三是沒有配套的供應(yīng)鏈。當(dāng)時(shí)，國(guó)內(nèi)與光刻機(jī)相關(guān)的配套行業(yè)幾乎是一片空白。

在這樣的情況下， “唯一的出路就是走創(chuàng)新之路?！辟R榮明說(shuō)。但是，如何創(chuàng)新呢？上微的創(chuàng)業(yè)者把一種“解方程式”的方法應(yīng)用到創(chuàng)新之中。他們首先“將自己定位于光刻機(jī)的‘頂層系統(tǒng)設(shè)計(jì)者，并確立了聚焦集成創(chuàng)新的研發(fā)策略，通過(guò)在產(chǎn)業(yè)鏈上位置的躍遷，來(lái)實(shí)現(xiàn)自主創(chuàng)新?！辟R榮明講述著上微的創(chuàng)新之路，“光刻機(jī)的零部件可以由合作企業(yè)提供，但系統(tǒng)設(shè)計(jì)和核心技術(shù)要掌握在自己手里。比如說(shuō)一個(gè)系統(tǒng)集成的項(xiàng)目，我們通過(guò)自主攻關(guān)，將其分解到元器件時(shí)，全球可合作的資源就豐富了?！?/p>

上微專門設(shè)置了一個(gè)集成工程部，其職責(zé)就是把關(guān)設(shè)備，把一個(gè)個(gè)小的系統(tǒng)集成成光刻機(jī)。上微集成工程部經(jīng)理毛方林說(shuō)：“我們面臨最大的困難就是沒有任何集成的經(jīng)驗(yàn)借鑒，只能靠自己的經(jīng)驗(yàn)積累和摸索?！?/p>

上微在系統(tǒng)設(shè)計(jì)和集成方面的不斷探索，最后走出了一條通向集成創(chuàng)新的成功之路。說(shuō)起上微的集成創(chuàng)新，賀榮明頗有心得地說(shuō)：“集成創(chuàng)新，就是由我設(shè)計(jì)，然后利用全球技術(shù)為我所用，最后還由我調(diào)控。在技術(shù)基礎(chǔ)薄弱和國(guó)外封鎖的情況下，用好的管理和組織方式，照樣可以掌握復(fù)雜的技術(shù)系統(tǒng)?！?/p>

鏖戰(zhàn)多年后，他們的努力終于得到了回報(bào)。2008年，上微制造出第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)100納米光刻機(jī)，實(shí)現(xiàn)了零的突破。同年，上微開始研制90納米光刻機(jī)，在我國(guó)一片空白的光刻機(jī)領(lǐng)域又邁出了關(guān)鍵的一步。

10年后——2018年3月，上微承擔(dān)的國(guó)家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）“90納米光刻機(jī)項(xiàng)目”通過(guò)了驗(yàn)收。國(guó)產(chǎn)90納米光刻機(jī)的問(wèn)世，標(biāo)志著上微成為繼阿斯麥、尼康和佳能之后，全球第四家掌握光刻機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和系統(tǒng)集成技術(shù)的公司。

90納米光刻機(jī)剛剛通過(guò)驗(yàn)收，上微就又有了新的任務(wù)：到2020年完成28納米光刻機(jī)的研制。對(duì)于上微而言，這是一個(gè)光榮而艱巨的任務(wù)。上微生產(chǎn)的90納米光刻機(jī)雖已進(jìn)入產(chǎn)線試用，但還沒有積累工藝適應(yīng)性經(jīng)驗(yàn)，面對(duì)研制28納米光刻機(jī)的任務(wù)，他們?cè)鯓幼銎鹉兀?/p>

從完成任務(wù)的時(shí)間來(lái)看，上微要在兩年多的時(shí)間內(nèi)，跳過(guò)65納米、45納米等工藝節(jié)點(diǎn)，從90納米干式光刻機(jī)直接升級(jí)到28納米浸沒式光刻機(jī)，其難度可想而知。

上微能否再攀新高？完成任務(wù)的時(shí)間確實(shí)緊了點(diǎn)，但從光刻機(jī)的發(fā)展速度看，阿斯麥現(xiàn)在已將光刻機(jī)發(fā)展到了新一代極紫外光刻機(jī)，如果我們不提速追趕，國(guó)內(nèi)晶圓廠就擺脫不了高端光刻機(jī)依賴進(jìn)口的命運(yùn)，從而也就解決不了芯片“卡脖子”的現(xiàn)狀。

上微有完成任務(wù)的責(zé)任和使命，也有一定的完成任務(wù)的優(yōu)勢(shì)。經(jīng)過(guò)16年的發(fā)展，上微通過(guò)自主創(chuàng)新，在光刻機(jī)核心技術(shù)方面取得了一系列重大突破。截至2018年5月，上微申請(qǐng)專利總數(shù)多達(dá)2498項(xiàng)（授權(quán)1371項(xiàng)），其中申請(qǐng)中國(guó)發(fā)明專利1845項(xiàng)（授權(quán)1050項(xiàng)），申請(qǐng)國(guó)外發(fā)明專利407項(xiàng)（授權(quán)140項(xiàng)）。上微知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)工作做得卓有成效，被評(píng)為國(guó)家級(jí)知識(shí)產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)。

上微現(xiàn)已形成了一支超過(guò)1000人的員工隊(duì)伍?！斑@是一支年齡結(jié)構(gòu)合理、學(xué)科門類齊全、專業(yè)技能扎實(shí)的光刻機(jī)設(shè)計(jì)、集成的優(yōu)秀工程技術(shù)人才隊(duì)伍以及與復(fù)雜系統(tǒng)研制和產(chǎn)品化、產(chǎn)業(yè)化相適應(yīng)的經(jīng)營(yíng)管理團(tuán)隊(duì)?！鄙衔⒁晃还芾碚哒f(shuō)。

憑借著這些優(yōu)勢(shì)，上微有望再攀新高。

然而，當(dāng)今世界制造業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)尤其是集成電路產(chǎn)業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)，已經(jīng)不是一個(gè)企業(yè)的單打獨(dú)斗，而是全產(chǎn)業(yè)鏈的競(jìng)爭(zhēng)。上微是一個(gè)在光刻機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和系統(tǒng)集成方面有優(yōu)勢(shì)的公司，28納米浸沒式光刻機(jī)能不能按時(shí)生產(chǎn)出來(lái)，還要取決于我國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈能不能提供制造28納米浸沒式光刻機(jī)所需的核心零部件，例如，鏡頭、光源等。

鏡頭、光源、工件臺(tái)、浸液系統(tǒng)是我國(guó)研制28納米浸沒式光刻機(jī)的四大核心部件，國(guó)內(nèi)一直有研究機(jī)構(gòu)在研發(fā)。有了符合28納米要求的前三個(gè)組件，再加上浸液系統(tǒng)，就能夠做出28納米浸沒式光刻機(jī)。據(jù)清華大學(xué)朱煜教授介紹，清華大學(xué)研制的雙工件臺(tái)（浸沒式）， 2017年已立項(xiàng)，第一臺(tái)2019年交付使用。中科院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械和物理研究所、應(yīng)用光學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室研發(fā)的物鏡系統(tǒng)、中科院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所研發(fā)的照明系統(tǒng)、浙江大學(xué)研發(fā)的28納米光刻機(jī)浸液系統(tǒng)，也都在加快研發(fā)的進(jìn)程。

從這些情況看，我國(guó)生產(chǎn)光刻機(jī)的全產(chǎn)業(yè)鏈正在形成，這讓人們有理由樂(lè)觀地期待：2020年國(guó)產(chǎn)28納米浸沒式光刻機(jī)將在上微誕生。