郗 佳,雷亞萍,陳衛(wèi)星,李永飛
(西安工業(yè)大學(xué) 材料與化工學(xué)院,西安 710021)
聚乳酸(PLA)具有良好的生物可降解性,埋在土壤中6~12個(gè)月即可發(fā)生降解,是一種非常環(huán)??沙掷m(xù)發(fā)展的原材料[1]。但是,PLA又是疏水材料,其機(jī)械性能差,降解慢且降解會(huì)產(chǎn)生乳酸酸性物質(zhì)等缺點(diǎn)限制了其應(yīng)用[2-3]。三亞甲基碳酸酯(TMC)是一種柔性且生物相容性良好的材料[4]。將三亞甲基碳酸酯聚合物與聚乳酸共聚或共混,其中既含有剛性鏈段聚乳酸又有軟性鏈段三亞甲基碳酸酯,可以提高聚乳酸的力學(xué)性能,改善其降解性能,可廣泛地應(yīng)用于生物支架[5]、組織工程[6]和骨折固定材料等生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域。
近年來,TMC與丙交酯(LA)的共聚物在生物醫(yī)用領(lǐng)域受到廣泛關(guān)注,學(xué)者們通過調(diào)節(jié)共聚物的單體比例制備出了適應(yīng)于不同醫(yī)用材料的聚乳酸-聚碳酸脂類共聚物,發(fā)現(xiàn)其中有些共聚物擁有形狀記憶特性[7]。材料的形狀記憶特性為醫(yī)藥領(lǐng)域中縫合手術(shù)、骨關(guān)節(jié)和生物組織等實(shí)際應(yīng)用提供了極大的便利,擁有良好的發(fā)展前景。形狀記憶聚合物(Shape Memory Polymer,SMP)是一種當(dāng)聚合物受到溫度、電、光和外力作用刺激時(shí),內(nèi)部分子鏈之間由于作用力而導(dǎo)致外部宏觀狀態(tài)發(fā)生改變,且能恢復(fù)到加工前的形狀的一種智能材料[8-9]。其中溫度響應(yīng)型形狀記憶聚合物研究最多,此類聚合物通常由雙組分體系組成:由化學(xué)或物理交叉鏈接組成的永久域和與合適的轉(zhuǎn)變溫度(Ttrans)相關(guān)的交換域[10-11]。在Ttrans以上對(duì)樣品施以外力使其發(fā)生形變,冷卻到Ttrans以下臨時(shí)形態(tài)得以固定,再次加熱超過Ttrans時(shí)形狀恢復(fù)到原始狀態(tài),此形變被認(rèn)為是由于聚合物鏈的熵松弛引起。因而所有高分子量的PLA,包括左旋聚乳酸(PLLA)、右旋聚乳酸(PDLA)、消旋聚乳酸(PDLLA)以及聚乳酸的立構(gòu)復(fù)合物理論上均應(yīng)具有形狀記憶能力。實(shí)際上,PLA中并未形成完整的固定域與交換域,因而形狀記憶的固定率及回復(fù)率不高,且局限性較大[12]。
三亞甲基碳酸酯,L-丙交酯,D,L-丙交酯(> 99.5%,真空儲(chǔ)存);硅溶膠Ludox HS-30(平均直徑為18 nm);市售的擠出級(jí)PLA(Nature Works 4032D);辛酸亞錫(95%);丁二醇、2-甲基咪唑、3-溴丙酸、N,N-二環(huán)己基碳二亞胺、4-二甲基氨基吡啶、N,N-二甲基甲酰胺(純度均為99%);1-3-丙烷磺內(nèi)酯(98%);3-氨基并基三乙氧基硅烷(97%);36MM透析袋(MW14000,Aldrich)。
1.2.1 兩性離子的制備
兩性離子的制備方法如圖1所示[17]。在氮?dú)夥諊?,?.22 g的1,3-丙磺酸內(nèi)酯加到10 mL的丙酮中,再加入1.79 g的3-氨丙基三甲氧基硅烷。在氮?dú)猸h(huán)境下劇烈攪拌8 h,真空抽濾,并用丙酮洗滌2次。60 ℃真空干燥,得到3-(3-三甲氧基硅基-1-氨基)丙烷-1-磺酸鹽(簡(jiǎn)稱SB)產(chǎn)物。
圖1 兩性離子SB的合成
1.2.2 磺化硅溶膠
根據(jù)每nm2表面4.9個(gè)硅烷醇計(jì)算出SB單體的量。將SB溶于最小量的水中,70℃下劇烈攪拌,將SB逐滴加入到10%的硅溶膠中,繼續(xù)攪拌2 h,放入14 k的透析膜中,超純水透析3 d,除去未反應(yīng)單體。得到產(chǎn)物SB-SiO2,如圖2所示[18-19]。
圖2 兩性離子改性二氧化硅的結(jié)構(gòu)示意圖
1.2.3 2-甲基-3-丙酸咪唑鎓的制備
將3-溴丙酸和2-甲基咪唑按照摩爾比1.1∶1
溶解于三氯甲烷中,在60 ℃攪拌回流24 h,制得粗產(chǎn)物,再將粗產(chǎn)物加入到乙醚中,液體呈上下分層,上層為無色透明液體,下層為淡黃色油狀液體,萃取,回收黃色油狀液體,過濾并真空干燥48 h至恒重[20]。
1.2.4 共聚物PLT的制備
丙交酯與三亞甲基碳酸酯的共聚反應(yīng)如圖3所示。將丙交酯單體(L-LA或D,L-LA)與三亞甲基碳酸酯(TMC)分別按照摩爾比85∶15,75∶25和65∶35的比例加入到反應(yīng)管中,加入0.2%辛酸亞錫和1%丁二醇,將試管重復(fù)抽真空充氮?dú)?,真空封管,?60 ℃反應(yīng)4 h,停止反應(yīng)。得到的聚合產(chǎn)物用二氯甲烷溶解,甲醇沉淀,過濾并真空干燥24 h。等摩爾比的共聚物PLLA-PTMC和PDLLA-PTMC共混得到的產(chǎn)物簡(jiǎn)稱為PLT。
1.2.5 共聚物的端基改性
取一定量的PLT放于燒杯中,用二氯甲烷溶解,按照摩爾比1∶10∶10∶1的比例依次加入2-甲基-3-丙酸咪唑鎓,N,N-二環(huán)己基碳二亞胺(DCC),4-二甲氨基-吡啶(DMAP),室溫?cái)嚢?4 h,產(chǎn)物用二氯甲烷溶解,過濾,甲醇沉淀,真空干燥48 h,得到端基改性的共聚物(im-PLT)[13]。
圖3 共聚物PLT的合成
1.2.6 PLA/PLT/SiO2復(fù)合材料的制備
將端基改性的共聚物im-PLT溶解在N,N-二甲基甲酰胺(DMF)中,在70 ℃下攪拌1 h。用N,N-二甲基甲酰胺稀釋質(zhì)量為10%的磺化二氧化硅納米粒子溶液,并將磺化二氧化硅加入到聚合物溶液中。在70 ℃下再攪拌3 h,80 ℃溶液澆鑄,180 ℃熱壓成型[13],得到PLA/PLT/SiO2復(fù)合材料。
采用傅里葉紅外光譜(Fourier Transform Infrared Spectroscopy,F(xiàn)TIR)(型號(hào):Thermo-Nicolet-Nexus)對(duì)材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征,掃描范圍為4 000~400 cm-1;利用掃描電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope,SEM)(型號(hào):Quanta 400F)觀察了材料的微觀形貌;采用差示掃描量熱法(Differential Scanning Calorimeter,DSC)(型號(hào)DSC823e)對(duì)材料的熱性能進(jìn)行表征,測(cè)試條件為:在30 mL·min-1的N2保護(hù)下,掃描范圍為-30~200 ℃;利用熱重分析(Thermo Gravimetric Analysis,TGA)(型號(hào):TGA/DSC1)對(duì)材料的熱穩(wěn)定性進(jìn)行表征,測(cè)試條件為:在Ar2氛圍下,以20 ℃·min-1的升溫速率從室溫升至600 ℃;采用X射線衍射儀(X-Ray Diffraction,XRD)(型號(hào):日本島津XRD-6000)對(duì)材料的結(jié)晶性能進(jìn)行表征,掃描范圍為5°~35°,掃描步長(zhǎng)為4(°)·min-1;采用動(dòng)態(tài)機(jī)械分析 (Dynamic Hermomechanical Analysis,DMA)(型號(hào):DMA800)對(duì)材料的動(dòng)態(tài)熱力學(xué)性能進(jìn)行分析,測(cè)試方法為:將預(yù)先熱壓處理的復(fù)合材裁剪為30 mm×6 mm×0.2 mm的長(zhǎng)條狀,在范圍為30~140 ℃的條件下進(jìn)行動(dòng)態(tài)拉伸測(cè)試,升溫速度為10 ℃·min-1,拉伸振動(dòng)頻率為1 Hz。
1.4.1 形變溫度的測(cè)定
溫度是衡量材料能否發(fā)生形變的主要參數(shù)。測(cè)試范圍為40~60 ℃,每隔4 ℃分別在不同溫度下,測(cè)定復(fù)合材料的形變回復(fù)時(shí)間t′的長(zhǎng)短,將形變回復(fù)時(shí)間最短的溫度作為復(fù)合材料的最佳形變溫度。
1.4.2 形狀固定率與回復(fù)率測(cè)定
將樣品加工成40 mm×6 mm×0.2 mm的樣條,并從中標(biāo)注出15 mm的有效距離,記為L(zhǎng)0;將材料加熱到由形變溫度測(cè)定的最佳溫度,并在外力作用下將有效距離拉伸為原長(zhǎng)的130%和150%,冷卻至室溫,將拉伸后的有效距離記為L(zhǎng)1;5 min后去掉外力室溫放置24 h,再次測(cè)量有效距離記為L(zhǎng)2;將樣品重新加熱到最佳回復(fù)溫度保持5 min,記為L(zhǎng)3,其形變固定率和形變回復(fù)率[21]計(jì)算表達(dá)式為:
利用紅外光譜對(duì)復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。圖4為未改性的二氧化硅、3-(3-三甲氧基硅基-1-氨基)丙烷-1-磺酸鹽(SB)以及帶有磺酸基兩性離子(SB-SiO2)改性的硅溶膠的紅外光譜對(duì)比圖。在未改性的硅溶膠FTIR中,在1 108 cm-1處的寬峰為Si-O的反對(duì)稱伸縮振動(dòng)吸收峰,在800 cm-1處為Si-O的對(duì)稱伸縮振動(dòng)特征吸收峰。在SB兩性離子的FIIR 曲線中,在3 457cm-1處為N-H的伸縮振動(dòng),在1 227~1 045 cm-1處的寬峰為Si-O的伸縮振動(dòng)、C-C骨架振動(dòng)及C-N的伸縮振動(dòng)共同特征吸收峰,920 cm-1處為磺酸根的特征峰。在改性硅溶膠的FTIR曲線中,在3 457 cm-1處為SB兩性離子中N-H的伸縮振動(dòng),在1 227~1 045 cm-1處比未改性峰型更寬,這是由于兩性離子的加入導(dǎo)致;同樣在920 cm-1與800 cm-1處出現(xiàn)了磺酸根與Si-O的特征峰。
圖4 改性硅溶膠的FITR圖
圖5為單體比為75∶25的共聚物PLLA-PTMC7525和PDLLA-PTMC7525的傅里葉紅外光譜圖,由圖5可知,兩個(gè)曲線的峰位一致,在1 752 cm-1處均有較強(qiáng)的吸收峰,這是由左旋乳酸(LLA)、消旋乳酸(DLLA)和TMC鏈段上的C=O的伸縮振動(dòng)造成; 1 394 cm-1處是PLLA的吸收峰為-CH3鍵的伸縮振動(dòng);1 257 cm-1處的峰為PTMC的O-C-O鍵的伸縮振動(dòng);1 190 cm-1和1 099 cm-1處分別為C-O-C的反對(duì)稱伸縮振動(dòng)和對(duì)稱伸縮振動(dòng)峰;在3 131 cm-1出現(xiàn)了較寬的峰,這是由PTMC上的-CH2鍵的伸縮振動(dòng)導(dǎo)致;2 997 cm-1處為L(zhǎng)LA/DLLA上的-CH的伸縮振動(dòng);在3 457 cm-1處出現(xiàn)的峰為聚合物鏈末端的-OH的伸縮振動(dòng)。
圖6為不同單體比共聚物PLT的復(fù)合材料(PLA/PLT/SiO2)的FTIR圖。由圖6可知,除去上述與共聚物一致的吸收峰,在749 cm-1處為硅溶膠的Si-O產(chǎn)生的彎曲振動(dòng),950 cm-1為改性硅溶膠上的磺酸基團(tuán)的特征吸收峰,證明復(fù)合材料中改性硅溶膠的存在。在3 457 cm-1處的吸收峰變寬是由于O-H,N-H的伸縮振動(dòng)吸收峰重疊導(dǎo)致,證明改性共聚物中咪唑端基的存在。
圖5 PLT共聚物的FITR圖
圖6 PLA/PLT/SiO2的FITR圖
圖7為復(fù)合材料(PLA/PLT7525/SiO2)樣條的SEM圖,由圖7可觀察到通過離子相互作用和離子網(wǎng)絡(luò)而形成的復(fù)合材料的整體形貌。由于PLT與PLA的混融,聚合物基體趨于一致,納米二氧化硅均勻分布在聚合物基體中。結(jié)合FTIR圖譜分析,二氧化硅的均勻分布使磺酸鹽與咪唑基團(tuán)之間的離子相互作用發(fā)揮到最大,穩(wěn)定了材料結(jié)構(gòu),提高了復(fù)合材料的形狀記憶性能。
圖7 PLA/PLT/SiO2的SEM圖
圖8為復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2和PLT的DSC曲線對(duì)比圖,圖9為不同PLT配比的PLA/PLT/SiO2的DSC曲線圖。
圖8 PLA/PLT/SiO2和PLT的DSC對(duì)比曲線
圖9 PLA/PLT/SiO2的DSC曲線
由圖8可看出,共聚物PDLLA-PTMC和PLLA-PTMC的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度低于室溫25 ℃,加入商業(yè)聚乳酸以及改性硅溶膠后,其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度提高,并出現(xiàn)了冷結(jié)晶峰和熔融峰(圖8),這兩個(gè)峰均為商業(yè)聚乳酸的結(jié)晶峰和熔融峰。由圖9可看出,在113 ℃、100 ℃和96 ℃均出現(xiàn)了冷結(jié)晶峰,且隨著TMC含量的增加而減小,在159 ℃、154 ℃和154 ℃均出現(xiàn)了熔融峰,其熔融溫度也隨著共聚物中TMC含量的減小,但變化不大。
圖10為PLA/PLT7525/SiO2復(fù)合材料與PLLA-PTMC、PDLLA-PTMC單體比為75∶25的TGA對(duì)比圖,由圖10可以看出,它們的分解溫度均在200 ℃以上,其中復(fù)合材料的分解溫度相比共聚物有著明顯的提高,表明SiO2及商業(yè)PLA的加入提高了共聚物的熱穩(wěn)定性,使聚合物材料在室溫下能夠更好地應(yīng)用。
圖10 PLT共聚物與PLA/PLT/SiO2的TGA
圖11 為復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2的XRD圖, PLLA在XRD圖中主要有兩個(gè)明顯衍射峰以及一個(gè)較弱的衍射峰,分別在16.7°,19.1°和22.6°。這與復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2的DSC分析結(jié)果一致,且隨著共聚物PLT中TMC含量的增加,復(fù)合材料的結(jié)晶能力隨之增強(qiáng)。在復(fù)合材料中只顯示PLLA的特征衍射峰是由于共聚物PLT為無規(guī)共聚物無結(jié)晶,其結(jié)晶是由復(fù)合材料中商業(yè)PLA產(chǎn)生。
圖12為PLA/PLT6535/SiO2復(fù)合材料的動(dòng)態(tài)熱機(jī)械分析(Dynamic Thermomechanical Analysis,DMA)曲線,分別描述了儲(chǔ)能模量(E′)與溫度(T)的關(guān)系。由圖12可知,隨著溫度的升高,材料的儲(chǔ)能模量由低溫平臺(tái)向高溫平臺(tái)急劇下降,下降幅度較大,說明此時(shí)材料由玻璃態(tài)轉(zhuǎn)化為高彈態(tài),材料發(fā)生了玻璃化轉(zhuǎn)變,在溫度變化過程中,儲(chǔ)能模量在玻璃化轉(zhuǎn)變過程里發(fā)生急劇變化是材料產(chǎn)生形狀記憶的重要條件。表明材料在低于50 ℃時(shí)擁有較好的剛性,使材料的穩(wěn)定性得以保證。
除了供試產(chǎn)品的管理,體外診斷試劑還涉及臨床試驗(yàn)用樣本的管理。特別值得提醒的是,臨床試驗(yàn)用樣本從選樣開始就要關(guān)注其來源、編號(hào),要有合適的溫度保存,使用后要有合適的留存或銷毀記錄。試驗(yàn)機(jī)構(gòu)往往注意到供試產(chǎn)品的保存記錄,而忽略樣本的保存記錄,殊不知樣本的質(zhì)量同樣對(duì)整個(gè)試驗(yàn)起到至關(guān)重要的作用。
圖11 復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2的XRD
圖12 PLA/PLT/SiO2儲(chǔ)能模量圖
圖13為PLA/PLT6535/SiO2復(fù)合材料的損耗模量(E″)及損耗因子(tanδ)與溫度的關(guān)系圖。損耗模量一般用來表示材料的粘性。
圖13 PLA/PLT/SiO2損耗模量DMA圖
由圖13可以看出,在41 ℃損耗模量最高即粘度最高,損耗因子tanδ=E″/E′,可表示材料的粘彈性,tanδ值越小彈性越大,反之,粘性越大。因此,在53 ℃材料粘性最大,33~53 ℃為材料玻璃化轉(zhuǎn)變區(qū)。
圖14為PLA/PLT/SiO2復(fù)合材料的形變溫度與形變回復(fù)時(shí)間的關(guān)系圖。從圖14可以看出,隨著變形溫度的升高,形狀恢復(fù)時(shí)間逐漸減少,形變溫度在52 ℃時(shí),形變恢復(fù)時(shí)間最短,當(dāng)溫度大于52 ℃時(shí),溫度過高導(dǎo)致聚合物失去形變恢復(fù)能力。
綜合DMA分析得出,形狀記憶聚合物的最佳形變溫度為40~53 ℃,其中PLA/PLT/SiO2復(fù)合材料的最佳形變溫度為52 ℃,與DMA結(jié)論一致。
圖14 不同摩爾比PLT的PLA/PLT/SiO2復(fù)合材料回復(fù)時(shí)間隨溫度的變化
從圖14可以看出,PLA/PLT7525/SiO2在最佳形變溫度時(shí)的形狀恢復(fù)時(shí)間最快,這是由于以SiO2為核心通過離子鍵與PLT共聚物的結(jié)合,離子的可逆性與動(dòng)態(tài)性相當(dāng)于形狀記憶材料中的永久域與交換域,使任何材料均可以有良好的形狀記憶特性,又由于材料中的PLT共聚物在比例為75∶25時(shí)的熱力學(xué)性能最佳,聚合物鏈柔順性好,熵值較高,由熵松弛引起的形變更易發(fā)生,使得PLA/PLT7525/SiO2的形狀記憶性能最為優(yōu)良。
表1與表2分別為拉伸率為130%和150%時(shí)的復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2的形變固定率和形變回復(fù)率。由表1可以看出,在拉伸率為130%時(shí),材料的形狀記憶性能更好,復(fù)合材料的形狀固定率均在95%以上,形變回復(fù)率均大于90%,PLA/PLT7525/SiO2的形變回復(fù)率高達(dá)100%,均表現(xiàn)出良好的形變恢復(fù)能力。由表2可知,在拉伸率為150%時(shí),聚合物的形狀固定率及回復(fù)率均達(dá)到了85%以上,表明復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2具有優(yōu)異的形狀記憶性能。
表1 PLA/ PLT/SiO2拉伸130%的形狀記憶性能
表2 PLA/ PLT/SiO2拉伸150%的形狀記憶性能
利用納米離子共混的方法,使商業(yè)聚乳酸、聚乳酸-聚三亞甲基碳酸酯共聚物及二氧化硅共混得到納米離子復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2,并對(duì)復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)、熱力學(xué)性能、結(jié)晶性能及形狀記憶性能進(jìn)行了研究,得到結(jié)論為:
1) 對(duì)復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2的熱力學(xué)性能研究發(fā)現(xiàn),復(fù)合材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度比共聚物高且高于人體溫度,復(fù)合材料的結(jié)晶性能也優(yōu)于共聚材料,分解溫度均在200℃以上,因此其熱穩(wěn)定性良好,具有良好的熱力學(xué)性能。
2) 對(duì)復(fù)合材料PLA/PLT/SiO2形狀記憶性能的研究發(fā)現(xiàn),最佳形變回復(fù)溫度與DMA結(jié)果相符,均為53 ℃。當(dāng)材料拉伸率為150%時(shí),平均形狀固定率為93.2%,平均形狀恢復(fù)率為91.5%,表現(xiàn)出良好的形狀記憶性能,證明由SB-SiO2與im-PLT的離子鍵結(jié)合形成了離子網(wǎng)絡(luò)交聯(lián)結(jié)構(gòu),有效地改善了材料的形狀記憶性能,有望在生物醫(yī)藥領(lǐng)域得到應(yīng)用。