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    局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤專利分析

    2019-06-11 03:10:51李慧高輝輝
    關(guān)鍵詞:陰影申請(qǐng)人專利申請(qǐng)

    李慧 高輝輝

    摘 ? 要:本文從探究專利分布和布局的角度出發(fā),選擇局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤作為主題,通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的檢索方式,使用國(guó)際專利分類號(hào)并結(jié)合關(guān)鍵詞,對(duì)專利檢索數(shù)據(jù)庫(kù)中的專利申請(qǐng)進(jìn)行了全面的檢索,得到相關(guān)的專利申請(qǐng),對(duì)上述數(shù)據(jù)進(jìn)行細(xì)致的篩選分類,揭示了局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤領(lǐng)域?qū)@暾?qǐng)的當(dāng)前狀況和未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)。

    關(guān)鍵詞:局部陰影 ?全局最大功率點(diǎn)跟蹤 ?專利布局

    中圖分類號(hào):G306 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 文章編號(hào):1674-098X(2019)02(c)-0234-02

    最大功率點(diǎn)跟蹤技術(shù)是高效光伏發(fā)電系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)之一,在實(shí)際應(yīng)用中,復(fù)雜環(huán)境如局部陰影情況往往使得光伏陣列功率-電壓特性曲線呈現(xiàn)多個(gè)功率極值點(diǎn),此時(shí),傳統(tǒng)基于采樣數(shù)據(jù)的直接MPPT控制方法,如擾動(dòng)觀察法、電導(dǎo)增量法等,往往容易因陷入局部極值點(diǎn)而失效。光伏陣列實(shí)際工作在不良狀態(tài),功率嚴(yán)重失配,既損失了能量,又容易損壞光伏組件。這種狀態(tài)需要被檢測(cè),甚至應(yīng)盡可能地避免。如何在局部陰影條件下進(jìn)行全局最大功率點(diǎn)跟蹤成為當(dāng)今熱點(diǎn)研究課題。

    1 ?全球?qū)@暾?qǐng)年度分析

    本文從探究專利分布和布局的角度出發(fā),選擇局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤作為主題,通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的檢索方式,使用國(guó)際專利分類號(hào)并結(jié)合關(guān)鍵詞,對(duì)VEN數(shù)據(jù)庫(kù)中的專利申請(qǐng)進(jìn)行了全面的檢索,得到相關(guān)的專利申請(qǐng)量,對(duì)上述數(shù)據(jù)進(jìn)行細(xì)致的篩選分類,并作了深入的研究分析,圖1示出了歷年來(lái)局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤專利申請(qǐng)數(shù)量的年度發(fā)展趨勢(shì),可以大致分為以下兩個(gè)階段。

    1.1 萌芽階段

    2007年之前,關(guān)于光伏最大功率點(diǎn)跟蹤的專利申請(qǐng)數(shù)量較少,全球?qū)@麛?shù)量保持在一個(gè)較低水平,而局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤的專利申請(qǐng)數(shù)量是到2009年之后才出現(xiàn)較大增長(zhǎng)的,同時(shí),2009年以前中國(guó)在局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤領(lǐng)域僅有1件專利申請(qǐng),此后,太陽(yáng)能利用進(jìn)入了一個(gè)發(fā)展期,在此大環(huán)境下,部分學(xué)者,以及能源企業(yè)并關(guān)注到了太陽(yáng)能最大功率點(diǎn)跟蹤技術(shù)的研究;另外,局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤作為光伏最大功率點(diǎn)跟蹤的一個(gè)分支,從技術(shù)發(fā)展的流程來(lái)看,其發(fā)展應(yīng)該是稍微滯后于光伏最大功率點(diǎn)跟蹤的,但是整體的發(fā)展趨勢(shì)還是與光伏最大功率點(diǎn)跟蹤的趨勢(shì)相吻合的。

    1.2 快速增長(zhǎng)階段

    2009年之后,不管是光伏最大功率點(diǎn)跟蹤還是局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤均呈現(xiàn)出了一個(gè)快速增長(zhǎng)趨勢(shì),且中國(guó)2010—2014年期間,中國(guó)幾乎霸占了局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤方面的專利申請(qǐng),同時(shí)隨著美國(guó)和歐洲相繼宣布“百萬(wàn)屋頂光伏計(jì)劃”,國(guó)外的光伏產(chǎn)業(yè)也達(dá)到了一個(gè)高潮期,從而也導(dǎo)致了全球?qū)@暾?qǐng)量的整體上升。

    2 ?專利申請(qǐng)國(guó)分析

    圖2示出了各國(guó)關(guān)于局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤的專利申請(qǐng)量占比,從圖中可以看出,不管是光伏最大功率點(diǎn)跟蹤還是局部陰影條件下的光伏最大功率點(diǎn)跟蹤,中國(guó)申請(qǐng)人的專利申請(qǐng)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其他國(guó)家,達(dá)到了41%;且申請(qǐng)量排在前幾位的均為中國(guó)、日本、美國(guó)和韓國(guó),雖然日本、美國(guó)和韓國(guó)在兩個(gè)圖中的排名有區(qū)別,但所占比例都相差不大。

    3 ?國(guó)內(nèi)申請(qǐng)人類型和授權(quán)率統(tǒng)計(jì)分析

    國(guó)內(nèi)申請(qǐng)人的類型一般分為個(gè)人、科研院校和企業(yè)3種類型,筆者研究了這3種類型專利申請(qǐng)主體的申請(qǐng)情況。根據(jù)筆者的分析,在局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤這一領(lǐng)域,國(guó)內(nèi)的申請(qǐng)人一共申請(qǐng)了167件,其中企業(yè)申請(qǐng)了81件,占48%,科研院校申請(qǐng)了78件,占47%,個(gè)人申請(qǐng)了8件,占5%。由該圖可以看出,企業(yè)申請(qǐng)和科研院校申請(qǐng)為該領(lǐng)域?qū)@暾?qǐng)的主體,且差距不大,個(gè)人申請(qǐng)相對(duì)較少,說(shuō)明該領(lǐng)域非職務(wù)發(fā)明相對(duì)較少,該行業(yè)的進(jìn)入門檻比較高。

    授權(quán)率是反映發(fā)明專利申請(qǐng)質(zhì)量的重要指標(biāo),筆者還對(duì)各個(gè)類型的申請(qǐng)人的授權(quán)率進(jìn)行了統(tǒng)計(jì)分析,由于科研力量,申請(qǐng)動(dòng)機(jī)等諸多因素的不同,不同類型申請(qǐng)人的申請(qǐng)質(zhì)量也是不同的,在國(guó)內(nèi)申請(qǐng)的167件專利申請(qǐng)中包括有145件發(fā)明專利申請(qǐng),其中企業(yè)的發(fā)明專利申請(qǐng)數(shù)量為67,授權(quán)數(shù)量為20,授權(quán)率為29.85%,科研院校的發(fā)明專利申請(qǐng)數(shù)量為71,授權(quán)數(shù)量為41,授權(quán)率為57.75%,個(gè)人的發(fā)明專利申請(qǐng)數(shù)量為7,授權(quán)數(shù)量為0,授權(quán)率為0%,可見(jiàn),雖然企業(yè)與科研院校的申請(qǐng)數(shù)量差不多,然而科研院校的授權(quán)率卻明顯高于企業(yè)的授權(quán)率,如此說(shuō)明局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤是科研院校的研究熱點(diǎn)。

    4 ?結(jié)語(yǔ)

    從上面對(duì)專利申請(qǐng)的統(tǒng)計(jì)分析可以看出,國(guó)內(nèi)局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤專利技術(shù)存在如下特點(diǎn):首先,整個(gè)光伏最大功率點(diǎn)跟蹤進(jìn)入大發(fā)展時(shí)期,申請(qǐng)量逐年上升,尤其是近年來(lái)形成井噴之勢(shì),而國(guó)外較早地開(kāi)始了在中國(guó)的發(fā)明專利布局,受惠于國(guó)家相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策的大力扶持,國(guó)內(nèi)的申請(qǐng)量在2010至2014年期間取得了較大發(fā)展,不足的是,我國(guó)申請(qǐng)人在早期發(fā)明專利數(shù)量上與外國(guó)公司相比還是相差很多,這些早期專利可能構(gòu)成了我國(guó)企業(yè)發(fā)展中的專利壁壘。

    其次,通過(guò)筆者對(duì)國(guó)內(nèi)申請(qǐng)人的統(tǒng)計(jì)分析發(fā)現(xiàn),目前國(guó)內(nèi)公司在局部陰影條件下光伏最大功率點(diǎn)跟蹤領(lǐng)域并沒(méi)有形成一定的專利布局,而在擁護(hù)知識(shí)產(chǎn)權(quán)的時(shí)代,公司應(yīng)該更加重視專利申請(qǐng)的整體布局,在自己具有優(yōu)勢(shì)的子領(lǐng)域集中研發(fā)力量,進(jìn)行專利技術(shù)深耕,如此才能夠更快地推進(jìn)整個(gè)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展。

    參考文獻(xiàn)

    [1] 國(guó)家發(fā)改委.可再生能源中長(zhǎng)期發(fā)展規(guī)劃[N].2007-09-04.

    [2] 聶曉華.局部陰影條件下光伏陣列全局最大功率點(diǎn)跟蹤控制方法綜述[J].電網(wǎng)技術(shù),2014(38):3279-3285.

    [3] 馬圓.硅基太陽(yáng)能電池專利技術(shù)現(xiàn)狀及其發(fā)展趨勢(shì)綜述[J].金屬功能材料,2012,19(4):39-45.

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